公开(公告)号：JP6031426B2

公开(公告)日：2016-11-24

申请号：JP2013216656

申请日：2013-10-17

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 梅本 正雄 ,  曽根 忠一 ,  相澤 英夫 ,  小菅 隆一

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/34

公开(公告)号：JP5992856B2

公开(公告)日：2016-09-14

申请号：JP2013071773

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 牛丸 誠也 ,  田中 智裕 ,  曽根 忠一

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

公开(公告)号：JP5927223B2

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：JP2014070496

申请日：2014-03-28

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 小榑 直明 ,  辻村 学 ,  磯部 壮一 ,  及川 文利 ,  杉田 謙一 ,  曽根 忠一 ,  南 吉夫

IPC: H01L21/02

公开(公告)号：JP5911792B2

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：JP2012274723

申请日：2012-12-17

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 曽根 忠一 ,  小菅 隆一 ,  田中 智裕

IPC: B24B37/00 ,  B24B37/34

公开(公告)号：JP2015193054A

公开(公告)日：2015-11-05

申请号：JP2014072223

申请日：2014-03-31

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 曽根 忠一 ,  青野 弘 ,  新海 健史 ,  相澤 英夫

IPC: B01D19/00 ,  B24B57/00 ,  B24B7/00 ,  B24B37/34

Abstract: 【課題】複数の研磨ユニットを備えた基板処理装置用の小型化された気液分離器、及び該気液分離器を備える基板処理装置を提供する。 【解決手段】気液分離器300は、筐体を備える。筐体には、基板を研磨する複数の研磨ユニットそれぞれにおいて発生した気液2相流を導入するための第1の導入口312A,312B,第2の導入口316A,316Bが形成される。また、筐体には、筐体内部で気液2相流から分離した液相を排出するための液相排出口314A,314Bが形成される。また、筐体には、筐体内部で気液2相流から分離した気相を排出するための気相排出口318A,318Bが形成される。 【選択図】図4

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于具有多个抛光单元的基板处理装置的小型气液分离器和配备有气液分离器的基板处理装置。解决方案：气液分离器300设置有壳体 。 在壳体中形成第一引入口312A，312B以及在多个用于研磨衬底的各个研磨单元中产生的气液二相流引入的第二导入口316A，316B， 形成用于排出与气液两相流分离的液相的液相排出口314A，314B流入壳体内。 并且形成用于从气液两相流分离的气相排出气相排出口318A，318B流入壳体内。

公开(公告)号：JP2015150648A

公开(公告)日：2015-08-24

申请号：JP2014026578

申请日：2014-02-14

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 曽根 忠一 ,  小菅 隆一 ,  牛丸 誠也 ,  田中 智裕

IPC: B24B49/12 ,  H01L21/304 ,  B24B37/30

Abstract: 【課題】基板を真空吸着する際または基板を加圧する際または気水分離槽に貯まった液体を外部に排出する際に、気水分離槽の液面検知ライン内に水滴が浸入することがない基板保持装置を提供する。 【解決手段】気水分離槽35は、内部に液体を貯留する空間であるチャンバー35CHと、チャンバーの外部に設けられチャンバー内に連通してチャンバー内に貯留された液体の液面を検知する液面検知ラインL4と、液面検知ラインL4内の液面を検知してチャンバーが満水であることを検知するセンサSとを備え、圧力室6と真空源31とを接続する真空吸着ラインL1および圧力室6と圧力調整部30とを接続する加圧ラインL1を気水分離槽のチャンバー35CHを経由させるように設け、液面検知ラインL4の上端を、加圧ラインL2の一部であって圧力調整部30とチャンバー35CHとを接続しているラインに接続するようにした。 【選択図】図8

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种基板保持装置，其在真空吸附基板时，防止水滴侵入空气 - 水分离罐的液位检测线，加压基板，或者排出积存在基板中的液体 空气 - 水分离罐到外部。解决方案：空气 - 水分离罐35包括作为内部液体的空间的室35CH，布置在室外的液位检测线L4，并检测液体 通过与室的内部连通而积聚在室中的液体;以及传感器S，其通过检测液面检测线L4中的液面来检测室的完整状态。 用于连接压力室6和真空源31的真空吸入管线L1和用于连接压力室6和压力调节部分30的加压管线L2布置成穿过空气 - 水分离罐的室35CH 。 液面检测线L4的上端与作为加压线L2的一部分的管线连接，连接压力调节部30和室35CH。

公开(公告)号：JP2015062956A

公开(公告)日：2015-04-09

申请号：JP2013185884

申请日：2013-09-09

Applicant: 株式会社荏原製作所

Inventor： 梅本 正雄 ,  曽根 忠一 ,  相澤 英夫 ,  小菅 隆一

IPC: B24B37/32 ,  H01L21/304 ,  B24B55/06

CPC classification number: B24B37/34 ,  B24B37/30

Abstract: 【課題】トップリング本体の外周部に、上下動自在に設けたリテーナリングの内部に生じる隙間を塞ぐ、伸縮自在な接続シートや、トップリング本体とリテーナリングとの間に生じる隙間を塞ぐシール部材を、洗浄水で効率よく洗浄して、トップリングに付着した研磨液等の汚染によるスクラッチの発生を防止する。 【解決手段】研磨面を有する研磨テーブルと、トップリング本体2に固定されたリテーナリングガイド410と、該リテーナリングガイド410に案内されて、上下動するリテーナリング3のリング部材408との間の隙間を、塞ぐ伸縮自在な接続シート420を有し、基板を保持して研磨面に押圧するトップリングと、接続シート420に向けて洗浄水を水平方向に噴射し、水流を直接当てて該接続シート420を洗浄する接続シート洗浄ノズル500とを有する。 【選択図】図16

Abstract translation: 要解决的问题：为了防止由粘附在顶环上的研磨液等污染而产生刮伤，通过有效地清洁密封部件，从而堵塞在可自由膨胀的连接片，顶环体和 带有洗涤水的保持环，用于堵塞在顶环体的外周面中垂直移动的保持环内部产生的间隙。解决方案：抛光装置包括具有抛光表面的抛光台，固定环导向件410固定 以及由保持环引导件410引导并且阻挡垂直移动的保持环3的环构件408与其自身之间的间隙的可自由膨胀的连接片420，并且包括用于保持基板的顶环 并将其压到抛光表面上，以及连接片清洁喷嘴500，用于通过喷射洗涤水i直接施加水流来清洁连接片420 朝向连接片420的水平方向。