光照射装置
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2016197140A

    公开(公告)日:2016-11-24

    申请号:JP2015075982

    申请日:2015-04-02

    摘要: 【課題】効率良く光照射を行うことができる小型の光照射装置を提供する。 【解決手段】光照射装置は、予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射装置であって、照射領域をワークが通過する通過方向に延び、ワークの下に気体を吹き出してワークを浮上させる浮上台31と、浮上台31を通過方向と交わる方向に挟んだ両脇に一対で設けられ、一対の各々が、ワークを保持して通過方向へと移動する機能を有し、一対の一方がワークを保持して移動する際に、一対の他方がワークとすれ違って移動する保持移動機32、33と、を備える。 【選択図】図1

    摘要翻译: 要解决的问题:提供一种能够有效地进行光照射的小型光照射装置。解决方案:本发明的照射装置是通过预先设定的照射区域的工件对光进行照射的光照射装置,包括: 工件31在工件通过照射区域的通过方向上延伸并在工件下方吹入气体以浮动工件; 以及夹持移动体32,33,其在与通过方向相交的方向上的两侧成对设置,以保持浮置台31,其中每对具有沿着通过方向移动的功能,同时保持工件,并且 当其中一对在夹持工件时移动,另一对在通过工件的侧面时移动。选择图:图1

    真空紫外光偏光素子、真空紫外光偏光装置、真空紫外光偏光方法及び配向方法

    公开(公告)号:JP2019215434A

    公开(公告)日:2019-12-19

    申请号:JP2018112342

    申请日:2018-06-12

    IPC分类号: G02F1/1337 G02B5/30

    摘要: 【課題】 光配向等の処理に使用できる真空紫外光偏光素子のより適切な構成を提示するとともに、真空紫外光による光配向の適切な技術構成を提供する。 【解決手段】 真空紫外光に対して透明な基板上1に設けられたグリッド2は、平行に延びる多数の線状部3より成る。各線状部3は酸化ハフニウムで形成され、各線状部3の間は空間であって充填物が設けられていない。真空紫外光偏光素子6が配置された空間は雰囲気制御手段7により不活性ガスで置換される。光配向を行う場合、ワーク10は真空紫外光偏光素子6に対して1mm以上20mm以下の位置に配置され、真空紫外光の照射量は40mJ/mm 2 以上4000mJ/mm 2 以下とされる。 【選択図】 図1

    グリッド偏光素子及び光配向装置
    3.
    发明专利
    グリッド偏光素子及び光配向装置 有权
    网格极化元件和照相装置

    公开(公告)号:JP2015172648A

    公开(公告)日:2015-10-01

    申请号:JP2014048221

    申请日:2014-03-11

    IPC分类号: G02F1/1337 G02B5/30

    摘要: 【課題】 より高性能で製造が容易であり、紫外線のような短波長域の光についても高い偏光性能が得られるグリッド偏光素子を提供する。 【解決手段】 透明基板1上に設けられた縞状のグリッド2は誘電体又は半導体で形成されており、グリッド2の各線状部21において一方の側のギャップ幅tと、他方の側のギャップ幅Tは、周期的に実質的にt
    【選択図】 図1

    摘要翻译: 要解决的问题:提供一种制造容易且性能更高并且即使对于具有短波长区域的紫外线也能获得更高的极化性能的栅极偏振元件。解决方案:设置在透明基板上的带状栅极2 1由电介质体或半导体构成。 在栅格部分2的每个线性部分21中,一侧的间隙宽度t和另一侧的间隙宽度T周期性地基本上满足t

    微細穴光学素子の製造方法および光学装置

    公开(公告)号:JP2020030232A

    公开(公告)日:2020-02-27

    申请号:JP2018154009

    申请日:2018-08-20

    IPC分类号: G02B5/08

    摘要: 【課題】LEOを、品質が安定し且つ簡便に製造する製造方法を提供する。 【解決手段】微細穴光学素子の製造方法の一態様は、基板2に複数の穴3が並んで穿たれ、各穴3の深さ方向の延長線が基板外に位置した共通の交点へと向かうとともに、各穴3は当該交点を中心とした共通の球面と交わる微細穴光学素子の製造方法であって、基板2に対して複数の穴3を形成する穴形成工程と、複数の穴3それぞれの内壁に反射層4を形成する反射層形成工程と、を備える。 【選択図】図7

    金属膜作成方法及びナノインプリンティング材

    公开(公告)号:JP2020111769A

    公开(公告)日:2020-07-27

    申请号:JP2019001638

    申请日:2019-01-09

    摘要: 【課題】 ナノインプリンティングを採用した金属膜の作成において、低コスト、高生産性という長所を損なうことなく、残渣の問題を解決する。 【解決手段】 金属膜6のめっきの際の触媒が配合されたナノインプリンティング材を絶縁性の基板1上に成膜して下地層2を形成し、型3で押圧してナノインプリンティングにより下地層2をパターン化した後、基板1を加熱炉4に投入して下地層2の残渣22を加熱により蒸発させて除去する。その後、基板1をめっき液5に漬け、無電解めっきにより下地層2の上にのみ金属膜6を作成する。 【選択図】 図1

    光照射装置
    8.
    发明专利

    公开(公告)号:JP5983810B1

    公开(公告)日:2016-09-06

    申请号:JP2015075982

    申请日:2015-04-02

    摘要: 【課題】効率良く光照射を行うことができる小型の光照射装置を提供する。 【解決手段】光照射装置は、予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射装置であって、照射領域をワークが通過する通過方向に延び、ワークの下に気体を吹き出してワークを浮上させる浮上台31と、浮上台31を通過方向と交わる方向に挟んだ両脇に一対で設けられ、一対の各々が、ワークを保持して通過方向へと移動する機能を有し、一対の一方がワークを保持して移動する際に、一対の他方がワークとすれ違って移動する保持移動機32、33と、を備える。 【選択図】図1

    摘要翻译: 可以进行高效率的光照射,以提供一个小的光照射装置。 的光照射装置是用于使光通过的预定照明区域照射所述工件,其中所述工件下通过所述照射区域的工件,气体气球的通道方向延伸的光照射装置 Te及浮动台31为浮动工件,具备两侧的方向交叉的浮动平台31和通道方向,一对各自的夹持一对,必须移动到通道方向的能力,同时保持工件 当提供时,同时保持工件,并且保持移动装置32,33的一对其它移动相互传递和工件,所述对的一个是可移动的。 点域1

    真空紫外光偏光素子
    9.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2019215435A

    公开(公告)日:2019-12-19

    申请号:JP2018112343

    申请日:2018-06-12

    发明人: 那脇 洋平

    IPC分类号: G02F1/1337 G02B5/30

    摘要: 【課題】 光配向等の処理に使用できる真空紫外光偏光素子のより適切な構成を提示する。 【解決手段】 真空紫外光に対して透明な基板上1に設けられたグリッド2は、平行に延びる多数の線状部3より成り、各線状部3の間は空間であって充填物が設けられていない。各線状部3の材料は、第3族又は第4族の元素の酸化物であって、PE=T 2 ×log 10 (ER)の式(但し、Tはグリッドによる透過率、ERはグリッドによる消光比)で得られるPEが真空紫外域で最も高くなる組合せにおいてPEが0.2以上となる材料である。 【選択図】 図1

    基板上構造体の製造方法及び基板上構造体
    10.
    发明专利
    基板上構造体の製造方法及び基板上構造体 审中-公开
    基底结构和基底结构的制造方法

    公开(公告)号:JP2016111059A

    公开(公告)日:2016-06-20

    申请号:JP2014244342

    申请日:2014-12-02

    IPC分类号: G03F7/20 H01L21/027

    摘要: 【課題】低コストで高精度な微細加工を実現可能な基板上構造体の製造方法及び基板上構造体を提供する。 【解決手段】基板上構造体の製造方法は、基板の表面若しくは機能材料層の表面に感光性材料層を形成するステップと、コヒーレント光源の出力光を2以上に分岐した光を所定の干渉角度で交差させて、干渉縞の長手方向が所定の角度で交差する干渉光を発生し、当該干渉光を用いて、ステップアンドリピート方式により感光性材料層の干渉露光を行うステップと、干渉露光後の感光性材料層における干渉光の照射エリア若しくは非照射エリアを除去して、感光性材料層に微細パターンを形成するステップと、感光性材料層の微細パターンを用いて、基板若しくは機能材料層をエッチングして微細パターンを得るステップと、を含む。 【選択図】 図1

    摘要翻译: 要解决的问题:提供一种能够以低成本实现精确的微加工的衬底上结构和衬底上结构的制造方法。解决方案:一种用于衬底上结构的制造方法,包括:步骤 在基板表面或功能材料层表面上形成感光材料层; 通过将相干光源的输出光分割成两束以上而获得的光束交叉,产生干涉条纹较长方向以预定角度交叉的干涉光的步骤,以通过将感光材料层上的干涉曝光 使用干涉光的步进重复方法; 在干涉曝光之后去除被干涉光照射的区域或感光材料层的未照射区域的步骤,以在感光材料层上形成微图案; 以及通过使用感光材料层上的微图案在基板或功能材料层上进行蚀刻的步骤,以获得微图案。图1