公开(公告)号：JP2021507465A

公开(公告)日：2021-02-22

申请号：JP2020533012

申请日：2018-11-14

Applicant: インテグリス・インコーポレーテッド

Inventor： デプレ, ジョセフ アール. ,  スウィーニー, ジョセフ ディー. ,  イェデイブ, シャラド エヌ. ,  タン, イン

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/06 ,  H05H1/24 ,  H01L21/265 ,  H01J37/077

Abstract: ガス供給組立体は、不活性ガスおよびフッ素含有ガスを含むプラズマフラッドガンに対するガスの配送に関して説明され、フッ素含有ガスと不活性ガスの全体積の10%以下の体積のフッ素含有ガスをフラッドガンに配送するように構成されている。フッ素含有ガスは、プラズマフラッドガンにおける材料堆積物から揮発性反応生成物ガスを生成して、プラズマフラッドガンにおけるプラズマ発生フィラメントの再金属化を達成することができる。組立体および方法は、洗浄効果を最適化して、使用中のプラズマフラッドガンからのフィラメント材料損失を低減するために、ガス量と組み合わせてガス流量を使用することができる。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6450809B1

公开(公告)日：2019-01-09

申请号：JP2017126558

申请日：2017-06-28

Applicant: 株式会社ソディック

Inventor： 井上 基弘

IPC: G21K1/00 ,  G21K5/04 ,  H01J37/077 ,  B01J19/12 ,  H01J37/04 ,  H01J37/317

Abstract: 【課題】被照射体に形成されている穴の側面に低エネルギ密度の電子ビームを照射して表面を改質することが困難である。 【解決手段】真空チャンバ1の中に照射穴7Aが形成されている被照射体7が設置される。カソード電極5Eを照射穴7Aの側面に対向配置する。カソード電極5Eは、照射穴7Aの少なくとも側面に対向する基体50Aの面の全面にわたって多数の金属突起50Gを有する。カソード電5Eと照射穴7Aの側面との間に導電性メッシュ5Gを配設する。導電性メッシュ5Gは、被照射体7と部分的に接触して被照射体7と同電位にされる。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6198211B2

公开(公告)日：2017-09-20

申请号：JP2015516677

申请日：2013-05-20

Applicant: ザ ウェルディング インスティテュート

Inventor： リブトン, コリン ,  サンダーソン, アラン

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/077

CPC classification number: H01J37/077 ,  H01J27/18 ,  H01J37/3002 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/0817 ,  H01J2237/083 ,  H01J2237/31 ,  H01J2237/3104

公开(公告)号：JP5847184B2

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：JP2013532983

申请日：2011-10-07

Applicant: ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド

Inventor： ピーター エフ クルンクジ ,  ヴィクター エム バンヴェニスト ,  オリバー ヴィ ナウモヴスキー

IPC: H01J37/317 ,  H01J27/16 ,  H05H1/46 ,  H01L21/265 ,  H01J37/077

CPC classification number: H01J37/3211 ,  H01J37/026 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/32688 ,  H01J2237/03

公开(公告)号：JP5393696B2

公开(公告)日：2014-01-22

申请号：JP2010533112

申请日：2008-11-06

Applicant: アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド

Inventor： ヴァンダーベルク，ボー ,  ディヴェルギリオ，ウィリアム

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/077

CPC classification number: H01J37/026 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0041 ,  H01J2237/06366

公开(公告)号：JP5325623B2

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：JP2009071352

申请日：2009-03-24

Applicant: 株式会社アルバック

Inventor： 徳康 佐々木

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/077

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron source which has the function of plasma generation, which is not deteriorated, and includes a simple structure. SOLUTION: An inner structure material 4 disposed between an inner wall 9 and a collector electrode 3 in a plasma generation chamber 1 can prevent deposition of a conductive material on the inner wall 9 in the plasma formation chamber 1. Accordingly, a high-frequency electric field from a high-frequency antenna 2 is not shielded, and therefore initial plasma of a capacity coupling type can be generated by the high-frequency electric field. Even when the conductive material is deposited on the inner structure material 4 to shield the high-frequency electric field, the deposit is deposited on a side closer to the collector electrode 3 in the inner structure material 4, and therefore the high-frequency electric field from the inner structure material 4 into the plasma generation chamber 1 is shielded, but the high-frequency electric field from the inner wall 9 to the inner structure material 4 is shielded. Because a distance d is set between the inner structure material 4 and the inner wall 9, the initial plasma of the capacity coupling type can be generated in a region between the inner structure material 4 and the inner wall 9 by the high-frequency electric field. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

公开(公告)号：JP5242055B2

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：JP2006538427

申请日：2004-10-29

Applicant: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated

Inventor： アレキサンダー， ティー． デモ， ,  ハリー， ケー ポネカンティ， ,  ジュン ザオ， ,  ヘレン， アール． アルマー，

IPC: H01L21/316 ,  H01J37/077 ,  H01J37/32 ,  H01L21/205 ,  H05H1/24

CPC classification number: H01J37/317 ,  H01J3/025 ,  H01J37/077

公开(公告)号：JP2013115047A

公开(公告)日：2013-06-10

申请号：JP2012256983

申请日：2012-11-24

Applicant: Fei Co ,  エフ・イ−・アイ・カンパニー

Inventor： BRIAN ROBERTS ROUTH JR

IPC: H01J37/252 ,  H01J27/16 ,  H01J37/077 ,  H01J37/08 ,  H01J37/244 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/285 ,  G01T1/28 ,  H01J27/16 ,  H01J37/05 ,  H01J37/077 ,  H01J37/08 ,  H01J37/10 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/265 ,  H01J37/30 ,  H01J37/304 ,  H01J37/305 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/0817 ,  H01J2237/24415 ,  H01J2237/2445 ,  H01J2237/24475 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/31749

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a single-column inductive coupling plasma source that operates in an ion mode for FIB operation or electron mode for SEM operation, and configured to allow a user to make a selection.SOLUTION: Energy dispersion type X-ray spectral analysis can be performed when an X-ray detector is mounted. The user selectively configures ICP so as to prepare a sample in the ion mode or FIB mode and actually moves a switch for selecting the electron mode or SEM mode, and can analyze the sample by using analysis of EDS or other types.

Abstract translation: 要解决的问题：提供以离子模式操作用于FIB操作或用于SEM操作的电子模式的单列电感耦合等离子体源，并且被配置为允许用户进行选择。 解决方案：可以在安装X射线检测器时进行能量分散型X射线光谱分析。 用户选择性地配置ICP，以便以离子模式或FIB模式准备样品，并实际移动用于选择电子模式或SEM模式的开关，并且可以通过使用EDS或其他类型的分析来分析样品。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012069509A

公开(公告)日：2012-04-05

申请号：JP2011155365

申请日：2011-07-14

Applicant: Nissin Ion Equipment Co Ltd ,  日新イオン機器株式会社

Inventor： FUJITA HIDEKI ,  IAI TETSUYA

IPC: H01J37/077 ,  H01J27/16 ,  H01J37/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H05H1/46 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32541 ,  H05H2001/4667

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high-frequency discharge type plasma generating device which achieves a smaller amount of reduction in PFG current and a longer life.SOLUTION: A plasma generating device has: a plasma generating chamber in which gas is ionized by high frequency discharge to generate plasma; an electron emission hole through which electrons coming from the plasma are emitted to the outside; an antenna provided in the plasma generating chamber for radiating high frequency waves; and an antenna cover composed of an insulator and covering the whole antenna. In the plasma generating device, a plasma electrode having the electron emission hole formed therein is made of a conductive material. The plasma generating device further has a frame cover having protruding portions different in thickness in the region of a cylinder-shape frame with the electrical continuity ensured, inside or both inside and outside the frame. The protruding portions prevent the deposition of the insulator on the surface of the plasma electrode on the side facing the plasma owing to the sputtering by plasma.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种高频放电型等离子体产生装置，其能够实现更少量的PFG电流的降低和更长的寿命。 解决方案：等离子体产生装置具有：等离子体产生室，其中气体通过高频放电电离以产生等离子体; 来自等离子体的电子通过其发射到外部的电子发射孔; 设置在等离子体发生室中的用于辐射高频波的天线; 以及由绝缘体构成并覆盖整个天线的天线罩。 在等离子体产生装置中，其中形成有电子发射孔的等离子体电极由导电材料制成。 等离子体发生装置还具有框架盖，该框架盖在圆柱形框架的区域中具有不同厚度的突出部分，其中，在框架的内部或外部都保证了电气连续性。 由于等离子体的溅射，突出部分防止绝缘体在等离子体电极的面对等离子体的表面上的沉积。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011511999A

公开(公告)日：2011-04-14

申请号：JP2010541820

申请日：2009-01-08

Applicant: エクシコ・グループExcico Group

Inventor： マカロフ・マクシム

IPC: H01J37/077 ,  H01S3/097

CPC classification number: H01J3/021 ,  H01J33/00 ,  H01S3/0959 ,  H01S3/09707

Abstract: 本発明は、イオン化チャンバ（４）と、一次イオンを抽出および加速させるとともに二次電子のビームを形成するための電極（３）を伴う加速チャンバ（２）とを備えるパルス電子（１）に関し、前記ポンプ電子イオン（１）は、加速チャンバ（２）外部の一次プラズマ（１７）を推進するための正電圧と、一次イオンを抽出および加速させるとともに二次電子のビームを形成するための負電圧パルスと、を前記電極（３）に加えるために適合される電源（１１）を備える。
【選択図】図１