透明導電フィルムの製造方法
    2.
    发明专利
    透明導電フィルムの製造方法 审中-公开
    生产透明导电薄膜的方法

    公开(公告)号:JP2015153680A

    公开(公告)日:2015-08-24

    申请号:JP2014028220

    申请日:2014-02-18

    Abstract: 【課題】基材の変質等によるヘイズ値の上昇を抑制しつつ、導電性を有する透明導電フィルムを製造することができる透明導電フィルムの製造方法を提供する。 【解決手段】基材B表面に導電性を有する層が設けられたフィルムを製造する方法であって、繊維状の導電部材NWを含有させた分散液を調製する分散液調製工程S1と、分散液を基材B表面上に塗工する塗工工程S2と、塗工工程S2によって形成された塗工膜に対して光を照射する光焼成工程S4と、を順に行い、光焼成工程S4において、1回あたりの照射時間が0.01msec以上、50msec以下、1回あたりの照射エネルギーが0.5〜3J/cm 2 、となるように光を照射する。PET等の熱に弱い材質の基材Bを用いた場合であっても、基材Bの変質等によるヘイズ値の上昇を抑制しつつ、適切な導電性を有するフィルムを製造することができる。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种制造透明导电膜的方法,该透明导电膜可以在抑制由基板的劣化等引起的雾度值的增加的同时产生具有导电性的透明导电膜。解决方案:制造膜的方法 具有形成在基板B的表面上的具有导电性的层包括:分散制备步骤S1,制备其中结合有纤维状导电部件NW的分散体; 将该分散体涂布在基板B的表面上的涂布工序S2; 以及照射由涂布步骤S2形成的涂膜的光固化步骤S4,其顺序进行。 在光子固化步骤S4中,照射光,使得每次照射的照射时间为0.01毫秒以上且50毫秒以下,每次照射的照射能量为0.5〜3J / cm。 即使使用由容易受热影响的材料构成的基板B(例如PET),也可以抑制基板B的劣化等引起的雾度值的增加而产生具有足够导电性的膜。

    面状発熱体および乗物用シート
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020147158A

    公开(公告)日:2020-09-17

    申请号:JP2019046173

    申请日:2019-03-13

    Abstract: 【課題】着座により面状発熱体が伸長した場合でも電気抵抗値の上昇を抑制することができる、面状発熱体および乗物用シートを提供する。 【解決手段】線状の導電層が面状の絶縁層の上に形成された面状発熱体であって、導電層は台形波形状に延在する波形構造部31を有し、波形構造部31は、前記波形構造部の延在方向に延在する第1領域32,34と、第1領域32,34の延在方向と交差する方向に延在する第2領域33,35と、を有し、波形構造部31において、第1領域32,34の長さL1と第2領域33,35の長さL2との比(L2/L1)が1以上である、面状発熱体。 【選択図】図8

    透明導電フィルムの製造方法
    4.
    发明专利
    透明導電フィルムの製造方法 审中-公开
    透明导电薄膜的生产方法

    公开(公告)号:JP2015125962A

    公开(公告)日:2015-07-06

    申请号:JP2013271289

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 【課題】基材の変質等によるヘイズ値の上昇を抑制しつつ、導電性を有する透明導電フィルムを製造することができる透明導電フィルムの製造方法を提供する。 【解決手段】基材B表面に導電性を有する層が設けられたフィルムを製造する方法であって、繊維状の導電部材NWを含有させた分散液を調製する分散液調製工程S1と、分散液を基材B表面上に塗工する塗工工程S2と、塗工工程S2によって形成された塗工膜に対してパルス光を照射する光焼成工程S4と、を順に行い、光焼成工程S4において、照射するパルス光の波長帯が240nm以上、総照射エネルギーが7J/cm 2 以上、となるようなパルス光を照射する。PET等の熱に弱い材質の基材Bを用いた場合であっても、基材Bの変質等によるヘイズ値の上昇を抑制しつつ、適切な導電性を有するフィルムを製造することができる。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种透明导电膜的制造方法,通过该方法可以在抑制由于基板的改性引起的雾度值的增加等的同时产生具有导电性的透明导电膜。解决方案:一种制造方法 提供具有设置在基板B的表面上的导电层的膜,并且依次通过以下步骤进行:制备含有纤维状导电部件NW的分散液的分散液制备工序S1; 施加步骤S2,将分散液涂布在基板B的表面上; 以及照射煅烧步骤S4,其用脉冲光照射由施加步骤S2形成的涂膜。 在光煅烧步骤S4中,将照射该膜的脉冲光控制在240nm以上的波长带内,使总照射能量为7J / cm 2以上。 即使使用包含PET等耐热性差的材料的基板B,也能够抑制基板B的变形引起的雾度值的增加,能够制造具有适当导电性的膜。

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