公开(公告)号：JP6909251B2

公开(公告)日：2021-07-28

申请号：JP2019041279

申请日：2019-03-07

Applicant: バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

Inventor： ユアンメイ ツァオ ,  マイケル フェニス ,  リッチー ダルトン ピーターズ

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42

公开(公告)号：JP2019219654A

公开(公告)日：2019-12-26

申请号：JP2019095894

申请日：2019-05-22

Applicant: バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

Inventor： リチャード ディー.ピーターズ ,  マイケル フェニス ,  トラビス アクラ

IPC: H01L21/304 ,  G03F7/42

Abstract: 【課題】フォトレジスト及びエッチング後残渣ストリッピング組成物及び方法を提供する。 【解決手段】有機フォトレジストストリッピング組成物、及び、その組成物を、絶縁層を有しそして金属被覆物をウエハ上に有するシリコンウエハとともに使用する方法であって、該組成物はアリールスルホン酸もしくはアルキルアリールスルホン酸又はそれらの混合物、1,3−ジヒドロキシベンゼン(レゾルシノール)もしくはソルビトール又はそれらの混合物、65℃より高い引火点を有する1種以上の炭化水素溶媒、及び、場合により、組成物の全質量を基準として約0.5質量%未満の水を有する。その組成物はまた、他の基材から他の材料を除去するためにも使用されうる。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6944486B2

公开(公告)日：2021-10-06

申请号：JP2019095894

申请日：2019-05-22

Applicant: バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

Inventor： リチャード ディー.ピーターズ ,  マイケル フェニス ,  トラビス アクラ

IPC: H01L21/304 ,  G03F7/42

公开(公告)号：JP2019191565A

公开(公告)日：2019-10-31

申请号：JP2019041279

申请日：2019-03-07

Applicant: バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

Inventor： ユアンメイ ツァオ ,  マイケル フェニス ,  リッチー ダルトン ピーターズ

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42

Abstract: 【課題】基材からフォトレジストを除去するための改良された剥離剤溶液の提供。 【解決手段】ジエチレングリコールブチルエーテル、第四級アンモニウムヒドロキシド、及び、少なくとも2個の炭素原子、少なくとも1個のアミノ置換基及び少なくとも1個のヒドロキシル置換基を有し、該アミノ及びヒドロキシル置換基が2個の異なる炭素原子に結合しているアルカノールアミンを含み、DMSOを含まない剥離剤溶液。 【選択図】なし