水素ガス生成装置
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021193212A

    公开(公告)日:2021-12-23

    申请号:JP2021135861

    申请日:2021-08-23

    Abstract: 【課題】水分に対して脆弱な水素ガス濃度検出センサを用いることなく、生成された水素ガスの濃度を正確に提示することができる水素ガス生成装置を提供する。 【解決手段】筐体20、第1室21、第2室22、隔膜25及び一対の電極板23,24を含む電解槽2と、被電解水Wを貯留するタンク6と、前記一対の電極板に直流電圧を印加する電源3と、陰極となる電極板が設けられた前記第1室又は前記第2室に、生成した水素ガスを希釈する希釈ガスを導入する希釈器4と、前記陰極となる電極板に付与される電気量を検出する電気量検出器51と、前記希釈器による希釈ガスの流量を検出する流量検出器52と、前記電気量検出器により検出された電気量及び前記流量検出器により検出された流量から、前記希釈された水素ガスの濃度および/または単位時間当たりの水素発生量を演算する演算器5と、前記演算器により演算された水素ガスの濃度および/または単位時間当たりの水素発生量を提示する提示器54−1および54−2と、を備える。 【選択図】図1

    脳卒中後の後遺症改善のための組成物

    公开(公告)号:JP2020176070A

    公开(公告)日:2020-10-29

    申请号:JP2019077629

    申请日:2019-04-16

    Abstract: 【課題】ヒトにおいて脳卒中後の後遺症を改善するための物質を提供する。 【解決手段】分子状水素を有効成分として含む、ヒトにおいて脳卒中後の後遺症を改善するための組成物、並びに、この組成物を脳卒中後の後遺症を有するヒトに投与することを含む、ヒトにおいて脳卒中後の後遺症を改善する方法。 【選択図】図1A

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