公开(公告)号：JP2016530078A

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：JP2016522527

申请日：2014-06-27

Applicant: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se

Inventor： ヘイネン マーティン ,  ヘイネン マーティン ,  ヴェーバー マーティン ,  ヴェーバー マーティン ,  シュタウト クラウディア ,  シュタウト クラウディア ,  ルドルフ ユング マルク ,  ルドルフ ユング マルク ,  ウィジョジョ ナタリア ,  ウィジョジョ ナタリア ,  ジョン ペイシャン ,  ジョン ペイシャン ,  レ ロウ ジア ,  レ ロウ ジア

IPC: B01D69/12 ,  A23C1/00 ,  A23L2/08 ,  A23L5/30 ,  B01D61/00 ,  B01D61/08 ,  B01D69/10 ,  B01D71/06 ,  B01D71/10 ,  B01D71/12 ,  B01D71/16 ,  B01D71/20 ,  B01D71/26 ,  B01D71/28 ,  B01D71/30 ,  B01D71/34 ,  B01D71/36 ,  B01D71/38 ,  B01D71/40 ,  B01D71/42 ,  B01D71/48 ,  B01D71/50 ,  B01D71/52 ,  B01D71/54 ,  B01D71/56 ,  B01D71/64 ,  B01D71/68 ,  B01D71/70 ,  C02F1/44

CPC classification number: B01D69/10 ,  B01D61/002 ,  B01D61/02 ,  B01D63/066 ,  B01D67/0006 ,  B01D67/0088 ,  B01D69/12 ,  B01D69/125 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68

Abstract: 担体と排除層を有する膜であって、この膜は、多流路膜である。排除層は、ポリアミド層である。ポリアミド層で被覆された、多流路膜を製造するための方法。

Abstract translation: 具有载体和排斥层的膜，该膜是多通道薄膜。 排斥层是聚酰胺层。 涂覆有聚酰胺层，用于制造多通道膜的方法。

公开(公告)号：JP2015520662A

公开(公告)日：2015-07-23

申请号：JP2015506253

申请日：2013-04-19

Applicant: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  ナショナル ユニヴァーシティー オブ シンガポール ,  ナショナル ユニヴァーシティー オブ シンガポール

Inventor： ヴェーバー マーティン ,  ヴェーバー マーティン ,  マレツコ クリスティアン ,  マレツコ クリスティアン ,  ウィジョジョ ナタリア ,  ウィジョジョ ナタリア ,  ジョン ペイシャン ,  ジョン ペイシャン ,  チュン タイ−シュン ,  チュン タイ−シュン

IPC: B01D71/68 ,  B01D61/14 ,  B01D69/10

CPC classification number: B01D61/145 ,  B01D69/10 ,  B01D2325/02

Abstract: 本発明は、スルホン化ポリアリーレンエーテルスルホンポリマーに基づく膜基材層(S)を含む限外ろ過膜及びその製造方法に関する。更に、本発明は、前記膜を使用する限外ろ過法に関する。

Abstract translation: 本发明涉及超滤膜及其制造方法，其包含基于磺化聚芳醚砜聚合物（S）的薄膜基材层。 此外，本发明涉及一种使用所述膜超滤。

公开(公告)号：JP2015516881A

公开(公告)日：2015-06-18

申请号：JP2015506252

申请日：2013-04-19

Applicant: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  ナショナル ユニヴァーシティー オブ シンガポール ,  ナショナル ユニヴァーシティー オブ シンガポール

Inventor： ヴェーバー マーティン ,  ヴェーバー マーティン ,  マレツコ クリスティアン ,  マレツコ クリスティアン ,  トロッテ ベアント ,  トロッテ ベアント ,  ジョン ペイシャン ,  ジョン ペイシャン ,  チュン タイ−シュン ,  チュン タイ−シュン

IPC: B01D71/68 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12

CPC classification number: B01D61/027 ,  B01D69/10 ,  B01D71/68 ,  B01D71/78 ,  B01D71/80 ,  B01D2323/345 ,  B01D2325/14 ,  B01D2325/16

Abstract: 本発明は、スルホン化ポリマーに基づく基材層(S)及び前記基材の上にある正荷電膜層(F)を含む正荷電ナノろ過(NF)膜、並びにそれらの製造方法に関する。更に、本発明は、前記複合膜を使用するナノろ過プロセスに関する。

Abstract translation: 本发明中，基于磺化的聚合物（S）和包括在所述衬底的顶部上的带正电荷的薄膜层（F）带正电荷的纳滤（NF）膜，和它们的制备方法的基材层。 此外，本发明涉及使用该复合膜的纳米过滤方法。