公开(公告)号：JP2010529675A

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：JP2010511138

申请日：2008-06-06

申请人： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

发明人： スホート，ジャン，ベルナルド，プレヘルムス ヴァン ,  モールス，ヨハネス，フベルトゥス，ヨセフィナ

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70908 ,  G03F7/70191 ,  G21K1/10

摘要： 極端紫外放射ビームを供給するように構成された放射システムと、ビーム（２３）内に配置され、放射ビームの少なくとも一部を吸収するように構成されたアブソーバ（２４）とを含む、基板上にパターンを結像するための極端紫外線リソグラフィ装置（２０）である。 アブソーバは、吸収ガスの流れを収容するように構成された容積を有する。 この流れはビームに対して横断方向に向けられる。 アブソーバは、極端紫外放射透過ビーム入射領域及び極端紫外放射透過ビーム出射領域を有する構造を含む。 この装置は更に、ガスを容積内に注入するように構成されたガスインレットアクチュエータアレイ及びガスを容積から排出するように構成されたガスアウトレットアクチュエータアレイを含む。
【選択図】 図２

公开(公告)号：JP4510449B2

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：JP2003529823

申请日：2002-07-29

申请人： イーユーヴィー リミテッド リアビリティ コーポレーション

发明人： アール フォルナチアリ ニール ,  ピー カノウフ マイケル

IPC分类号： G21K1/00 ,  H05G2/00 ,  G03F7/20 ,  G21K5/02 ,  G21K5/08 ,  H05H1/24

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70908 ,  H05G2/005

摘要： A gas curtain device is employed to deflect debris that is generated by an extreme ultraviolet and soft x-ray radiation discharge source such as an electric discharge plasma source. The gas curtain device projects a stream of gas over the path of the radiation to deflect debris particles into a direction that is different from that of the path of the radiation. The gas curtain can be employed to prevent debris accumulation on the optics used in photolithography.

公开(公告)号：JP2010519783A

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：JP2009551988

申请日：2008-02-01

申请人： サイマー インコーポレイテッド

发明人： アレクサンダー アイ アーショフ ,  オリー ヴィー コーディキン ,  ウィリアム エヌ パートロ ,  アレクサンダー エヌ ビカノフ ,  イゴー ヴィー フォーメンコフ ,  ディヴィッド シー ブラント ,  ノルベルト エル ボーヴェリンク

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70983 ,  H05G2/003 ,  H05G2/008

摘要： ＥＵＶ光源チャンバ外での利用に向けて、ターゲット材料から生成され、例えば、リソグラフィスキャナ／ステッパにより集光されて中間領域に誘導されるプラズマからＥＵＶ光を供給する極端紫外線（ＥＵＶ）光源を提供する。 本発明は、ＥＵＶ放射線とプラズマを出るイオンとを生成するプラズマをプラズマ部位で発生させるシステムを含むことができる装置を開示する。 装置はまた、部位から距離ｄだけ隔てられた光学器械、例えば多層ミラー、及びプラズマと光学器械の間に配置された流動ガスを含むことができ、ガスは、イオンが光学器械に到達する前にイオンエネルギを予め選択した値未満に低減するように距離ｄにわたって作動するのに十分なガス圧を確立する。 一実施形態では、ガスは、ハロゲンを含むことができ、特定的な実施形態では、ガスは、５０体積パーセントを超える水素を含むことができる。
【選択図】図１

公开(公告)号：JP2010506424A

公开(公告)日：2010-02-25

申请号：JP2009532313

申请日：2007-09-25

申请人： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ,  カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

发明人： デル ヴェルデン，マルク，フバータス，ローレンツ ヴァン ,  ハーペン，マーテン，マリヌス，ヨハネス，ウィルヘルムス ヴァン ,  ウォルシュリン，バスティアン，テオドア ,  ギーリッセン，クート ,  シデルニコブ，ユリイ，ヴィクトロヴィッチ ,  スール，ワウター，アントン ,  スティーブンズ，ルーカス，ヘンリカス，ヨハネス ,  ステイン，トーマス ,  クスター，ヨハネス，ペトラス，ヘンリカス デ ,  バニエ，バディム，エヴィジェンエビッチ ,  モールス，ヨハネス，フベルトゥス，ヨセフィナ

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916

摘要： 基板のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するリソグラフィ装置を開示する。 かかる装置は、第１の放射ドーズディテクタおよび第２の放射ドーズディテクタであって、各ディテクタが、放射束を受け取り、該放射束を受け取ることにより２次電子を放出する２次電子放出面を含み、第１の放射ドーズディテクタが、放射伝達の方向に見て、第２の放射ドーズディテクタに対して上流に位置する、第１の放射ドーズディテクタおよび第２の放射ドーズディテクタと、各ディテクタに連結され、夫々の電子放出面からの２次電子放出により生じる電流または電圧を検出するメータとを備える。

公开(公告)号：JP2009283970A

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：JP2009176829

申请日：2009-07-29

申请人： Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

发明人： STREEFKERK BOB ,  BASELMANS JOHANNES JACOBUS MAT ,  BRULS RICHARD JOSEPH ,  DIERICHS MARCLE MATHIJS T M ,  DONDERS SJOERD NICOLAAS LAMBER ,  CHRISTIAAN ALEXANDER HOOGENDAM ,  JANSEN HANS ,  LOOPSTRA ERIK ROELOF ,  JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA M ,  MULKENS JOHANNES CATHARINUS HU ,  SENGERS TIMOTHEUS FRANCISCUS ,  RONALD WALTER JIIN SEVERYNS ,  SERGEI SHULEPOV ,  BOOM HERMAN

IPC分类号： H01L21/027 ,  B05D3/12 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70958

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an immersion lithographic projection apparatus.
SOLUTION: The immersion lithographic projection apparatus is disclosed in which immersion liquid is provided between the last element of a projection system and a substrate. The use of both hydrophobic and hydrophilic layers on various elements of the apparatus is provided to help prevent formation of bubbles in the immersion liquid and to help reduce residue on the elements after being in contact with the immersion liquid.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供浸没式光刻投影装置。 公开了浸没式光刻投影装置，其中浸没液体设置在投影系统的最后一个元件和基板之间。 提供了在设备的各种元件上使用疏水层和亲水层两者以帮助防止在浸液中形成气泡并有助于在与浸液接触之后减少元件上的残留物。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4295712B2

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：JP2004328567

申请日：2004-11-12

申请人： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

发明人： ロエロフ ロープシュトラ エリック ,  アレクサンダー ホーゲンダム クリスティアーン ,  ヨハネス ソフィア マリア メルテンス ジェロエン ,  ニコラース ラムベルテュス ドンデルス ショエルト ,  シュレポフ セルゲイ ,  フランシスクス センゲルス ティモテウス ,  ヤンセン ハンス ,  ボーム ヘルマン ,  シュトレーフケルク ボブ ,  マシユス セオドア マリー ディーリヒス マルセル ,  キャサリヌス ヒュベルテュス ムルケンス ヨハネス ,  ヤコブス マテウス バゼルマンス ヨハネス ,  ジョセフ ブリュレス リチャード ,  ヴァルター ジーン セフェリユンス ロナルド

IPC分类号： H01L21/027 ,  B05D3/12 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70958

摘要： An immersion lithographic projection apparatus is disclosed in which liquid is provided between a projection system of the apparatus and a substrate. The use of both liquidphobic and liquidphilic layers on various elements of the apparatus is provided to help prevent formation of bubbles in the liquid and to help reduce residue on the elements after being in contact with the liquid.

摘要翻译： 公开了一种浸没式光刻投影装置，其中液体设置在装置的投影系统和基板之间。 为了防止在液体中形成气泡，有助于减少与液体接触后的元件上的残留物，就可以在设备的各种元件上使用液体和液体两层。

公开(公告)号：JP2009130367A

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：JP2008296764

申请日：2008-11-20

申请人： Nikon Corp ,  株式会社ニコン

发明人： NISHIKAWA HITOSHI

IPC分类号： H01L21/027 ,  G02B17/00 ,  G02B19/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70916 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70841 ,  G03F7/70908

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflective lighting technology that reduces an adhesion amount of particulates such as debris to the reflective surface. SOLUTION: A lighting optical device for illuminating a surface being irradiated with exposure light EL includes a lighting optical system ILS having a curved mirror 24 and a concave surface mirror 25 and forming a position substantially conjugate to the surface being irradiated between the curved mirror 24 and the concave surface mirror 25, and a second aperture board 5 separating a space B with the curved mirror 24 and a space C with the concave surface mirror 25 to different vacuum environments or decompression environments, and having an opening 5a through which the exposure light EL passes, wherein the opening 5a is arranged at a position where the cross section of the exposure light EL is smallest or in the vicinity thereof. The quantity of passing particulates such as debris can be reduced for the subsequent optical system. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种反射照明技术，其将诸如碎屑的微粒的附着量降低到反射表面。 解决方案：用于照射被曝光光EL照射的表面的照明光学装置包括具有弯曲镜24和凹面镜25的照明光学系统ILS，并且形成与被照射在弯曲的表面之间的表面基本共轭的位置 反射镜24和凹面镜25，以及将空间B与曲面镜24以及具有凹面镜25的空间C分隔成不同的真空环境或减压环境的第二孔板5，并且具有开口5a，通过该开口5a， 曝光光EL通过，其中开口5a布置在曝光光EL的横截面最小的位置或其附近。 随后的光学系统可以减少诸如碎屑的通过颗粒的数量。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP3977377B2

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：JP2005060652

申请日：2005-03-04

申请人： キヤノン株式会社

发明人： 秀一 古本 ,  洋光 藤

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70908

公开(公告)号：JP2007158305A

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：JP2006279042

申请日：2006-10-12

申请人： Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

发明人： VAN EMPEL TJARKO ADRIAAN RUDOL ,  VAN DER HAM RONALD ,  ROSET NIEK JACOBUS JOHANNES

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70908

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithography apparatus capable of preventing the thermal fluctuation in an optical path, for stabilizing measurement with an interferometer system. SOLUTION: A gas shower 1 of an optical device adjusts the optical path of at least one interferometer system IF. The gas shower 1 includes a gas distribution chamber 2 comprising a shower exit side that supplies gas to the optical path OP. The gas distribution chamber 2 is so configured as to spray the gas to the optical path OP. The gas distribution chamber 2 includes a substantially sharp tapered tip. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种能够防止光路中的热波动的光刻设备，用于使用干涉仪系统稳定测量。 解决方案：光学装置的气体淋浴器1调节至少一个干涉仪系统IF的光路。 气体淋浴器1包括：气体分配室2，其包括向光路OP供给气体的喷淋出口侧。 气体分配室2被构造成将气体喷射到光路OP。 气体分配室2包括基本上尖锐的锥形尖端。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2006520107A

公开(公告)日：2006-08-31

申请号：JP2006509069

申请日：2004-03-03

申请人： サイマー インコーポレイテッド

发明人： カイル アール ウェブ ,  ジョン ウォーカー ,  ロジャー アイ オリヴァー ,  オリー コーディキン ,  デニス ダブリュー コブ ,  ロドニー エス シモンズ ,  ティモシー エス ダイアー ,  ジョン ダンロップ ,  ウィリアム エヌ パートロ ,  ジェイムズ クリストファー ハイシャム ,  ノーバート バウアリング ,  フレデリック エイ パレンシャット ,  シャオジャン ジェイ パン ,  イゴー ヴィー フォーメンコフ ,  ゲリー エム ブルーメンストック ,  ケント エイ ブルッツォーネ ,  トーマス ホフマン ,  カーティス エル レティッグ

IPC分类号： H01L21/027 ,  G01J20060101 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  H01J1/52 ,  H01S3/00 ,  H01S3/225 ,  H05G2/00 ,  H05H1/06

CPC分类号： H01S3/005 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916 ,  H01S3/225 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05H1/06

摘要： An DPP EUV source is disclosed which may comprise a debris mitigation apparatus employing a metal halogen gas producing a metal halide from debris exiting the plasma. The EUV source may have a debris shield that may comprise a plurality of curvilinear shield members having inner and outer surfaces connected by light passages aligned to a focal point, which shield members may be alternated with open spaces between them and may have surfaces that form a circle in one axis of rotation and an ellipse in another. The electrodes may be supplied with a discharge pulse shaped to produce a modest current during the axial run out phase of the discharge and a peak occurring during the radial compression phase of the discharge. The light source may comprise a turbomolecular pump having an inlet connected to the generation chamber and operable to preferentially pump more of the source gas than the buffer gas from the chamber. The source may comprise a tuned electrically conductive electrode comprising: a differentially doped ceramic material doped in a first region to at least select electrical conductivity and in a second region at least to select thermal conductivity. The first region may be at or near the outer surface of the electrode structure and the ceramic material may be SiC or alumina and the dopant is BN or a metal oxide, including SiO or TiO2. The source may comprise a moveable electrode assembly mount operative to move the electrode assembly mount from a replacement position to an operating position, with the moveable mount on a bellows. The source may have a temperature control mechanism operatively connected to the collector and operative to regulate the temperature of the respective shell members to maintain a temperature related geometry optimizing the glancing angle of incidence reflections from the respective shell members, or a mechanical positioner to position the shell members. The shells may be biased with a voltage. The debris shield may be fabricated using off focus laser radiation. The anode may be cooled with a hollow interior defining two coolant passages or porous metal defining the passages. The debris shield may be formed of pluralities of large, intermediate and small fins attached either to a mounting ring or hub or to each other with interlocking tabs that provide uniform separation and strengthening and do not block any significant amount of light.