カバーガラス
    4.
    发明专利
    カバーガラス 审中-公开

    公开(公告)号:JP2021092605A

    公开(公告)日:2021-06-17

    申请号:JP2019221422

    申请日:2019-12-06

    Abstract: 【課題】所望の領域において遮光性に優れ、かつ反射率が低い、カバーガラスを提供する。 【解決手段】撮像装置に用いられ、かつ遮光部1A及び透光部1Bを有するカバーガラス1であって、対向し合う第1の主面2a及び第2の主面2bを有するガラス基板2と、遮光部1Aにおいて、ガラス基板2の第1の主面2a上に設けられている遮光膜3と、遮光膜3上に設けられている反射防止膜4と、を備え、遮光膜3がクロム層3cと、窒化クロム層3dとを含み、クロム層3cと反射防止膜4との間に窒化クロム層3dが設けられている、カバーガラス1。 【選択図】図2

    ディスプレイのカバー部材及びその製造方法
    5.
    发明专利
    ディスプレイのカバー部材及びその製造方法 有权
    显示器用盖子及其制造方法

    公开(公告)号:JP2016153914A

    公开(公告)日:2016-08-25

    申请号:JP2016088965

    申请日:2016-04-27

    CPC classification number: G02B5/0294 G02B5/0221

    Abstract: 【課題】背景の映り込みが少なく、高い解像度を有するディスプレイを実現し得るディスプレイのカバー部材を提供する。 【解決手段】カバー部材1の一方の主面1aは、凹凸面2により構成されている。凹凸面2の粗さ曲線の平均傾斜角(θ)が0.5°〜1.5°である。凹凸面2の粗さ曲面のベアリングカーブにおいて、面積率が70%であるときの高さをH 1 とし、面積率が99%であるときの高さをH 2 とし、凹凸面のJIS B0601−2013で規定される算術平均粗さをRaとしたときに、(H 1 −H 2 )/Raが0.25以上である。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种用于显示器的盖构件,其可以抑制预期图像中的背景的不期望的外观并且具有高分辨率水平。解决方案:盖构件1的一个主面1a由凹凸面 凹凸面2的凹凸曲线的平均倾斜角(θ)为0.5°〜1.5°。 在凹凸面2的轴承曲线中,(HH)/ Ra为0.25或更大,其中,当面积比为70%时,His的高度,His的面积比为99%时的高度,以及 JIS B0601-2013规定的凹凸面为Ra.SELECTED DRAWING:图1

    バンドパスフィルタ及びその製造方法

    公开(公告)号:JP2020076850A

    公开(公告)日:2020-05-21

    申请号:JP2018209562

    申请日:2018-11-07

    Abstract: 【課題】電磁波遮蔽性を発揮させることのできるバンドパスフィルタ及びその製造方法を提供する。 【解決手段】バンドパスフィルタ11は、700nm以上、1200nm以下の波長領域の少なくとも一部に光を透過する透過帯を有する。バンドパスフィルタ11は、光透過性を有する基板12と、誘電体多層膜(第1の誘電体多層膜13及び第2の誘電体多層膜14)と、透明導電膜15とを有する。 【選択図】図1

    バンドパスフィルタ及びその製造方法

    公开(公告)号:JP2020071375A

    公开(公告)日:2020-05-07

    申请号:JP2018205415

    申请日:2018-10-31

    Abstract: 【課題】フィルタ特性を高めることを可能にしたバンドパスフィルタ及びその製造方法を提供する。 【解決手段】特定の波長領域の光を透過させるバンドパスフィルタ11は、光透過性を有する基板12と、基板12の第1主面S1側に設けられる第1の誘電体多層膜13と、第1主面S1とは反対側の第2主面S2側に設けられる第2の誘電体多層膜14とを有する。第1の誘電体多層膜13は、水素化シリコン層を含む。第2の誘電体多層膜14は、水素化シリコン層を含む。 【選択図】図1

    膜付き透明基板の製造方法
    10.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2019151431A1

    公开(公告)日:2021-01-28

    申请号:JP2019003468

    申请日:2019-01-31

    Abstract: 本発明は、金属層及び誘電体層を有する膜付き透明基板であっても、光の吸収率、特に可視光の吸収率の低い膜付き透明基板を作製することが可能な膜付き透明基板の製造方法を提供することを課題とする。 透明基板1上に金属層2を形成する金属層形成工程と、前記金属層2の前記透明基板1とは反対側に、前記金属層2に接して保護金属層5を形成する保護金属層形成工程と、スパッタリング法により、前記保護金属層5の前記透明基板1とは反対側に、前記保護金属層5に接して誘電体層4を形成する誘電体層形成工程とを備えることを特徴とする。

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