高ガス密度水和物の製造方法
    2.
    发明专利
    高ガス密度水和物の製造方法 审中-公开
    高密度水合物的生产方法

    公开(公告)号:JP2015218122A

    公开(公告)日:2015-12-07

    申请号:JP2014101385

    申请日:2014-05-15

    CPC classification number: Y02P20/51

    Abstract: 【課題】20面体包接格子に複数の小分子ゲスト物質(SMGS)が2分子以上包蔵されている構造H水和物の製造方法を提供する。 【解決手段】正12面体包接格子と、変則12面体包接格子と、20面体包接格子から構成される構造H水和物の製造方法であって、任意の一つの水素がメチルまたはハロゲンで置換されているシクロヘキサンと、アルゴン、二酸化炭素、クリプトン、窒素、及びキセノンから選ばれる小分子ゲスト物質と、水とを混合して水和させる工程を含み、20面体包接格子に2分子以上の小分子ゲスト物質が包蔵される、構造H水和物の製造方法により解決する。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种其中在二十面体包合物晶格中包含两种或更多种小分子客体物质(SMGS)的结构H水合物的制备方法。解决方案:由H 规则十二面体包合物晶格,不规则十二面体包合物晶格和二十面体包合物晶格包括将环己烷与任选的氢或被卤素取代的甲基混合在一起的步骤,选自氩,二氧化碳,氪,氮和氙的小分子客体物质 水分水合,二十面体包合物中含有两种以上的小分子客体物质。

    ガスハイドレート層における水圧破砕方法と水圧破砕システム

    公开(公告)号:JPWO2018008535A1

    公开(公告)日:2019-04-04

    申请号:JP2017024072

    申请日:2017-06-30

    Abstract: 添加物を含まない圧力流体を用いてガスハイドレート層に亀裂を形成するとともに、プロパントを注入することなくガスハイドレート層の良好な浸透性を維持することを可能としたガスハイドレート層における水圧破砕方法と水圧破砕システムを提供すること。ガスハイドレート層G2のうち、亀裂を形成したい所定深度tまで延びて圧力流体の流通する配管3を地盤内に施工し、所定深度における最小応力がP0(MPa)であり、配管3の内部耐圧力がP1(MPa)の場合に、圧力流体の圧力P(MPa)が(2.9+P0)(MPa)≦P(MPa)




    (81)指定国 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,T J,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,R O,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,G T,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX ,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM, TN,TR,TT (出願人による申告)平成27年度、経済産業省資源エネルギー庁、メタンハイドレート開発促進事業、産業技 術力強化法第19条の適用を受ける特許出願 (72)発明者 長尾 二郎 北海道札幌市豊平区月寒東2条17丁目2番1号 国立研究開発法人産業技術総合研究所 北海道 センター内 (72)発明者 内海 崇 北海道札幌市豊平区月寒東2条17丁目2番1号 国立研究開発法人産業技術総合研究所 北海道 センター内 (72)発明者 眞城 一憲 北海道札幌市豊平区月寒東2条17丁目2番1号 国立研究開発法人産業技術総合研究所 北海道 センター内 (注)この公表は、国際事務局(WIPO)により国際公開された公報を基に作成したものである。なおこの公表に 係る日本語特許出願(日本語実用新案登録出願)の国際公開の効果は、特許法第184条の10第1項(実用新案法 第48条の13第2項)により生ずるものであり、本掲載とは関係ありません。

Patent Agency Ranking