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公开(公告)号：JP2017183493A
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：JP2016068190
申请日：2016-03-30
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/68
Abstract: 【課題】基板を損傷させることなく、適切に基板の位置調整を行うことができる。 【解決手段】基板(W)の周縁部を撮像する撮像部(270)と、前記撮像部により撮像された画像に基づき決められた前記基板の偏芯量に応じて、前記回転保持部(210)の中心に対する前記基板の保持位置を調整する保持位置調整機構(1800)と、を備え、前記保持位置調整機構は、前記基板が前記回転保持部に置かれた後、前記基板の下面のうち前記回転保持部との接触領域よりも外側の領域を支持しながら前記基板の保持位置を調整する。 【選択図】図18
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公开(公告)号：JP6584356B2
公开(公告)日：2019-10-02
申请号：JP2016068187
申请日：2016-03-30
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
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公开(公告)号：JP6562864B2
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2016068190
申请日：2016-03-30
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/304 , H01L21/027 , H01L21/306 , H01L21/68
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公开(公告)号：JP2017183492A
公开(公告)日：2017-10-05
申请号：JP2016068187
申请日：2016-03-30
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/02087 , B08B3/08 , H01L21/6704 , H01L21/6708 , H01L21/67253 , H01L21/67259 , G03B13/32 , G03B17/08 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 【課題】基板の周縁部に対向した位置に撮像装置を配置しても、良好な撮像ができるようにする。 【解決手段】基板(W)の周縁部の膜を除去する処理を行う基板処理装置(16)であって、前記基板を保持して回転させる回転保持部(210)と、前記回転保持部により基板が第1回転方向(R1)に回転しているとき、前記基板の周縁部に前記膜を除去するための第1処理液を供給する第1処理液供給部(250A)と、前記第1回転方向に関して前記基板における第1処理液の到達領域(902)よりも手前の位置に設置され前記基板の周縁部を撮像する撮像部(270)と、を備える。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2021064770A
公开(公告)日：2021-04-22
申请号：JP2019190275
申请日：2019-10-17
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027 , H02J50/12 , H01L21/02 , H01L21/306
Abstract: 【課題】回転する基板の温度を精度良く制御する。 【解決手段】基板処理装置は、基板を保持する回転ステージと、前記回転ステージを回転軸線回りに回転させる回転駆動部と、前記回転ステージに設けられた少なくとも1つの電気ヒータと、前記回転ステージに設けられ、前記電気ヒータに電気的に接続された少なくとも1つの受電コイルと、前記受電コイルに対して隙間を空けて前記回転軸線の方向に対面しうるように設置された少なくとも1つの給電コイルと、前記給電コイルに高周波電力を供給する高周波電源ユニットと、を備えている。 【選択図】図2
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2020057763A
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：JP2019063375
申请日：2019-03-28
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/683 , H05B3/68 , H05B3/02 , B08B3/02 , C25D7/12 , C25D17/00 , C25D21/10 , C25D17/06 , C25D17/08 , C25D21/00 , C25D21/02 , H01L21/304
Abstract: 【課題】回転テーブルに基板を保持した状態で基板の処理を行う基板処理において、基板温度の制御精度を向上させる。 【解決手段】基板処理装置は、基板を保持した回転テーブルを回転駆動機構と、回転テーブルと一緒に回転するように回転テーブルに設けられ基板を加熱する電気ヒーターと、回転テーブルと一緒に回転するように回転テーブルに設けられ、電気ヒーターに電気的に接続された受電電極と、受電電極と接触して受電電極を介して電気ヒーターに駆動電力を供給する給電電極と、給電電極と受電電極とを相対的に接離させる電極移動機構と、給電電極に駆動電力を供給する給電部と、回転テーブルの周囲を囲む処理カップと、基板に処理液を供給する少なくとも1つの処理液ノズルと、処理液ノズルに処理液を供給する処理液供給機構と、電極移動機構、給電部、回転駆動機構および処理液供給機構を制御する制御部とを備える。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2020053606A
公开(公告)日：2020-04-02
申请号：JP2018182832
申请日：2018-09-27
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/683
Abstract: 【課題】回転テーブルに基板を吸着した状態で基板の処理を行う基板処理装置において、回転テーブルのうちの基板と接触する部分を容易に交換可能とする。 【解決手段】基板処理装置は、少なくとも1つの吸引口が設けられた表面を有するベースプレートと、基板の非処理面に接触して基板を吸着する表面と、ベースプレートの表面と接触する裏面と、表面と裏面とを接続する少なくとも1つの貫通穴を有する吸着プレートとを備えた回転テーブルと、回転テーブルを回転軸線周りに回転させる回転駆動機構と、ベースプレートの吸引口に吸引力を作用させ、吸引力を前記ベースプレートと前記吸着プレートとの間に作用させることによりベースプレートと吸着プレートとを密着させ、かつ、少なくとも1つの貫通穴を介して吸引力を吸着プレートと基板との間に作用させることにより吸着プレートと基板とを密着させる吸引部とを備える。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2015084450A
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：JP2015002151
申请日：2015-01-08
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/306 , G01B11/26 , H01L21/304
Abstract: 【課題】基板の膜種、表面状態等に影響されることなく、基板の保持状態を正確に検出することができる基板処理装置を提供する。 【解決手段】基板を処理する基板処理装置において、基板が載置される載置台と、載置台に載置されている基板の周縁部を保持する保持部と、保持部に光を照射する光源と、保持部からの光量を検出することによって、保持部に保持されている基板の保持状態を検出する検出部と、載置台に載置されている基板に処理液を供給する処理液供給部とを有する。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够精确地检测基板的保持状态而不受基板的膜类型和表面状况等的影响的基板处理装置。解决方案：基板处理装置处理基板，包括： 放置基板，放置基板; 保持部，其保持放置在所述放置基板上的所述基板的周边部; 向保持部照射光的光源; 检测部，其检测来自保持部的光量，由此检测由保持部保持的基板的保持状态; 以及将处理液供给到放置在配置基板上的基板的处理液供给部。
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公开(公告)号：JPWO2020067246A1
公开(公告)日：2021-09-02
申请号：JP2019037766
申请日：2019-09-26
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: C23C18/31 , H01L21/304
Abstract: 基板処理装置は、基板を保持した回転テーブルを回転駆動機構と、回転テーブルと一緒に回転するように回転テーブルに設けられ基板を加熱する電気ヒーターと、回転テーブルと一緒に回転するように回転テーブルに設けられ、電気ヒーターに電気的に接続された受電電極と、受電電極と接触して受電電極を介して電気ヒーターに駆動電力を供給する給電電極と、給電電極と受電電極とを相対的に接離させる電極移動機構と、給電電極に駆動電力を供給する給電部と、回転テーブルの周囲を囲む処理カップと、基板に処理液を供給する少なくとも1つの処理液ノズルと、処理液ノズルに処理液として少なくとも無電解メッキ液を供給する処理液供給機構と、電極移動機構、給電部、回転駆動機構および処理液供給機構を制御する制御部とを備える。
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公开(公告)号：JP2020056095A
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：JP2019063374
申请日：2019-03-28
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/683 , H05B3/02 , H05B3/72 , C25D7/12 , C25D17/06 , C25D21/10 , C25D21/12 , C25D17/08 , C25D17/00 , C25D21/00
Abstract: 【課題】回転テーブルの回転に悪影響を及ぼすことなく、回転テーブルと一緒に回転する電装部品に対する電力供給、信号の送受信等を可能とする基板処理装置。 【解決手段】基板Wを保持して回転する回転テーブル100と、これと一緒に回転する電装部品と、第1電極部161Aであって、電装部品に複数の第1導電ライン148A、148B、149を介して電気的に接続されるとともに回転軸線の周囲に分布するように配置された複数の第1電極164Aを含む第1電極部と、電装部品に対する電力供給、信号の送受信等を行うための電気機器と、電気機器に複数の第2導電ライン168A、168B、169を介して電気的に接続されるとともに、複数の第1電極の各々に接触可能な位置に設けられた複数の第2電極164Bを含む第2電極部161Bと、第1電極部と第2電極部とを回転軸線の方向に相対的に移動させ、電極部を接離させる電極移動機構162とを備える。 【選択図】図2
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