ウェーハスタック内の層厚さ及び欠陥を測定する測定デバイス及び方法
    4.
    发明专利
    ウェーハスタック内の層厚さ及び欠陥を測定する測定デバイス及び方法 审中-公开
    用于测量层厚度的测量装置和方法以及在水平堆中的缺陷

    公开(公告)号:JP2015166751A

    公开(公告)日:2015-09-24

    申请号:JP2015134456

    申请日:2015-07-03

    Abstract: 【課題】空隙がないこと、接着剤の厚さの再現性及び均一性などの品質基準を最適化すること、ならびに一時的に接合されたウェーハスタックの生産又は処理における断片を可能な限り少なくすることを確実にする。 【解決手段】本発明は、ウェーハスタックの1つ又は複数の層内の層厚さ及び/又は欠陥を、前記ウェーハスタック上に分散された複数の測定点で測定及び/又は検出する測定手段及び方法、ならびに対応するウェーハ処理デバイスに関する。 【選択図】図8

    Abstract translation: 要解决的问题:优化质量标准,例如空隙不存在,粘合剂厚度的再现性和均匀性,并确保在临时粘合的晶片堆叠的生产或加工中尽可能少的废料。解决方案:本发明涉及测量 用于测量和/或检测分布在晶片堆叠上的多个测量点上的晶片叠层的一个或多个层的层厚度和/或缺陷的方法和方法以及相应的晶片处理装置。

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