公开(公告)号：JP2018523133A

公开(公告)日：2018-08-16

申请号：JP2018510315

申请日：2016-05-04

Applicant: ケーエルエー−テンカー コーポレイション

Inventor： サリバン ジェミー ,  チュリン エフゲニー

IPC: G01B11/06 ,  H01L21/66 ,  G02B3/00 ,  G02B5/18 ,  G01N21/956

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/8848 ,  G01N2201/0635 ,  G01N2201/104 ,  G01N2201/105 ,  G01N2201/106 ,  G02B21/002 ,  G02B21/006 ,  G02B21/06 ,  G02B26/101 ,  G02B27/0905 ,  G02B27/0944 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/123 ,  G02B27/425 ,  G02F1/33

Abstract: 斜角マルチビームスポット走査ウェハ検査システムにおいて複数のビームラインを生成するシステムは、照射ビームを走査するように構成されたビーム走査装置と、サンプルの表面に対して斜角で配向し、光軸がサンプル上で第1の走査方向と垂直な対物レンズと、対物レンズとビーム走査装置との間に位置決めされた1つ以上の光学素子とを備える。1つ以上の光学素子は、ビームを2本以上のオフセットビームに分割して、これら2本以上のオフセットビームが第1の方向と垂直な少なくとも第2の方向に分離されるようにする。さらに、1つ以上の光学素子は、2本以上のオフセットビームの位相特性を修正して、走査中に、2本以上のオフセットビームがサンプル上で同時に焦点が合うようにする。