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公开(公告)号：JP6841043B2
公开(公告)日：2021-03-10
申请号：JP2017001593
申请日：2017-01-10
申请人： ウシオ電機株式会社
IPC分类号： F21V29/502 , F21V29/70 , F21V29/85 , F21Y115/30 , F21S2/00
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公开(公告)号：JP6015869B2
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：JP2015559349
申请日：2015-09-29
申请人： ウシオ電機株式会社
发明人： 鶴岡 和之
IPC分类号： G02F1/1337 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1337
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公开(公告)号：JP5929881B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2013255600
申请日：2013-12-11
申请人： ウシオ電機株式会社
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3075 , G02B27/0006 , G02B5/3058
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公开(公告)号：JP2018097224A
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：JP2016242783
申请日：2016-12-14
申请人： ウシオ電機株式会社
IPC分类号： G02B5/30
摘要： 【課題】 深紫外域を含む紫外域の光について安定した偏光性能を発揮し得るグリッド偏光素子であって、グリッドが透明基板に対する十分な強度で付着している実用的なグリッド偏光素子を提供する。 【解決手段】 ガラス製の透明基板1上に形成された縞状のグリッド2の各線状部3は貴金属で形成されており、透明基板1とグリッド2と間には、透明基板1に対する付着性が貴金属より高い密着層4が設けられている。密着層4の材料は、金属の酸化物、窒化物もしくは酸窒化物、シリコンの酸化物、窒化物もしくは酸窒化物又は半導体であり、密着層4の厚さは1nm以上であって、密着層4の厚さとグリッド2の高さとを加えたグリッド全高に対して10%以下である。密着層4はグリッド2の各線状部3の間において透明基板1を覆っておらず、グリッド2の各線状部3と密着層4との界面、透明基板1と密着層4との界面は、各線状部3の幅方向に対して斜めの面となっている。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2018040915A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2016174200
申请日：2016-09-07
申请人： ウシオ電機株式会社
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027 , G02B5/18
摘要： 【課題】加熱状態にある被処理物の輻射熱(放射熱)によって紫外線ランプが加熱されることを抑制することができ、よって加熱状態にある被処理物に対して効率よく真空紫外線を照射することのできる光照射器を提供すること。 【解決手段】本発明の光照射器は、加熱状態にある被処理物に対して真空紫外線を照射する紫外線ランプと、前記被処理物と前記紫外線ランプとの間に位置される光透過窓部材とを有する光照射器において、前記光透過窓部材は、前記被処理物の側の表面および前記紫外線ランプの側の表面の一方または両方にフォトニック構造を有しており、前記フォトニック構造は、前記真空紫外線のピーク波長の透過率が、前記加熱状態にある被処理物からの放射光のピーク波長の透過率よりも高いものであることを特徴とする。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2016111056A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014244339
申请日：2014-12-02
申请人： ウシオ電機株式会社
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2022 , G02B1/118 , G02B1/12 , G02B5/3025 , G03F7/36 , G03F7/40 , H01L33/005 , H01L33/20
摘要： 【課題】低コストで高精度な微細加工を実現可能な基板上構造体の製造方法及び基板上構造体を提供する。 【解決手段】基板上構造体の製造方法は、基板の表面若しくは機能材料層の表面に感光性材料層を形成するステップと、コヒーレント光源の出力光を2以上に分岐した光を所定の干渉角度で交差させて、干渉縞の長手方向が所定の角度で交差する干渉光を発生し、当該干渉光を用いて、感光性材料層の干渉露光を行うステップと、干渉露光後の感光性材料層における干渉光の照射エリア若しくは非照射エリアを除去して、感光性材料層に微細パターンを形成するステップと、感光性材料層の微細パターンを用いて、基板若しくは機能材料層をエッチングして微細パターンを得るステップと、を含む。 【選択図】 図1
摘要翻译： 要解决的问题：提供一种能够以低成本实现精确的微加工的衬底上结构和衬底上结构的制造方法。解决方案：一种用于衬底上结构的制造方法，包括：步骤 在基板表面或功能材料层表面上形成感光材料层; 通过将相干光源的输出光分成两个以上而获得的光束以预定的干涉角度交叉，产生干涉条纹的较长方向以预定角度交叉的干涉光的步骤，以进行干涉曝光 在感光材料层上使用干涉光; 在干涉曝光之后去除被干涉光照射的区域或感光材料层的未照射区域的步骤，以在感光材料层上形成微图案; 以及通过使用感光材料层上的微图案在基板或功能材料层上进行蚀刻的步骤，以获得微图案。图1
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公开(公告)号：JP2016071138A
公开(公告)日：2016-05-09
申请号：JP2014200161
申请日：2014-09-30
申请人： ウシオ電機株式会社
IPC分类号： G02F1/1337 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1337
摘要： 【課題】 紫外域の光についての十分な偏光性能を発揮し得る吸収型のグリッド偏光素子において、グリッド材料自体が持つ光触媒作用による偏光性能の低下の問題を防止する。 【解決手段】 透明基板1上に設けられた縞状のグリッド2を構成する各線状部3は、第一の対象波長の光を吸収する第一の材料で形成された第一の層31と、第二の対象波長の光を吸収する第二の材料で形成された第二の層32と、第一の層31と第二の層32との間に設けられた第三の層33とを備える。第一の材料は酸化チタンのような光触媒作用を有する材料であり、第二の材料はシリコンのような被酸化性材料である。第三の層33は酸化シリコンで形成されたバリア層であり、紫外線照射時にオゾンや原子状酸素のような酸化性活性種が生成された場合でも、バリア層33により第二の層32の酸化が防止される。 【選択図】 図1
摘要翻译： 要解决的问题：为了防止栅极材料本身在能够对紫外线区域发挥足够的极化性能的吸收型栅极偏振元件中具有的光催化作用而引起的极化性能的劣化。解决方案：构成 设置在透明基板1上的条纹格栅2包括由吸收第一目标波长的光的第一材料形成的第一层31，由吸收第二目标波长的光的第二材料形成的第二层32，以及 第三层33设置在第一层31和第二层32之间。第一材料是具有诸如氧化钛的光催化的材料，第二材料是可氧化材料如硅。 第三层33是由氧化硅形成的阻挡层。 即使当在紫外线照射期间产生氧化活性物质如臭氧或原子氧时，第二层32的氧化被阻挡层33阻止。图示：图1
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公开(公告)号：JP5862699B2
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：JP2014048221
申请日：2014-03-11
申请人： ウシオ電機株式会社
IPC分类号： G02F1/1337 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3058 , G02B5/30 , G02F1/133528 , G02F1/133788 , G02F2001/133548
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公开(公告)号：JP2015222449A
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：JP2015178980
申请日：2015-09-10
申请人： ウシオ電機株式会社
摘要： 【課題】 より高性能で製造が容易であり、紫外線のような短波長域の光についても高い偏光性能が得られるグリッド偏光素子を提供する。 【解決手段】 透明基板1上に設けられた縞状のグリッド2は誘電体又は半導体で形成されており、グリッド2の各線状部21において一方の側のギャップ幅tと、他方の側のギャップ幅Tは、周期的に実質的にt
【選択図】 図1摘要翻译： 要解决的问题：提供一种即使在诸如紫外线的短波长区域的光下也能提供高偏振性能的高性能的易于制造的栅极偏振元件。解决方案：将条形的栅格2设置在 透明基板1由电介质或半导体制成。 与栅格2的每个直线部分21相比，一侧的间隙宽度t和另一侧的间隙宽度T周期性地大致为t
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公开(公告)号：JP2020111769A
公开(公告)日：2020-07-27
申请号：JP2019001638
申请日：2019-01-09
申请人： ウシオ電機株式会社
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027 , H01B13/00 , C23C18/18
摘要： 【課題】 ナノインプリンティングを採用した金属膜の作成において、低コスト、高生産性という長所を損なうことなく、残渣の問題を解決する。 【解決手段】 金属膜6のめっきの際の触媒が配合されたナノインプリンティング材を絶縁性の基板1上に成膜して下地層2を形成し、型3で押圧してナノインプリンティングにより下地層2をパターン化した後、基板1を加熱炉4に投入して下地層2の残渣22を加熱により蒸発させて除去する。その後、基板1をめっき液5に漬け、無電解めっきにより下地層2の上にのみ金属膜6を作成する。 【選択図】 図1
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