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公开(公告)号:JP2015520018A
公开(公告)日:2015-07-16
申请号:JP2015506233
申请日:2013-04-17
Applicant: ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングChemetall GmbH , ヒェメタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングChemetall GmbH , エアバス・ディフェンス・アンド・スペース・ゲーエムベーハー , マンキーウィッツ ゲブリューダー ウント コー.ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲーMankiewicz Gebr.& Co.Gmbh & Co.Kg , マンキーウィッツ ゲブリューダー ウント コー.ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲーMankiewicz Gebr.& Co.Gmbh & Co.Kg , ウニベルシダージ デ アベイロUniversidade De Aveiro , ウニベルシダージ デ アベイロUniversidade De Aveiro
Inventor: フェヘイラ、マリオ , ジェルドケビッチ、ミハイル , テディム、ジョアン , ガンドゥベルト、ヴァレリー , シュミット−ハンスベルク、トーマス , ハック、テオ , ニクソン、ゾーニャ , ラプス、ドミニク , ベッカー、ディアーナ , シュレーダー、スヴェン
IPC: B05D7/24 , B05D7/14 , C09D1/02 , C09D5/00 , C09D5/08 , C09D5/44 , C09D7/12 , C09D183/04 , C09D185/00 , C09D201/00
CPC classification number: C25D15/00 , B05D1/02 , B05D1/36 , B05D1/38 , B05D3/00 , B05D3/002 , B05D3/102 , B05D5/00 , B05D7/14 , B05D7/50 , B05D7/51 , B05D7/52 , B05D2202/00 , B05D2202/10 , B05D2202/15 , B05D2202/25 , B05D2350/00 , B05D2350/60 , C09D5/08 , C09D5/082 , C09D5/084 , C09D5/10 , C09D5/103 , C09D5/106 , C09D5/16 , C09D5/1606 , C09D5/1612 , C09D5/1618 , C09D5/44 , C23C22/12 , C23C22/53 , C23C22/60 , C23C22/68 , C23C22/73 , C23C2222/20 , C23F11/00 , C25D9/02
Abstract: 本発明は、有機コーティング前に前処理組成物でコーティングするための組成物で、後続の有機コーティングを意図しない不動態化組成物で、前処理プライマー組成物で、プライマー組成物で、ペイント組成物で、またはエレクトロコーティング組成物で金属表面をコーティングする方法であって、各1つのコーティング組成物もしくはその組成物から生成されるコーティングが、一般式[1]:[M2+(1?0.5)−x(M3+,M4+)x(OH)2?0.75]An−x/n・mH2O[式中、M2+、M3+およびM4+はそれぞれ、ある種の二価、三価、四価カチオンであり、カチオンM3+が存在する必要はないかまたはカチオンM4+が存在する必要はなく、アニオンAおよび/または分子Aとのアセンブリを含む中性もしくは帯電分子Aは、ヒドロキシド、フルオリド、カーボネート、ナイトレート、サルフェート、クロメート、クロマイト、モリブデート、ホスホモリブデート、ホスフェート、ホスホネート、タングステート、バナデート、アゾール、カルボキシレートのアニオン、ドデシルベンゼン、フェノール化合物、アニオン界面活性剤および生体分子からなる群から選択される]を示す少なくとも1つの層状複水酸化物(LDH)相に基づいた粒子を含有し、および/または各1つのコーティング組成物もしくはその組成物から生成されるコーティングが、酸化物、複酸化物、複合酸化物、水酸化物、少なくとも1つのLDH相、さらなるアニオンAおよび分子Aからなる群から選択される物質の混合物を主としてベースとする、少なくとも部分的にか焼されたおよび/または部分的にもしくは全体的にか焼され次に再水和されたLDH粒子を含有する方法に関する。
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公开(公告)号:JP2013505189A
公开(公告)日:2013-02-14
申请号:JP2012529351
申请日:2009-12-11
Applicant: ウニベルシダージ デ アベイロUniversidade De Aveiro , コンセホ スペリオール デ インベスティガシオネス シエンティフィカスConsejo Superior De Investigaciones Cientificas
Inventor: ロウサダ・シルヴェイリーニャ・ヴィラリーニョ・ポーラ・マリア , ウー・アイイン , カルサーダ・マリア・ルルド , ヒメネス・リオブー・リカルド , ブレトス・イグノス
CPC classification number: C23C18/1216 , B82Y30/00 , C23C18/1225 , C23C18/1229 , C23C18/1254 , C23C18/127 , C23C18/1279 , C23C18/1295 , C23C18/14
Abstract: 低温度での強誘電体結晶酸化薄膜、特に、デバイスの集積に適した強誘電体特性を有するPbZr
x Ti
1−x O
3 (PZT) (PZTの場合、400℃未満) の製造の処理技術を本明細書で公開する。 本方法は、また、A及びBを一価、二価、三価、四価及び五価のイオンとした、タングステンブロンズ(A
2 B
2 O
6 )、ペロブスカイト(ABO
3 )、パイロクロア(A
2 B
2 O
7 )及びビスマス層(Bi
4 Ti
3 O
12 )の構造を有する強誘電体薄膜の製造に効果的である。 本方法は、シード二相ゾルゲル(SDSG)前駆体と光化学溶液付着(PCSD)方法の組み合わせを基礎としており、主に以下のステップを含む。 i)UV波長帯に高い感光性を有する、所望の金属酸化合成物の改質された有機金属前駆体溶液を合成するステップ。 ii)ゾルゲル処理により、前駆体のゾルから得られる結晶合成物と類似又は非類似の所望の合成物のナノ粒子を生成するステップ。 iii)前駆体ゾル内の結晶性ナノ粒子の分散により、安定かつ均質のゾルゲル溶液を調整するステップ。 iv)基板上へ前記溶液を付着するステップ。 v)空気中又は酸素中で付着層に対してUV照射を行い、さらに照射された層に対して空気中又は酸素中で400℃未満の熱処理を行う。 本発明は、低温度で、単結晶質、多結晶質、非晶質、金属及びポリマー基板上へ、高濃度かつひび欠けがない厚さ50nm以上800nm以下の、小型電子製品及び光学工業の適用に最適化された特性を有する、多結晶強誘電性、圧電性、焦電気性及び誘電性薄膜の製造方法を提供する。-
公开(公告)号:JP2011518969A
公开(公告)日:2011-06-30
申请号:JP2011505614
申请日:2009-04-24
Applicant: ウニベルシダージ デ アベイロUniversidade De Aveiro
Inventor: フェレイラ・ダ・コスタ,ヴィクトル,アントニオ
Abstract: 【解決手段】本発明は、家庭内システムにおける貯水可能な貯留システムに関連する混合バルブからなる水混合システムに関する。 入口(11)の水が温かくない場合、水は貯留タンク(18)に向けられる。 入口(11)の水が温かい場合、又は貯留タンク(18)が満水である場合、入口(11)を介して流れる水は放出弁ゾーン(13)に向けられる。 水が貯留タンク(18)に存在する間、水は冷水入口(12)、好ましくは水分配システムの冷水入口(17)に向けられることにより、飲料水をためるのを助ける。 本発明は、建設業、より好ましくは家庭用水システムに使用されることができる。
【選択図】 図3
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