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公开(公告)号：JP2015153680A
公开(公告)日：2015-08-24
申请号：JP2014028220
申请日：2014-02-18
Abstract: 【課題】基材の変質等によるヘイズ値の上昇を抑制しつつ、導電性を有する透明導電フィルムを製造することができる透明導電フィルムの製造方法を提供する。 【解決手段】基材B表面に導電性を有する層が設けられたフィルムを製造する方法であって、繊維状の導電部材NWを含有させた分散液を調製する分散液調製工程S1と、分散液を基材B表面上に塗工する塗工工程S2と、塗工工程S2によって形成された塗工膜に対して光を照射する光焼成工程S4と、を順に行い、光焼成工程S4において、1回あたりの照射時間が0.01msec以上、50msec以下、1回あたりの照射エネルギーが0.5〜3J/cm 2 、となるように光を照射する。PET等の熱に弱い材質の基材Bを用いた場合であっても、基材Bの変質等によるヘイズ値の上昇を抑制しつつ、適切な導電性を有するフィルムを製造することができる。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制造透明导电膜的方法，该透明导电膜可以在抑制由基板的劣化等引起的雾度值的增加的同时产生具有导电性的透明导电膜。解决方案：制造膜的方法 具有形成在基板B的表面上的具有导电性的层包括：分散制备步骤S1，制备其中结合有纤维状导电部件NW的分散体; 将该分散体涂布在基板B的表面上的涂布工序S2; 以及照射由涂布步骤S2形成的涂膜的光固化步骤S4，其顺序进行。 在光子固化步骤S4中，照射光，使得每次照射的照射时间为0.01毫秒以上且50毫秒以下，每次照射的照射能量为0.5〜3J / cm。 即使使用由容易受热影响的材料构成的基板B（例如PET），也可以抑制基板B的劣化等引起的雾度值的增加而产生具有足够导电性的膜。
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公开(公告)号：JP2021107388A
公开(公告)日：2021-07-29
申请号：JP2020215408
申请日：2020-12-24
Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所 , 昭和電工株式会社
IPC: C07D231/12
Abstract: 【課題】ハロゲンを含む化合物を用いることなく、ブロックイソシアナト基およびヒドロキシ基を有する化合物を製造できるヒドロキシアルキルカルボキサミド化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】溶媒の存在下で、カルバミン酸エステルとカルバミン酸エステルの環化体のいずれか一方または両方と、ピラゾール環を含むブロック化剤とを反応させることにより、化合物を合成する第1工程を含むヒドロキシアルキルカルボキサミド化合物の製造方法とする。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2020183348A
公开(公告)日：2020-11-12
申请号：JP2019086722
申请日：2019-04-26
Applicant: 国立大学法人九州大学 , 昭和電工株式会社
IPC: C07C255/17 , C07C253/30
Abstract: 【課題】不均一触媒の存在下で反応させることによりシアノアルデヒド化合物が得られる製造方法を提供する。 【解決手段】水素ガスと一酸化炭素ガスとを含む混合ガスと、下記一般式(1)で表される不飽和ニトリル化合物とを、周期表第4周期の第4族〜第14族の元素の酸化物からなる担体に、周期表第5周期または第6周期の8族〜11族の金属または金属酸化物が担持された不均一触媒の存在下で反応させるシアノアルデヒド化合物の製造方法とする(式(1)中、R 1 、R 2 はそれぞれ、水素原子、炭素原子数1〜8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基から選ばれるいずれか)。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：JP2020026435A
公开(公告)日：2020-02-20
申请号：JP2019147436
申请日：2019-08-09
IPC: C07C233/09 , B01J23/34 , B01J23/26 , B01J23/75 , B01J23/755 , B01J23/06 , C07C231/12
Abstract: 【課題】気相反応によりN,N−二置換α,β−不飽和カルボン酸アミドを製造できる製造方法を提供する。 【解決手段】N,N−二置換カルボン酸アミドとアルデヒド類とを、触媒の存在下で気相反応させることにより、N,N−二置換α,β−不飽和カルボン酸アミドを製造する方法であり、前記触媒が、周期表第2族の金属元素である第1の金属元素の酸化物と、Mn、Cr、Co、Ni、Znからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素である第2の金属元素の酸化物とを含み、前記第1の金属元素と前記第2の金属元素の合計モル数に対する前記第2の金属元素のモル比が0.01〜0.20である方法とする。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2020019736A
公开(公告)日：2020-02-06
申请号：JP2018143522
申请日：2018-07-31
Applicant: 昭和電工株式会社
IPC: C07C233/05 , B01J29/40 , B01J29/46 , B01J29/14 , B01J23/72 , C07C231/06
Abstract: 【課題】液相反応でも気相反応でもニトリルとアルコールとの反応によりN,N−二置換アミドが得られ、反応後に得られた目的物と触媒との分離が容易であるN,N−二置換アミドの製造方法を提供する。 【解決手段】ニトリルとアルコールとを触媒の存在下で反応させて、N,N−二置換アミドを製造するN,N−二置換アミドの製造方法であり、前記触媒が、担体と、前記担体に担持された金属酸化物とからなる不均一触媒であって、担体が、ゼオライト、シリカおよびアルミナから選択される少なくとも一種であり、金属酸化物に含まれる金属が、銅とモリブデンから選択される少なくとも一種を含むN,N−二置換アミドの製造方法とする。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JPWO2018021224A1
公开(公告)日：2019-05-09
申请号：JP2017026644
申请日：2017-07-24
Applicant: 昭和電工株式会社
IPC: C08F2/50 , C08F290/06 , C08F299/04 , C08G59/16
Abstract: 【課題】導電パターンにマイグレーションが発生しにくい保護膜の材料となるエポキシ(メタ)アクリレート化合物及びこれを含有する硬化性組成物を提供する。 【解決手段】 以下の一般式(1)で表されることを特徴とするエポキシ(メタ)アクリレート化合物であって、不純物であるハロゲン原子の含有量が100質量ppm以下である。また、このエポキシ(メタ)アクリレート化合物に(メタ)アクリロイル基を含有する、モノマーやオリゴマーの少なくとも一種、並びに光重合開始剤を混合して導電パターンの保護膜形成用の硬化性組成物とする。 【化1】 (R 1 〜R 5 の内の少なくとも一つは、下記式(2)で示す構造を有し、残りのR 1 〜R 5 は、各々独立して水素原子、炭素原子数が1〜6である、アルキル基およびアルコキシ基からなる群から選択されるいずれかである。R 6 は水素原子またはメチル基を表す。) 【化2】 (*は式(1)におけるR 1 〜R 5 が連結するベンゼン環を構成する炭素原子との連結部を示し、R 7 は水素原子またはメチル基を表す。) 【選択図】なし
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