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公开(公告)号：JP2019191357A
公开(公告)日：2019-10-31
申请号：JP2018083813
申请日：2018-04-25
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： G03G5/08
摘要： 【課題】 機械式の搬送機構を用いて基体を反応容器の内部に設置する場合、基体が正常位置に設置されず、所望の膜を形成できない場合がある。 【解決手段】 吊り下げ式で反応容器の内部まで基体ホルダーを搬送する搬送工程が、(i)基体ホルダーをチャッキング部材で把持し、吊り下げた状態で基体ホルダーの垂直度を測定し、垂直度が規定値以上であるか規定値未満であるかを判断する工程と、(ii)工程(i)で垂直度が規定値未満であると判断された場合は、基体ホルダーを搬送する工程に進み、工程(i)で垂直度が規定値以上であると判断された場合は、チャッキング部材による把持を解除し、基体ホルダーを回転させた後、工程(i)をやり直す工程と、を有する。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2019065348A
公开(公告)日：2019-04-25
申请号：JP2017191929
申请日：2017-09-29
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： C23C16/505 , C23C16/42 , C23C16/30 , H01L21/205 , G03G5/08 , C23C16/455
摘要： 【課題】 良質な画像を提供することができる積層膜の形成方法を提供する。 【解決手段】 本発明は、プラズマCVDを用いて、第一層上に第二層が積層した積層膜を形成する積層膜の形成方法であって、該形成方法は、第一層原料ガスを用いて、該第一層を堆積する第一層堆積工程と、第二層原料ガスを用いて、該第二層を堆積する第二層堆積工程と、該第一層堆積工程と該第二層堆積工程との間に、残留ガスを除去する残留ガス除去工程とを有し、該残留ガス除去工程は、反応容器内に、該第二層原料ガスを導入しつつ、該反応容器内への該第一層原料ガスの導入を停止し、該反応容器内の圧力Pを、該第二層堆積工程における該反応容器内の圧力P2(>1Pa)未満、かつ、1Pa以上に調整して保持することを特徴とする。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2017009622A
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2015121296
申请日：2015-06-16
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： G03G5/08
摘要： 【課題】 堆積膜形成中に排気孔の近傍に発生するポリシランを除去することで放電状態を安定化し、表面保護層の膜厚ムラを改善する電子写真感光体の製造方法を提供する。 【解決手段】 減圧可能な反応容器の内部に円筒状基体を含む円筒状電極を設置する工程、円筒状基体の上に光導電層を形成する工程、および、光導電層上に表面保護層を形成する工程を有する電子写真感光体の製造方法において、反応容器を排気するための排気手段に接続された反応容器の排気孔に向かい、反応容器側から排気側に向かってガスを吹き付けることを特徴とする。 【選択図】 図1
摘要翻译： 通过除去在所述排气孔中形成的沉积膜的附近产生的聚硅烷，一种稳定的放电状态提供了用于生产电子照相感光体，以提高表面保护层的厚度不均的处理。 甲安装的圆筒状电极，其包括在压力的内部圆柱形衬底可以减小反应器步骤中，形成圆柱形衬底上的光电导层的步骤，和所述光电导层上的表面保护层 具有形成的用于排出反应容器，其特征在于从反应容器侧吹气体朝排气侧的步骤，向连接反应容器排气单元的所述排气孔的电子照相感光构件的制造方法 到。 点域1
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公开(公告)号：JP2021196437A
公开(公告)日：2021-12-27
申请号：JP2020101373
申请日：2020-06-11
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： G03G9/08
摘要： 【課題】得られるトナー粒子の粒径が細かい粉砕方法を提供する。 【解決手段】結着樹脂と着色剤とを含有する被粉砕物を粉砕手段によって微粉砕する工程を有するトナー粒子の製造方法であって、粉砕手段は、内周面に複数の凸部と凹部とを有する固定子104と、中心回転軸107に取り付けられ、外周面に複数の凸部と凹部とを有する回転子103と、を有し、該固定子は該回転子を内包しており、該固定子の表面と該回転子の表面とが所定の間隙を有して対向するように、該回転子は配置されており、内周面の有する凸部と凹部と、外周面の有する凸部と凹部が該中心回転軸の軸線方向に沿って形成されており、被粉砕物は、粉体供給機構によって加速噴射されて、供給口201から該回転子の外周面に直接衝突するように供給され、該固定子と該回転子との間隙で形成される粉砕領域において、該回転子の回転によって微粉砕が行われる。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021110803A
公开(公告)日：2021-08-02
申请号：JP2020001584
申请日：2020-01-08
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： G03G9/08
摘要： 【課題】トナー粒子の小粒径化及び生産性の向上を達成するトナー製造用機械式粉砕機。 【解決手段】トナー製造用機械式粉砕機であって、該粉砕機は、被粉砕物の投入口及び排出口を有するケーシング内に、中心回転軸に支持され、外周面に複数の凸部及び凹部を有する円柱形の回転子と、該回転子の外側に、該回転子の該外周面と所定の間隙を設けて配置され、その内周面に複数の凸部及び凹部を有する固定子と、を備え、該粉砕機は、該固定子の該内周面と該回転子の該外周面とが形成する隙間に被粉砕物を通過させて粉砕し、該回転子の該凸部の先端と該固定子の該凸部の先端が対向した時の隙間の距離が、該被粉砕物の通過方向において上流側よりも下流側が広いことを特徴とするトナー製造用機械式粉砕機。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019183233A
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：JP2018076442
申请日：2018-04-11
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： G03G5/08 , C23C16/50 , C23C16/458
摘要： 【課題】膜厚均一性に優れ、かつ、電子写真感光体を安定的に製造できる堆積膜形成装置の提供。 【解決手段】減圧可能な反応容器と、円筒状基体102及び補助基体107が装着された基体ホルダー103を設置するホルダー受け台101と、前記反応容器の中に堆積膜形成用の原料ガスを導入するガス導入手段と、排気手段と、前記原料ガスを分解する電力印加手段とを有する堆積膜形成装置であって、前記基体ホルダーと前記ホルダー受け台とは嵌め合い機構を有し、前記嵌め合い機構は、前記基体ホルダーを設置するときに、前記基体ホルダーを下降させながら前記ホルダー受け台を回転させることによって前記ホルダー受け台に前記基体ホルダーを嵌合した状態で設置させる構造を有する堆積膜形成装置。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019060939A
公开(公告)日：2019-04-18
申请号：JP2017183528
申请日：2017-09-25
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： G03G5/08
摘要： 【課題】膜特性の均一性に優れ、かつ、画像欠陥のない電子写真感光体を安定的に製造する。 【解決手段】基体ホルダー101は、長手方向の両端の端部領域にばね設置機構が設けられ、第二の補助基体103には、内側の周方向に溝加工が施され、溝と、ばね機構106の一方とがカプラー機構を有し、円筒状基体設置時に、円筒状基体102の両端面は、第一104および第二の補助基体側から円筒状基体の長手方向の中央に向かい加圧されることが可能な構成を有する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2019056131A
公开(公告)日：2019-04-11
申请号：JP2017179765
申请日：2017-09-20
申请人： キヤノン株式会社
摘要： 【課題】堆積膜形成後の堆積膜形成装置内部のクリーニング処理を効率的に行う方法の提供。 【解決手段】基体の上に第一及び第二の堆積膜を形成する堆積膜形成工程と、第一のクリーニング工程と、第二のクリーニング工程と、をこの順で繰り返し行う堆積膜形成方法であって、該第一の堆積膜は、水素原子を含みかつケイ素原子を主たる成分とする非晶質材料からなり、該第二の堆積膜は、水素原子を含みかつケイ素原子の原子数と炭素原子の原子数との和に対するケイ素原子の原子数の比が20atm%未満である非晶質炭化ケイ素、又は水素原子を含む非晶質炭素からなり、該第一のクリーニング工程は、該反応容器から堆積膜が形成された基体を取り出した後に、該反応容器内に該クリーニング用ガスとして三フッ化塩素ガスを導入しかつ電力を供給し、該第二のクリーニング工程は、該反応容器内に該クリーニング用ガスとして酸素ガスを導入しかつ電力を供給する。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2019023330A
公开(公告)日：2019-02-14
申请号：JP2017142933
申请日：2017-07-24
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： G03G5/10 , G03G5/08 , C23C16/515 , H05H1/46 , C23C16/27
摘要： 【課題】 炭素原子を含有する原料ガスが主となる場合であっても強放電の発生を抑制することで、膜厚ムラを低減可能な水素化アモルファスカーボン膜の形成方法を提供する。 【解決手段】 プラズマCVD法による水素化アモルファスカーボン膜の形成方法であって、電極および円筒状基体の一方の電位に対する他方の電位が交互に正と負になるように周波数3kHz以上300kHz以下の矩形波の交番電圧を印加し、炭素原子を含有する原料ガスを分解して、水素化アモルファスカーボン膜を形成する工程において、Q1/Q2が30/70以上80/20以下であることを特徴とする水素化アモルファスカーボン膜の形成方法。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2017020091A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015140585
申请日：2015-07-14
申请人： キヤノン株式会社
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/24 , H01L21/205 , G03G5/08 , C23C16/44
摘要： 【課題】 装置コストを抑えた堆積膜形成装置のメンテナンス方法、および、前記メンテナンス方法が実施可能な堆積膜形成装置を提供する。 【解決手段】 反応容器、排気装置および反応容器と排気装置とを接続している排気配管を有する堆積膜形成装置であって、反応容器の内部にケイ素原子を含む原料ガスを導入し、原料ガスをグロー放電により分解し、反応容器の内部に設置された基体上に堆積膜を形成するための堆積膜形成装置の排気装置・排気配管のメンテナンスを行う堆積膜形成装置のメンテナンス方法において、排気装置・排気配管の内部に閉塞空間を形成し、閉塞空間をオイルで満たした後、オイルを抜き、その後、排気装置・排気配管の大気開放を行い、排気装置・排気配管のメンテナンスを行う。 【選択図】 図1
摘要翻译： 一种淀积膜形成具有降低设备成本的装置，和所述维护方法的维护方法是提供一种能够实现的淀积薄膜形成设备。 的反应容器中，具有排气管连接的排气系统和反应容器和排气系统，并引入含有硅原子到反应容器中的材料气体的淀积薄膜形成设备，在原料气体 在通过辉光放电，对排气系统的维护和排气管安装基板到反应容器中，在排气装置上形成淀积膜形成设备的淀积薄膜形成装置的沉积膜的维护方法分解 - 形成在排气管的内部的封闭空间，填充在油中的封闭空间后，除去油，然后，执行排气系统和排气管的空气释放，进行排气系统和排气管的维护。 点域1
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