公开(公告)号：JP2016506982A

公开(公告)日：2016-03-07

申请号：JP2015555635

申请日：2014-01-20

Applicant: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se

Inventor： バウアー シュテファン ,  バウアー シュテファン ,  ヘアファート ノアベアト ,  ヘアファート ノアベアト ,  ケーニヒ リュディア ,  ケーニヒ リュディア ,  ハーゲン イヴォンヌ ,  ハーゲン イヴォンヌ ,  ロマニ フェルナンデス クシアナ ,  ロマニ フェルナンデス クシアナ ,  シェプラー マークス ,  シェプラー マークス

IPC: C08F6/00 ,  A61F13/15 ,  A61F13/49

CPC classification number: C08F220/06 ,  A61L15/24 ,  A61L15/60 ,  C08F6/005 ,  C08F6/008 ,  C08L33/02 ,  C08L2201/54 ,  C08L2312/00

Abstract: 本発明は、吸水性ポリマー粒子から残留モノマーを除去する方法に関し、この場合吸水性ポリマー粒子は、回転型混合工具を備えた混合機中で少なくとも60℃の温度で水および界面活性剤の存在下に熱的に後処理される。

Abstract translation: 本发明涉及由吸水性聚合物颗粒在水的存在下和表面活性剂在至少60℃的温度下在混合器中除去残留单体，在这种情况下吸水性聚合物颗粒的方法，其中，旋转式混合工具 热被处理。

公开(公告)号：JP2017502094A

公开(公告)日：2017-01-19

申请号：JP2016527176

申请日：2014-10-20

Applicant: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ,  ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se

Inventor： バウアー シュテファン ,  バウアー シュテファン ,  マーク ティナ ,  マーク ティナ ,  ケーニヒ リュディア ,  ケーニヒ リュディア ,  ハーゲン イヴォンヌ ,  ハーゲン イヴォンヌ ,  トーマス　ダニエル ,  ダニエル トーマス

IPC: C08F2/32 ,  A61F13/15 ,  A61F13/53 ,  C08J3/12 ,  C08J3/24

CPC classification number: C08F220/06 ,  A61F13/53 ,  A61F13/534 ,  A61F2013/530868 ,  A61L15/24 ,  A61L15/42 ,  A61L15/60 ,  C08F2/06 ,  C08F222/1006 ,  C08F2810/20 ,  C08F222/385

Abstract: 吸水性ポリマー粒子を、懸濁重合および熱による表面後架橋によって、製造するための方法であって、懸濁重合によって得られたベースポリマーが少なくとも37g/gの遠心分離保持容量を有し、および前記の熱による表面後架橋が100〜190℃で実施される、前記方法。

Abstract translation: 的吸水性聚合物颗粒通过表面后交联通过悬浮聚合和热，用于制备通过悬浮聚合得到的基础聚合物的方法具有至少37克/克的离心保留容量，和 通过热表面后交联在100进行至190℃，所述方法。

公开(公告)号：JP2013540190A

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：JP2013534265

申请日：2011-10-14

Applicant: ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se

Inventor： ダニエル トーマス ,  ハーゲン イヴォンヌ ,  リーゲル ウルリッヒ ,  ヘアメリング ディーター ,  ブルーンス シュテファン

IPC: C08J3/12 ,  C08F220/00

CPC classification number: B01J20/267 ,  C08J3/12 ,  C08J3/126 ,  C08J3/245 ,  C08J2300/14 ,  C08J2333/02

Abstract: The present invention relates to a water-absorbing material obtainable by a process comprising the steps of: a) obtaining, optionally coated, post-crosslinked water-absorbing polymeric particles; b) exposing said particles of step a) to a vacuum-treatment, at a pressure of from 0.0001 mbar to 700 mbar; and c) optionally exposing said particles of step b) to a plasma-treatment, and processes for their production.