公开(公告)号：JP2016042609A

公开(公告)日：2016-03-31

申请号：JP2016005387

申请日：2016-01-14

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： マルクス・ウィンプリンガー ,  トーマス・ヴァーゲンライトナー ,  アレクサンダー・フィルバート

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/683

Abstract: 【課題】より正確な位置合わせを達成できるように受け取り手段を改良する。 【解決手段】本発明は、装着面(1o)と、前記装着面(1o)上へのウェハの装着のための装着手段と、前記ウェハの局所的及び/全体的なねじれの少なくとも部分的、能動的、かつ、特に局所的に制御可能な補償のための補償手段(3、4、5、6)と、の特徴を有する、前記ウェハの受け取り及び装着のための受け取り手段に関する。さらに、この発明は、上述の受け取り手段を使用する、第1のウェハの第2のウェハとの位置合わせの方法に関する。 【選択図】図3b

Abstract translation: 要解决的问题：为了实现更准确的定位，提供改进的容纳装置。解决方案：本发明涉及用于容纳和保持晶片的容纳装置，包括：保持面（1o）; 用于将晶片保持在保持表面（1o）上的保持装置; 和补偿装置（3,4,5和6）至少部分地且主动地，特别是局部地以可控的方式补偿晶片的局部和/或全局失真。 本发明还涉及使用所述容纳装置将第一晶片与第二晶片对准的方法。选择的图示：图3b

公开(公告)号：JP6659765B2

公开(公告)日：2020-03-04

申请号：JP2018088780

申请日：2018-05-02

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： マルクス・ウィンプリンガー ,  トーマス・ヴァーゲンライトナー ,  アレクサンダー・フィルバート

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/68

公开(公告)号：JP2020074481A

公开(公告)日：2020-05-14

申请号：JP2020018976

申请日：2020-02-06

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： マルクス・ウィンプリンガー ,  トーマス・ヴァーゲンライトナー ,  アレクサンダー・フィルバート

IPC: H01L21/683

Abstract: 【課題】より正確な位置合わせを達成できるように受け取り手段を改良する。 【解決手段】本発明は、装着面(1o)と、前記装着面(1o)上へのウェハの装着のための装着手段と、前記ウェハの局所的及び/全体的なねじれの少なくとも部分的、能動的、かつ、特に局所的に制御可能な補償のための補償手段(3、4、5、6)と、の特徴を有する、前記ウェハの受け取り及び装着のための受け取り手段に関する。さらに、この発明は、上述の受け取り手段を使用する、第1のウェハの第2のウェハとの位置合わせの方法に関する。 【選択図】図3b

公开(公告)号：JP2018117165A

公开(公告)日：2018-07-26

申请号：JP2018088780

申请日：2018-05-02

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： マルクス・ウィンプリンガー ,  トーマス・ヴァーゲンライトナー ,  アレクサンダー・フィルバート

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/68

Abstract: 【課題】より正確な位置合わせを達成できるように受け取り手段を改良する。 【解決手段】本発明は、装着面(1o)と、前記装着面(1o)上へのウェハの装着のための装着手段と、前記ウェハの局所的及び/全体的なねじれの少なくとも部分的、能動的、かつ、特に局所的に制御可能な補償のための補償手段(3、4、5、6)と、の特徴を有する、前記ウェハの受け取り及び装着のための受け取り手段に関する。さらに、この発明は、上述の受け取り手段を使用する、第1のウェハの第2のウェハとの位置合わせの方法に関する。 【選択図】図3b

公开(公告)号：JP2014501440A

公开(公告)日：2014-01-20

申请号：JP2013543534

申请日：2010-12-14

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： マルクス・ヴィンプリンガー ,  トーマス・ヴァーゲンライトナー ,  アレクサンダー・フィルバート

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6838

Abstract: 本発明は、ウェハの接触面上にウェハを保持するためのマウント面を有し、ウェハを機械加工する目的でウェハを保持しマウントするための保持装置およびウェハをマウントするための保定手段に関し、保定手段は、ウェハのマウント面上に極端に薄いウェハをマウントすることおよびウェハ内の最小の潜在的な局所変形を実現する。

公开(公告)号：JP6336493B2

公开(公告)日：2018-06-06

申请号：JP2016005387

申请日：2016-01-14

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： マルクス・ウィンプリンガー ,  トーマス・ヴァーゲンライトナー ,  アレクサンダー・フィルバート

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683

公开(公告)号：JP6279324B2

公开(公告)日：2018-02-14

申请号：JP2013543539

申请日：2010-12-20

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： マルクス・ウィンプリンガー ,  トーマス・ヴァーゲンライトナー ,  アレクサンダー・フィルバート

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/683 ,  H01L22/12

公开(公告)号：JP2014502784A

公开(公告)日：2014-02-03

申请号：JP2013543539

申请日：2010-12-20

Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー

Inventor： マルクス・ウィンプリンガー ,  トーマス・ヴァーゲンライトナー ,  アレクサンダー・フィルバート

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/683 ,  H01L22/12

Abstract: 本発明は、装着面（１ｏ）と、前記装着面（１ｏ）上へのウェハの装着のための装着手段と、前記ウェハの局所的及び／全体的なねじれの少なくとも部分的、能動的、かつ、特に局所的に制御可能な補償のための補償手段（３、４、５、６）と、の特徴を有する、前記ウェハの受け取り及び装着のための受け取り手段に関する。 さらに、この発明は、上述の受け取り手段を使用する、第１のウェハの第２のウェハとの位置合わせの方法に関する。