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公开(公告)号:JP6483755B2
公开(公告)日:2019-03-13
申请号:JP2017106089
申请日:2017-05-30
Applicant: スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
Inventor: ディヴィガルピィティヤ,ランジス , ペラライト,マーク ジェイ. , バーツォルド,ジョン ピー. , コルバ,ゲイリー エー. , マズレック,ミエチスラフ エイチ.
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公开(公告)号:JP2017199683A
公开(公告)日:2017-11-02
申请号:JP2017106089
申请日:2017-05-30
Applicant: スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
Inventor: ディヴィガルピィティヤ,ランジス , ペラライト,マーク ジェイ. , バーツォルド,ジョン ピー. , コルバ,ゲイリー エー. , マズレック,ミエチスラフ エイチ.
CPC classification number: H05K1/02 , B82Y10/00 , H01L31/022466 , H01L51/445 , H05K3/10 , G02F1/13439 , G02F2202/36 , H01L51/0045 , H01L51/0097 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10T29/49155
Abstract: 【課題】屈曲を受けたときに、初期シート抵抗値を実質的に維持し、可視光線に対する透過度が高い導電膜を提供する。 【解決手段】透明な基材と、薄い導電性グリッドと、炭素ナノ層とを含む。グリッドは基材上に配置され、かつ炭素ナノ層も基材上に配置され、かつグリッドと接触している。導電性グリッド及び炭素ナノ層は、厚さがそれぞれ1ミクロン以下及び50ナノメートル以下であってもよい。炭素ナノ層は、ナノ結晶炭素中に埋め込まれたグラファイトプレートレットを含むモルフォロジーを有し、かつ、グリッド構造に実質的な損傷を与えることなく乾燥炭素粒子を用いてバフがけ手順によって製造する。 【選択図】図1
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