公开(公告)号：JP6909251B2

公开(公告)日：2021-07-28

申请号：JP2019041279

申请日：2019-03-07

Applicant: バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

Inventor： ユアンメイ ツァオ ,  マイケル フェニス ,  リッチー ダルトン ピーターズ

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42

公开(公告)号：JP2019191565A

公开(公告)日：2019-10-31

申请号：JP2019041279

申请日：2019-03-07

Applicant: バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

Inventor： ユアンメイ ツァオ ,  マイケル フェニス ,  リッチー ダルトン ピーターズ

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42

Abstract: 【課題】基材からフォトレジストを除去するための改良された剥離剤溶液の提供。 【解決手段】ジエチレングリコールブチルエーテル、第四級アンモニウムヒドロキシド、及び、少なくとも2個の炭素原子、少なくとも1個のアミノ置換基及び少なくとも1個のヒドロキシル置換基を有し、該アミノ及びヒドロキシル置換基が2個の異なる炭素原子に結合しているアルカノールアミンを含み、DMSOを含まない剥離剤溶液。 【選択図】なし