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    下層膜形成組成物
    1.
    发明专利
    下層膜形成組成物 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2020026879A1

    公开(公告)日：2021-09-09

    申请号：JP2019028741

    申请日：2019-07-23

    申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

    发明人： 岡田 悠 ,  牧野嶋 高史 ,  越後 雅敏

    IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/40 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  C08G8/00 ,  G03F7/11

    摘要： 本発明は、有用な下層膜形成組成物を提供することを課題とする。前記課題は、以下の下層膜形成組成物により解決できる。下記式(1)で表される構成単位を有する化合物、及び溶媒を含む下層膜形成組成物であって、 前記化合物の重量平均分子量が、ポリスチレン換算分子量で、1000〜30000であり、 前記化合物のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに対する溶解性が23℃で10質量%以上である下層膜形成組成物。 【化1】 (式(1)中、 Aは、単結合または2価の基であり、 R 1 は、各々独立して、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数2〜10のアルキニル基、チオール基又は水酸基であり、 R 2 は、各々独立して、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数2〜10のアルキニル基、チオール基又は水酸基であり、 R 2 の少なくとも1つは、水酸基及び/又はチオール基であり、 m 1 は、各々独立して、0〜5の整数であり、 m 2 は、各々独立して、0〜8の整数であり、 p 2 は、各々独立して、0〜2の整数である。)