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公开(公告)号:JP5956198B2
公开(公告)日:2016-07-27
申请号:JP2012048177
申请日:2012-03-05
Applicant: 旭化成株式会社
Inventor: 伊藤 隆一
IPC: H01L31/054
CPC classification number: Y02E10/52
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公开(公告)号:JP2020111713A
公开(公告)日:2020-07-27
申请号:JP2019005458
申请日:2019-01-16
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】改善された製膜性を有する、透明なポリイミドワニスを提供すること。 【解決手段】(a)ポリイミド、と(b)2種以上の溶媒を含む混合溶媒、を含む、ポリイミドワニスであって、ハンセン溶解度パラメータ(HSP)の分散項δd、双極子項δp及び水素結合項δhであらわされる各パラメータにおいて、上記ポリイミドと上記混合溶媒の分散項と水素結合項が、下記数式1: {数式1中、δd PI は、上記ポリイミドの分散項であり、δh PI は、上記ポリイミドの水素結合項であり、δd solv は、上記混合溶媒の分散項であり、そしてδh solv は、上記混合溶媒の水素結合項である。}を満たす、ポリイミドワニス。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2017056734A
公开(公告)日:2017-03-23
申请号:JP2016225113
申请日:2016-11-18
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 【課題】ロールモール本体の周面に離型性を維持しつつ微細パターンの変形を抑制できる離型層を具備したロールモールドの製造方法を提供すること。 【解決手段】凸部(3)及び凹部(4)とで構成された凹凸構造で構成され、ピッチ1nm以上1μm以下の微細パターンを有するロールモールド本体(1)を用意する工程(1)と、ロールモールド本体(1)の周面に離型剤を直接被覆して離型層(5)を形成する工程(2)と、を具備する。ロールモールドにおいて、離型層(5)の膜厚が0.5nm以上10nm以下であって、かつ、膜厚の分布が±5.0%以下である。 【選択図】図4
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