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发明专利
化合物、これを含むフォトレジスト組成物、これを含むフォトレジストパターン及びフォトレジストパターンの製造方法有权

公开(公告)号：JP2021512854A

公开(公告)日：2021-05-20

申请号：JP2020539834

申请日：2019-10-11

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： パク、ヒョンミン , リム、ミニョン

IPC分类号： C07C309/12 , C07C321/30 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07C381/12

摘要： 本明細書は、化合物、これを含むフォトレジスト組成物、これを含むフォトレジストパターン及びフォトレジストパターンの製造方法を提供する。