公开(公告)号：JP6723660B2

公开(公告)日：2020-07-15

申请号：JP2017059486

申请日：2017-03-24

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 佐藤 文昭 ,  広川 卓 ,  篠塚 正光

IPC: H02N13/00 ,  C23C14/50 ,  H01L21/31 ,  H01L21/265 ,  H01L21/683

公开(公告)号：JP2018163948A

公开(公告)日：2018-10-18

申请号：JP2017059486

申请日：2017-03-24

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 佐藤 文昭 ,  広川 卓 ,  篠塚 正光

IPC: H02N13/00 ,  C23C14/50 ,  H01L21/31 ,  H01L21/265 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68764 ,  H01J37/3171 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/68 ,  H01L21/6833

Abstract: 【課題】ウェハの固定を解除する際のウェハの位置ずれを低減する技術を提供する。 【解決手段】ウェハ保持装置52は、保持すべきウェハWと接触するウェハ保持面60を有し、ウェハ保持面60上に複数の吸着領域C1,C2が設けられるウェハチャック53と、複数の吸着領域C1,C2のそれぞれの吸着力を独立に制御するよう構成される制御部70と、を備える。制御部70は、ウェハの固定を解除する場合、複数の吸着領域C1,C2のうち一部の吸着領域の吸着力をウェハ固定時より小さくする仮固定状態とした後に、複数の吸着領域C1,C2の全ての吸着力をウェハ固定時より小さくする。 【選択図】図3