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公开(公告)号：JP2021165651A
公开(公告)日：2021-10-14
申请号：JP2020068347
申请日：2020-04-06
Applicant: 大塚電子株式会社
Inventor： 若山 育央
Abstract: 【課題】測定対象となる粒子径に応じた適切な測定時間を設定し、無駄な測定時間を省いた粒子径測定方法、粒子径測定装置及び粒子径測定プログラムを提供する。 【解決手段】粒子径測定方法であって、予め設定された複数の測定タイミングを含むテスト測定時間の間試料に光を照射し、試料により散乱された散乱光のテスト測定強度を測定するテスト測定ステップと、テスト測定強度の自己相関と時間との関係を表す自己相関関数を算出する自己相関関数算出ステップと、自己相関関数が所定の閾値を下回るまでの時間と該時間に加算して設定される予備時間に基づいて、予め設定された複数の測定タイミングのうち本測定に用いる一部の測定タイミングを設定する設定ステップと、一部の測定タイミングを含む本測定時間の間、散乱光の本測定強度を測定する本測定ステップと、本測定強度に基づいて試料の粒子径を算出する粒子径算出ステップと、を含む。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2021067611A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：JP2019194654
申请日：2019-10-25
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】測定波長範囲が狭く、測定波長範囲に十分な数の基準輝線を含めることができない場合でも波長校正が可能な新たな手法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定光を発生する光源と回折格子により波長分離された光を受光する、整列配置された複数の受光素子からなる受光器と標準試料の既知の厚み、屈折率および消衰係数に基づいて数学的に算出される、標準試料の反射率または透過率の理論干渉スペクトル取得手段と、測定光を標準試料に照射して生じる反射光または透過光を回折格子を介して受光器で受光することで生成される反射率または透過率の実測干渉スペクトル取得手段と、理論干渉スペクトルと実測干渉スペクトルとの波長の対応付け情報取得手段と、複数の受光素子の波長値を規定する波長校正式を実測干渉スペクトルに適用した結果が理論干渉スペクトルと一致するように対応付け情報を参照して、波長校正式を決定する波長校正手段とを含む。 【選択図】図6
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公开(公告)号：JP2020051854A
公开(公告)日：2020-04-02
申请号：JP2018180546
申请日：2018-09-26
Applicant: 大塚電子株式会社
IPC: G01M11/00
Abstract: 【課題】従来の測定方法において生じる課題を解決する。 【解決手段】測定システムは、互いに対向する位置に形成された入射窓および試料窓を有する積分器と、試料窓から所定距離だけ離れた位置に形成された観測窓を通じて、積分器の照度を測定する受光器と、積分器内の試料窓と観測窓とを結ぶ光学経路上に配置されたバッフルと、受光器から出力される測定値を処理することで光学特性を算出する処理装置とを含む。入射窓は、積分器の外部に配置された第1の光源からの光の積分器内への導入と遮断とを選択可能に構成されている。試料窓は、反射率が既知の拡散反射部材と第2の光源とを選択的に装着可能に構成されている。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：JP2019200185A
公开(公告)日：2019-11-21
申请号：JP2018096422
申请日：2018-05-18
Applicant: 大塚電子株式会社
IPC: G01B11/06
Abstract: 【課題】試料における一方の表面に対して光を照射する光学測定装置において、プローブと試料との間の距離と、試料の膜厚と、を測定する。 【解決手段】本開示の厚み測定装置は、参照面を有する透過光学部材を含み、前記参照面を介して試料に光を照射し、前記参照面からの第1の反射光、前記試料の表面からの第2の反射光、及び前記試料の裏面からの第3の反射光を受光するプローブと、前記第1の反射光と前記第2の反射光により生じる第1の反射干渉光を用いて、前記参照面から前記試料の表面までの第1の距離を算出し、前記第2の反射光と前記第3の反射光により生じる第2の反射干渉光を用いて、前記試料の厚みを算出する演算部と、を含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019200184A
公开(公告)日：2019-11-21
申请号：JP2018096408
申请日：2018-05-18
Applicant: 大塚電子株式会社
IPC: G01B11/06
Abstract: 【課題】一対のプローブ間に配置された基板の厚みを測定する厚み測定装置において、その測定精度の向上を図る。 【解決手段】厚み測定装置は、測定対象の表面までの距離に関する第1の測定信号を出力する第1のプローブ1と、測定対象の裏面までの距離に関する第2の測定信号を出力する第2のプローブ2と、第1のプローブと第2のプローブとの間に配置された測定試料の厚みを算出する演算部6と、を含む。演算部は第1の測定信号に基づき第1の距離を算出し、第2の測定信号に基づき第2の距離を算出し、第1の測定信号に基づき第3の距離を算出し、第2の測定信号に基づき第4の距離を算出し、基準試料152の厚み、第1の距離、及び第2の距離を加算要素とし、第3の距離、及び第4の距離を減算要素として、測定試料の厚みを算出することを特徴とする。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JPD1624211S
公开(公告)日：2019-02-12
申请号：JPD201810660
申请日：2018-05-16
Applicant: 大塚電子株式会社
Designer： 尾鼻 さやか 秋山 薫 佐々木 勇貴 亀川 和義 バンジャマン・ダヴー
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公开(公告)号：JP2018205132A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2017111043
申请日：2017-06-05
Applicant: 大塚電子株式会社
Abstract: 【課題】様々なサンプルの膜厚の面内分布をより高速かつ高精度に測定可能な光学測定装置および光学測定方法を提供する。 【解決手段】光学測定装置は、測定対象に対して所定の波長範囲を有する測定光を直線状に照射する照射光学系と、測定光の照射により測定対象から生じる透過光または反射光である直線状の測定干渉光を受光する測定光学系と、処理装置とを含む。測定光学系は、測定干渉光を当該測定干渉光の長手方向とは直交する方向に波長展開する回折格子と、回折格子により波長展開された測定干渉光を受光して2次元画像を出力する撮像部とを含む。処理装置は、測定光が照射される測定対象の各測定点に対応する2次元画像上の領域に関連付けて、各測定点から測定光学系への入射角に応じた補正要素を算出する第1の算出手段と、2次元画像に含まれる各ピクセル値に対して対応する補正要素を適用した上で、測定対象の光学特性を算出する第2の算出手段とを含む。 【選択図】図12
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