イオン注入装置及びイオン注入装置の制御方法
    4.
    发明专利
    イオン注入装置及びイオン注入装置の制御方法 有权
    离子植入装置及其控制方法

    公开(公告)号:JP2016004898A

    公开(公告)日:2016-01-12

    申请号:JP2014124227

    申请日:2014-06-17

    Abstract: 【課題】搬送中のウェハに対する汚染の影響を低減できる技術を提供する。 【解決手段】イオン注入装置10は、ウェハWへのイオン注入処理がなされる真空処理室16と、真空処理室16にウェハを搬入し、真空処理室16からウェハを搬出するための一以上のロードロック室54a、54bと、真空処理室16およびロードロック室54a、54bの双方に隣接して設けられる中間搬送室52と、ロードロック室54a、54bと中間搬送室52の間を連通させるロードロック室−中間搬送室連通口と、ロードロック室−中間搬送室連通口を密閉可能なゲートバルブと、を有するロードロック室−中間搬送室連通機構72a、72bと、中間搬送室52と真空処理室16の間を連通させる中間搬送室−真空処理室連通口と、中間搬送室−真空処理室連通口の一部または全部を遮蔽可能な可動式の遮蔽板と、を有する中間搬送室−真空処理室連通機構70と、を備える。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供能够减少对正在输送的晶片的污染影响的技术。解决方案:离子注入装置10包括:真空处理室16,其中对晶片W进行离子注入处理; 用于将晶片馈送到真空处理室16中并从真空处理室16输出晶片的一个或多个装载锁定室54a,54b; 与真空处理室16和负载锁定室54a,54b相邻设置的中间供给室52; 负载锁定室 - 中间供给室互通机构72a,72b,其具有负载锁定室 - 中间供给室互连端口,负载锁定室54a,54b通过该相互连通端口与中间供给室52连通;以及闸阀,用于气密地密封负载锁定室 - 中间进料室互通口; 以及中间供给室 - 真空处理室连通机构70,其具有中间供给室 - 真空处理室连通口,中间供给室52和真空处理室16通过该中间供给室 - 真空处理室相互连通;以及可动屏蔽板, 部分或全部中间进料室 - 真空处理室相互通讯口。

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