剃刀刃
    5.
    发明专利
    剃刀刃 审中-公开
    RAZOR刀片

    公开(公告)号:JP2016193146A

    公开(公告)日:2016-11-17

    申请号:JP2015075398

    申请日:2015-04-01

    Inventor: 足立 純

    Abstract: 【課題】簡易な構成によって剃り心地を向上させることができる。 【解決手段】替刃30は、刃体40と刃体40の側面に固定された支持部34とを備えている。支持部34は、剃毛時に刃体40を挟んで皮膚Sとは反対側に位置するものであり、支持部34の先端は、刃先41と同じ位置または刃先41よりも後退した位置であって、刃先41が毛Hに接するに先立ち該毛Hを押圧する位置に設けられている。 【選択図】図6

    Abstract translation: 要解决的问题:提供能够通过简单的构造改善剃须舒适性的剃刀刀片。解决方案:替换刀片30包括刀片主体40和固定到刀片主体40的侧面的支撑部34.支撑部分 34在剃刮头发时位于与皮肤S相对的一侧跨越刀片体40。 支撑部34的前端位于与切削刃41相同的位置或与切削刃41成一定位置的位置以及位于切削刃41前方的压头H的位置 与头发接触H.SELECTED DRAWING:图6

    刃物
    7.
    发明专利
    刃物 有权

    公开(公告)号:JPWO2011108100A1

    公开(公告)日:2013-06-20

    申请号:JP2012502938

    申请日:2010-03-04

    Abstract: 刀身本体(2)に替刃(3)を着脱可能に装着してなる刃物(1)。刀身本体(2)は、本体ブロック(4)と回動ブロック(5)とからなる。本体ブロック(4)は、替刃(3)を支承する本体支承部と、替刃(3)に係合する本体係合部(42)とを有する。回動ブロック(5)は、本体ブロック(4)に軸支される回動軸部(51)と、替刃(3)の後端部(36)を押さえる押さえ部(52)と、本体ブロック(4)と係合可能な後方係合部(53)とを有する。装着状態(S)において、替刃(3)は、本体係合部(42)に係合されると共に後端部(36)において押さえ部(52)に押さえられることによって、厚み方向(X)に反るように弾性変形している。回動ブロック(5)の後方係合部(53)が本体ブロック(4)に設けた係合保持部(43)に係合することによって、装着状態(S)が維持される。

    Nitriding treatment method
    8.
    发明专利
    Nitriding treatment method 有权
    硝化处理方法

    公开(公告)号:JP2013082976A

    公开(公告)日:2013-05-09

    申请号:JP2011224275

    申请日:2011-10-11

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a nitriding treatment method capable of increasing hardness of a surface and improving durability while maintaining characteristics of toughness or the like that a nitriding treatment target object has.SOLUTION: The nitriding treatment method is used for performing nitriding treatment by irradiating a surface of a nitriding treatment target object 16 with nitrogen plasma and forming a thin diffusion layer of nitrogen atoms on the surface of the nitriding treatment target object 16. For instance, an electron beam is pulled out from argon plasma 21, nitrogen plasma 24 is generated from a nitrogen gas by the electron beam, the nitrogen atoms are diffused from the surface of the nitriding treatment target object 16 to the inside by the nitrogen plasma 24, and the diffusion layer of the nitrogen atoms having a thickness of 10 μm or less is formed. It is preferable that a temperature of the nitriding treatment is 350-600°C, and it is preferable that the time of the nitriding treatment is 1-8 hours. Also, it is preferable that a bias voltage to be applied to the nitriding treatment target object 16 is -50 to -5 V.

    Abstract translation: 待解决的问题:提供能够提高表面硬度并提高耐久性的氮化处理方法,同时保持氮化处理对象物具有的韧性等的特性。 解决方案:氮化处理方法用于通过用氮等离子体照射氮化处理对象物16的表面并在氮化处理对象物16的表面上形成薄的氮原子扩散层来进行氮化处理。对于 例如,从氩等离子体21中拉出电子束,通过电子束从氮气产生氮等离子体24,通过氮等离子体24将氮原子从氮化处理对象物16的表面扩散到内部 形成厚度为10μm以下的氮原子的扩散层。 氮化处理的温度优选为350〜600℃,优选氮化处理时间为1-8小时。 此外,优选施加于氮化处理对象物16的偏置电压为-50〜-5V。版权所有(C)2013,JPO&INPIT

Patent Agency Ranking