公开(公告)号：JPWO2016152938A1

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：JP2017508399

申请日：2016-03-23

Applicant: オーエム産業株式会社

Inventor： 宜幸 西村 ,  宜幸 西村 ,  莉枝 三宅 ,  莉枝 三宅 ,  千紗 福田 ,  千紗 福田 ,  政男 高見沢 ,  政男 高見沢 ,  豊 水戸岡 ,  豊 水戸岡

IPC: C23C18/18 ,  C03C17/10 ,  H05K3/00 ,  H05K3/18

CPC classification number: C23C18/1612 ,  C23C18/08 ,  C23C18/1639 ,  C23C18/1667 ,  C23C18/18 ,  C23C18/1868 ,  C23C18/1893 ,  C23C18/32 ,  C23C18/38 ,  C23C18/42 ,  C23C18/54 ,  H05K3/18

Abstract: ガラス基材の表面にめっき皮膜パターンが形成されためっき品の製造方法であって、ガラス基材の表面の一部の領域にパルスレーザーを照射する第1工程と、ガラス基材の表面に無電解めっき触媒を付着させる第2工程と、ガラス基材において、パルスレーザーが照射されていない箇所に付着した触媒を選択的に失活させるか又は触媒を選択的に除去する第3工程と、第3工程の後に無電解めっきを行い、パルスレーザーを照射した領域にのみ選択的にめっき皮膜を形成する第4工程とを備えるめっき品の製造方法。これにより、ガラス基材の表面に密着性の良好なめっき皮膜パターンが形成されためっき品を、簡易に製造することができる。

公开(公告)号：JPWO2015060449A1

公开(公告)日：2017-03-09

申请号：JP2015504449

申请日：2014-10-24

Applicant: オーエム産業株式会社

Inventor： 政男 高見沢 ,  政男 高見沢 ,  宜幸 西村 ,  宜幸 西村 ,  千紗 福田 ,  千紗 福田

IPC: C25D3/12 ,  C25D7/00

CPC classification number: C25D3/12 ,  C23C18/1653 ,  C25D3/562 ,  C25D5/16 ,  C25D7/123 ,  C25D21/12

Abstract: 導電性金属からなる基材をめっき液に浸漬し、該基材に電気めっきを施してめっき層を形成する、めっき品の製造方法であって;前記めっき液が、Niイオンを0.01〜1mol/L含有するpHが6以上の液であり、10A/dm2以上陰極電流密度で前記電気めっきを施して多孔質Niめっき層を形成することを特徴とするめっき品の製造方法である。これにより基材の表面に均質な多孔質Niめっき層が形成されためっき品を簡易に製造することができる。