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    構造体、光センサおよび画像表示装置
    2.
    发明专利
    構造体、光センサおよび画像表示装置 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2020050265A1

    公开(公告)日：2021-08-30

    申请号：JP2019034601

    申请日：2019-09-03

    申请人： 富士フイルム株式会社

    发明人： 宮田 哲志

    IPC分类号： G02B5/22 ,  G02B5/26 ,  G02B5/28 ,  G02B5/20 ,  H01L27/146

    摘要： 赤外域に極大吸収波長を有し、吸収した赤外域の光に応じた電荷を発生する光電変換材料を含む赤外光光電変換層を含む赤外光光電変換素子300と、可視域の波長の光を吸収し、吸収した光に応じた電荷を発生する可視光光電変換素子200と、所定の波長の光を遮光および透過させる光学フィルタ400とが同一光路上に設けられており、かつ、この光学フィルタ400からの光の射出側に赤外光光電変換素子300および可視光光電変換素子200がそれぞれ設けられている構造体1。構造体1を含む光センサおよび画像表示装置。

    洗浄方法
    6.
    发明专利
    洗浄方法 有权

    公开(公告)号：JPWO2019167664A1

    公开(公告)日：2021-01-14

    申请号：JP2019005528

    申请日：2019-02-15

    申请人： 富士フイルム株式会社

    发明人： 吉林 光司 ,  宮田 哲志 ,  中村 貴之

    IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/304

    摘要： フォトリソグラフィにおける現像工程後の洗浄工程において、基板に残る残渣を好適に除去できる洗浄方法の提供を課題とする。洗浄方法は、フォトリソグラフィにおける現像工程を終了した基板を回転しつつ、洗浄液を吐出するノズルを、基板の回転の中心側から周縁側に移動して基板の洗浄を行うと共に、基板の回転中心からのノズルの距離に応じて、ノズルの移動速度を、中心側から周縁側に向かって低下する。

    組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
    8.
    发明专利
    組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ 有权

    公开(公告)号：JPWO2019155770A1

    公开(公告)日：2021-02-25

    申请号：JP2018046943

    申请日：2018-12-20

    申请人： 富士フイルム株式会社

    发明人： 宮田 哲志 ,  鶴田 拓也

    IPC分类号： C08F2/44 ,  G02B5/22 ,  H01L31/0232 ,  C09K3/00

    摘要： 近赤外線吸収顔料の分散安定性が良好で、かつ、異物欠陥の抑制された膜を製造できる組成物、前述の組成物を用いた膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供する。組成物は、近赤外線吸収顔料と溶剤とを含み、近赤外線吸収顔料が、同一の分子内にカチオンとアニオンとを有する色素化合物、カチオン性発色団と対アニオンとの塩である色素化合物、および、アニオン性発色団と対カチオンとの塩である色素化合物から選ばれる少なくとも1つであり、近赤外線吸収顔料の粒子径の粒度分布における累積体積が50%となるD50粒子径が100nm以下であり、近赤外線吸収顔料と溶剤とのハンセン溶解度パラメータのd値について所定の関係を満たす組成物である。