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公开(公告)号：JP2021169933A
公开(公告)日：2021-10-28
申请号：JP2020072207
申请日：2020-04-14
申请人： 富士フイルム株式会社
发明人： 上村 哲也
摘要： 【課題】異種材料間腐食の評価に用いられるセンサ、異種材料間腐食を容易に評価できる異種材料間腐食の評価装置および異種材料間腐食の評価方法を提供する。 【解決手段】異種材料間腐食を評価に用いられるセンサである。センサは水晶振動子と、水晶振動子の1つの面に設けられた電極と、電極に設けられた2つの評価材料部とを有し、2つの評価材料部は互いに異なる材料で構成され、かつ直接接している。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP6876717B2
公开(公告)日：2021-05-26
申请号：JP2018551635
申请日：2017-11-14
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , H01L21/027 , G03F7/16
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公开(公告)号：JP6876687B2
公开(公告)日：2021-05-26
申请号：JP2018519205
申请日：2017-05-16
申请人： 富士フイルム株式会社
发明人： 上村 哲也
IPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304 , C09K3/14
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公开(公告)号：JPWO2019187868A1
公开(公告)日：2021-04-01
申请号：JP2019006981
申请日：2019-02-25
申请人： 富士フイルム株式会社
摘要： 本発明は、半導体デバイス用の処理液であって、残渣物除去性能の経時安定性に優れ、且つ、処理対象物に対する腐食防止性能にも優れた処理液を提供する。本発明の処理液は、半導体デバイス用の処理液であって、ヒドロキシルアミン及びヒドロキシルアミン塩からなる群から選択される1種以上のヒドロキシルアミン化合物と、有機塩基性化合物と、アルコール系溶剤と、界面活性剤と、を含有し、上記処理液の全質量に対するアルコール系溶剤の含有量が、40〜85質量%であり、上記処理液のpHが8以上である。
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公开(公告)号：JPWO2019181475A1
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：JP2019008541
申请日：2019-03-05
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： B01D65/06 , B01D69/00 , B01D71/26 , B01D71/28 , B01D71/32 , B01D71/56 , B01D71/68 , B01D69/12 , B01D69/10 , C08J9/42 , B01D61/58
摘要： 優れた欠陥抑制性能を有する薬液を製造可能なろ過装置、精製装置、及び、薬液の製造方法の提供を課題とする。 ろ過装置は、流入部と、流出部と、フィルタAと、フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、を有し、フィルタA及びフィルタBは、流入部及び流出部の間に直列に配置され、流入部から流出部にいたる流通路を有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、フィルタAは、ポリフルオロカーボン製の多孔質基材と、多孔質基材を覆うように配置された親水性基を有する第1の樹脂を含有する被覆層と、を有する。
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公开(公告)号：JPWO2019181386A1
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：JP2019007308
申请日：2019-02-26
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： B01D69/00 , B01D71/26 , B01D71/36 , B01D71/56 , H01L21/027 , H01L21/304 , B01D71/64
摘要： 優れた欠陥抑制性能を有する薬液を製造可能なろ過装置の提供を課題とする。また、精製装置、及び、薬液の製造方法の提供も課題とする。ろ過装置は、流入部と、流出部と、フィルタAと、フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、フィルタA及びフィルタBが直列に配置された流入部から流出部にいたる流通路とを有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、フィルタAは、ポリイミド系樹脂を含有する多孔質膜である。
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公开(公告)号：JP6761469B2
公开(公告)日：2020-09-23
申请号：JP2018523645
申请日：2017-06-01
申请人： 富士フイルム株式会社
发明人： 上村 哲也
IPC分类号： C09G1/02 , B24B37/00 , H01L21/304 , C09K3/14
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