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公开(公告)号：JP2018172746A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072409
申请日：2017-03-31
Inventor： 櫻庭 雄樹 , 佐藤 敏明 , 栗栖 義信 , 中溝 浩行 , 中野 忠 , 山本 正樹 , ▲高▼橋 一郎 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
Abstract: 【課題】電気ヒータを用いる場合と比べてめっき鋼板等の被処理物を短時間で加熱して、黒色めっき鋼板等の生産効率を向上させることができる水蒸気処理方法を提供する。 【解決手段】被処理物1を密閉容器10中で水蒸気と接触させる水蒸気処理方法であって、被処理物1が内部に配置された密閉容器10と、密閉容器10と所定の間隔を空けて密閉容器10を覆う外側容器11との間で密閉容器10をガスバーナ24で加熱し、被処理物1を加熱する被処理物加熱工程と、被処理物加熱工程の後に、密閉容器10内に水蒸気を導入し、水蒸気と、被処理物1とを接触させる水蒸気処理工程とを備える。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2018151100A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017046461
申请日：2017-03-10
Inventor： 中溝 浩行 , ▲高▼橋 一郎 , 安田 豊治 , 栗栖 義信 , 山本 正樹 , 中野 忠 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
Abstract: 【課題】加圧下において被処理物を水蒸気に接触させて処理することが可能な密閉容器であって、めっき鋼板の生産効率を上げつつも被処理物の外観不良の発生を抑制することが可能な水蒸気処理用の密閉容器を提供する。 【解決手段】上部容器9には、天井部9Bと縦壁部9Aとのうち、天井部9Bの前記内部空間にのみ流体が流れる第1経路と、縦壁部9Aの前記内部空間にのみ流体が流れる第2経路とが形成されており、流体が流れる経路として第1経路及び第2経路が形成されているにもかかわらず、当該流体が冷却用流体であるときには第1経路を流れずに第2経路を流れるように構成されている。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2018172747A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072414
申请日：2017-03-31
Inventor： 上野 晋 , 中野 忠 , 山本 正樹 , ▲高▼橋 一郎 , 中溝 浩行 , 佐藤 敏明 , 栗栖 義信 , 安田 豊治 , 櫻庭 雄樹 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
IPC: C23C22/73
Abstract: 【課題】鋼板等の被処理物を、処理コストの増大を抑えつつ良好に水蒸気処理することができる水蒸気処理方法を提供する。 【解決手段】被処理物1を密閉容器10内で水蒸気と接触させることにより水蒸気処理製品を製造する方法であって、被処理物1が内部に配置され、かつ、所定量の水7が予め内部に貯留された密閉容器10内で、水7を加熱して水蒸気を発生させ、当該水蒸気と被処理物1とを接触させる水蒸気処理工程を少なくとも備えることを特徴とする。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2018172745A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072407
申请日：2017-03-31
Inventor： 栗栖 義信 , 中野 忠 , 佐藤 敏明 , 中溝 浩行 , 山本 正樹 , 安田 豊治 , ▲高▼橋 一郎 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
Abstract: 【課題】溶融Al、Mg含有Znめっき鋼板を密閉容器中で水蒸気と接触させて黒色めっき鋼板の製造方法に関し、めっき層を均一に黒色化してより見栄えの良い黒色めっき鋼板の製造装置および製造システムを提供する。 【解決手段】基材鋼板の表面に溶融Al、Mg含有Znめっき層を有するめっき鋼板1を配置可能な配置部12を有する密閉容器10と、前記密閉容器の内部の雰囲気ガスを加熱する加熱部24と、前記密閉容器の内部の雰囲気ガスを排気して大気圧未満にし得る排気部30と、前記密閉容器の内部に水蒸気を導入する水蒸気導入部40と、前記密閉容器の内部の雰囲気ガスを撹拌する攪拌部70と、露点がめっき鋼板温度未満のガスを導入するガス導入部50と、を備え、前記排気部は、前記密閉容器の内部から水蒸気を含む雰囲気ガスを排出することが可能な黒色めっき鋼板の製造装置。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2019131843A
公开(公告)日：2019-08-08
申请号：JP2018013082
申请日：2018-01-29
Applicant: 日鉄日新製鋼株式会社 , 日鉄日新工機株式会社 , 黒崎播磨株式会社
Abstract: 【課題】金属帯を巻いたコイルにおいて、巻かれる方向に沿って対向する対向面どうしの隙間が小さい場合であっても、対向面どうしの隙間における雰囲気ガスの流れを確保して、雰囲気ガスと金属帯との接触による所定の処理を適切に行う。 【解決手段】金属帯を巻いたコイル100,101を内部に配置可能な密閉容器10と、密閉容器内の雰囲気ガスをコイルの中心孔103,104に沿って移動させながら、雰囲気ガスを中心孔とコイルの外側との間で循環させるファン71と、コイルの軸方向両端部に配置され、当該軸方向両端部において、コイルの半径方向内側に向かって雰囲気ガスを導く整流板90とを備える。整流板によりコイルの半径方向内側に向かって雰囲気ガスが導かれることに伴い、金属帯が巻かれる方向に沿って対向する対向面どうしの隙間に雰囲気ガスの流れが形成される。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018150576A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017046457
申请日：2017-03-10
Inventor： 中溝 浩行 , ▲高▼橋 一郎 , 安田 豊治 , 栗栖 義信 , 山本 正樹 , 中野 忠 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
IPC: C23C2/28
Abstract: 【課題】加圧下において被処理物を水蒸気に接触させて処理することが可能な密閉容器であって、密閉容器内の温度制御を行いつつも被処理物の外観不良を防ぐことが可能な水蒸気処理用の密閉容器を提供する。 【解決手段】ドーム形の天井部9B及び該天井部9Bの端部から略鉛直方向下方に沿って延設された縦壁部9Aを有する上部容器9と、被処理物1が載置される下部容器8と、を備え、上部容器9と下部容器8とにより閉じられた後、加圧下において被処理物1に水蒸気を接触させて処理することが可能な密閉容器10であって、上部容器9には、当該上部容器9の外壁面に導入された流体の流路が、被処理物1から見て鉛直方向の上方の内側Wを回避する態様で形成されている。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2019056171A
公开(公告)日：2019-04-11
申请号：JP2018058868
申请日：2018-03-26
Inventor： 山本 正樹 , 栗栖 義信 , 佐藤 敏明 , 安田 豊治 , ▲高▼橋 一郎 , 中溝 浩行 , 中野 忠 , 辻 浩和 , 林田 隆秀 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 内山 匠 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
IPC: C23C8/16
Abstract: 【課題】水蒸気処理後の被処理物を速やかに冷却することにより、黒色めっき鋼板等の水蒸気処理製品の製造時間を短縮すること。 【解決手段】被処理物1が内部に配置された密閉容器10内に水蒸気を導入し、当該水蒸気と、被処理物1とを接触させる水蒸気処理工程と、水蒸気処理工程において水蒸気処理がなされた被処理物1を冷却する被処理物冷却工程と、を備える水蒸気処理製品の製造方法であって、被処理物冷却工程は、密閉容器10内に冷却用ガスを導入して当該冷却用ガスを被処理物1に接触させ、導入した冷却用ガスを密閉容器10から排出する工程であることを特徴とする。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2018172744A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072403
申请日：2017-03-31
Inventor： 櫻庭 雄樹 , 佐藤 敏明 , 栗栖 義信 , 中溝 浩行 , 中野 忠 , 山本 正樹 , ▲高▼橋 一郎 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
IPC: C23C8/16
Abstract: 【課題】ガスバーナを用いる場合と比べて被処理物を良好に水蒸気処理することができる水蒸気処理方法を提供する。 【解決手段】被処理物1を密閉容器10内で水蒸気と接触させる水蒸気処理方法であって、被処理物1が内部に配置された密閉容器10内の雰囲気ガスを電気ヒータ24により加熱し、加熱された雰囲気ガスを被処理物1に接触させることにより、被処理物1を加熱する被処理物加熱工程と、被処理物加熱工程の後に、密閉容器10内に水蒸気を導入し、水蒸気と被処理物1とを接触させる水蒸気処理工程とを備える。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2018172743A
公开(公告)日：2018-11-08
申请号：JP2017072391
申请日：2017-03-31
Abstract: 【課題】気密性が要求される密閉容器において、当該密閉容器を構成する上側分割体を、下側分割体との合体位置に精度よく位置合わせすることができる装置を提供する。 【解決手段】上側分割体9を下側分割体8の上方へ移動させる上方移動工程と、下側分割体8の上方に位置する上側分割体9を、第1ガイド機構81によって合体位置に向かって所定の位置精度でガイドして降下させる第1降下工程と、第1ガイド機構81によってガイドされて降下中の上側分割体9を、第2ガイド機構82によって第1ガイド機構81よりも高い位置精度でガイドして下側分割体8との合体位置に向かって降下させる第2降下工程とを少なくとも備える。 【選択図】図9
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公开(公告)号：JP2018150575A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017046449
申请日：2017-03-10
Inventor： 中溝 浩行 , ▲高▼橋 一郎 , 安田 豊治 , 栗栖 義信 , 山本 正樹 , 中野 忠 , 湯倉 義孝 , 太田 勉 , 梶本 真一 , 鈴木 昇 , 土山 雅彦 , 村井 裕輔
IPC: C23C8/16
Abstract: 【課題】加圧下において被処理物を水蒸気に接触させて処理することが可能な密閉容器であって、密閉容器内の温度制御(加熱・冷却)を積極的に行いつつも、密閉容器に対する熱分布の偏りを防ぎ、密閉容器の熱ひずみを抑制することが可能な水蒸気処理用の密閉容器を提供する。 【解決手段】下部容器8に対して上部容器9が閉じられた後、加圧下において被処理物1を水蒸気に接触させて処理することが可能な密閉容器10であって、上部容器9には、導入口202から排出口204に向かう流体の流路として、導入口202から排出口204に向けて複数の経路が形成されており、この複数の経路は、導入口202から排出口204に向かうまでに流体が接する表面積が略均等となるように構成されている。 【選択図】図2
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