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    CVD成膜装置およびCVD成膜方法
    82.
    发明专利
    CVD成膜装置およびCVD成膜方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019175957A

    公开(公告)日：2019-10-10

    申请号：JP2018061047

    申请日：2018-03-28

    Applicant: 住友金属鉱山株式会社

    Inventor： 大上 秀晴

    IPC: C23C16/42 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  H01L21/31 ,  H01L21/205

    Abstract: 【課題】短い時間間隔で成膜品が得られるCVD成膜装置およびCVD成膜方法を提供する。 【解決手段】CVD成膜装置1は基板Sが収容される複数の反応容器10a、10b、10cを備える。複数の反応容器10a、10b、10cにおいて、昇温工程、成膜工程、および冷却工程を含む成膜処理が、時間差を有して並列に実行される。一の反応容器10aにおいて昇温工程が実行されている間に、他の一の反応容器10bにおいて冷却工程が実行され、さらに他の一の反応容器10cにおいて成膜工程が実行される。複数の反応容器10a、10b、10cにおいて成膜処理が時間差を有して並列に実行されるので、短い時間間隔で成膜品が得られる。 【選択図】図1

    キャンロールと真空成膜装置および長尺体の成膜方法
    83.
    发明专利
    キャンロールと真空成膜装置および長尺体の成膜方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019157276A

    公开(公告)日：2019-09-19

    申请号：JP2019080998

    申请日：2019-04-22

    Applicant: 住友金属鉱山株式会社

    Inventor： 大上 秀晴

    IPC: B65H27/00 ,  B65H20/02 ,  C23C14/56

    Abstract: 【課題】使用想定温度を大きく超えた温度条件下において使用された場合でも、耐熱性樹脂フィルム等の皺発生を抑制できるキャンロールと真空成膜装置等を提供する。 【解決手段】内側に冷媒循環路が設けられた円筒部40と、円筒部の開放端側を閉止しかつ中心部に開口が設けられた一対の側板42と、側板の開口に基端側が嵌入されかつ先端側が側板から外方へ突出する一対の筒状回転軸41を備え、真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される樹脂フィルム等を円筒部外周面に巻き付けて冷却するキャンロールにおいて、円筒部の内側に設けられた冷媒循環路に冷媒を導入しかつ排出する中心軸2重配管、および、回転軸冷媒導入管46と回転軸冷媒排出管47とで構成されかつ筒状回転軸の温度を一定に制御する回転軸用の冷却手段が筒状回転軸内に設けられていることを特徴とする。 【選択図】図6

    電極基板フィルム及びその製造方法
    89.
    发明专利
    電極基板フィルム及びその製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017223831A

    公开(公告)日：2017-12-21

    申请号：JP2016118946

    申请日：2016-06-15

    Applicant: 住友金属鉱山株式会社

    Inventor： 大上 秀晴

    IPC: B32B15/08 ,  G02B5/08 ,  G06F3/041 ,  G02B5/26

    Abstract: 【課題】 正反射成分及びその近傍の拡散反射光成分が黒色若しくはこれに近い色で視認される金属電極フィルムを提供する。 【解決手段】 樹脂フィルム基板に金属吸収層及び金属層が成膜された電極基板フィルムであって、成膜面上の部位に対して固定した照射素子11から入射したときの拡散反射光を、一定の角度間隔おきに受光角度が移動する受光素子12で受光したとき、照射素子11の陰と正反射成分とを除いて受光した拡散反射光のL*a*b*表色系におけるb*値が−15から0の範囲にあるか、あるいは成膜面上の部位に対して一定の角度間隔おきに入射光角度が移動する照射素子21から入射したときの拡散反射光を、固定した受光素子22で受光したとき、受光素子22の陰と正反射成分とを除いて該拡散反射光のL*a*b*表色系におけるb*値が−15から0の範囲にある。 【選択図】 図5

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