公开(公告)号：JPWO2019012978A1

公开(公告)日：2020-07-02

申请号：JP2018024099

申请日：2018-06-26

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 森川 勝洋

IPC: B65G49/07 ,  H01L21/677

Abstract: 実施形態に係る基板搬送装置は、保持部(80)と、供給部(81)とを備える。保持部(80)は、おもて面(Wa)にパターンが形成されている基板を保持する。供給部(81)は、保持部(80)に保持される基板のおもて面(Wa)を局所的に低酸素状態にする不活性ガス(G)を基板のおもて面(Wa)に供給する。

公开(公告)号：JP6024433B2

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：JP2012269601

申请日：2012-12-10

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 森川 勝洋 ,  須中 郁雄 ,  榎木田 卓

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

公开(公告)号：JP2020057763A

公开(公告)日：2020-04-09

申请号：JP2019063375

申请日：2019-03-28

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 守田 聡 ,  飽本 正巳 ,  森川 勝洋 ,  水永 耕市

IPC: H01L21/683 ,  H05B3/68 ,  H05B3/02 ,  B08B3/02 ,  C25D7/12 ,  C25D17/00 ,  C25D21/10 ,  C25D17/06 ,  C25D17/08 ,  C25D21/00 ,  C25D21/02 ,  H01L21/304

Abstract: 【課題】回転テーブルに基板を保持した状態で基板の処理を行う基板処理において、基板温度の制御精度を向上させる。 【解決手段】基板処理装置は、基板を保持した回転テーブルを回転駆動機構と、回転テーブルと一緒に回転するように回転テーブルに設けられ基板を加熱する電気ヒーターと、回転テーブルと一緒に回転するように回転テーブルに設けられ、電気ヒーターに電気的に接続された受電電極と、受電電極と接触して受電電極を介して電気ヒーターに駆動電力を供給する給電電極と、給電電極と受電電極とを相対的に接離させる電極移動機構と、給電電極に駆動電力を供給する給電部と、回転テーブルの周囲を囲む処理カップと、基板に処理液を供給する少なくとも1つの処理液ノズルと、処理液ノズルに処理液を供給する処理液供給機構と、電極移動機構、給電部、回転駆動機構および処理液供給機構を制御する制御部とを備える。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2020053606A

公开(公告)日：2020-04-02

申请号：JP2018182832

申请日：2018-09-27

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 水永 耕市 ,  飽本 正巳 ,  守田 聡 ,  森川 勝洋

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/683

Abstract: 【課題】回転テーブルに基板を吸着した状態で基板の処理を行う基板処理装置において、回転テーブルのうちの基板と接触する部分を容易に交換可能とする。 【解決手段】基板処理装置は、少なくとも1つの吸引口が設けられた表面を有するベースプレートと、基板の非処理面に接触して基板を吸着する表面と、ベースプレートの表面と接触する裏面と、表面と裏面とを接続する少なくとも1つの貫通穴を有する吸着プレートとを備えた回転テーブルと、回転テーブルを回転軸線周りに回転させる回転駆動機構と、ベースプレートの吸引口に吸引力を作用させ、吸引力を前記ベースプレートと前記吸着プレートとの間に作用させることによりベースプレートと吸着プレートとを密着させ、かつ、少なくとも1つの貫通穴を介して吸引力を吸着プレートと基板との間に作用させることにより吸着プレートと基板とを密着させる吸引部とを備える。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2017224661A

公开(公告)日：2017-12-21

申请号：JP2016117464

申请日：2016-06-13

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 森川 勝洋 ,  林 徳太郎

IPC: B65G49/07 ,  B25J15/00 ,  H01L21/677

Abstract: 【課題】基板の一括搬送における不具合の予兆を把握すること。 【解決手段】実施形態に係る基板搬送装置は、第1搬送装置と、第2搬送装置と、検出部と、制御部と、記憶部とを備える。第1搬送装置は、複数枚の基板を多段に保持可能な第1保持部を有し、複数枚の基板を受渡部へ一括搬送する。第2搬送装置は、第1搬送装置によって受渡部へ載置された基板を1枚ずつ取り出して保持する第2保持部を有する。検出部は、第2保持部に保持された基板の保持位置を検出する。制御部は、検出部の検出結果に基づき、基板のズレ量を算出する。記憶部は、ズレ量を第1保持部の各段ごとに時系列に記憶する。また、制御部は、記憶部に記憶されたズレ量の変化に基づいて第1搬送装置の不具合を推定する。 【選択図】図8

公开(公告)号：JP6040883B2

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：JP2013152765

申请日：2013-07-23

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 森川 勝洋 ,  須中 郁雄 ,  中野 征二 ,  倉富 一紀 ,  島津 利郎

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67265 ,  H01L21/67772

公开(公告)号：JP3205980U

公开(公告)日：2016-08-25

申请号：JP2016002740

申请日：2016-06-13

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 森川 勝洋

IPC: B25J15/00 ,  H01L21/677

Abstract: 【課題】複数の基板を高い搬送信頼性をもって搬送することができる基板搬送装置を提供する。 【解決手段】本体部151と、本体部151から伸延し、各フォーク111〜115に形成された複数の通過孔119に挿通することで複数のフォーク111〜115の並びを揃えるための複数の位置決め部152と、を有するフォーク用位置決め治具150を用いて上下方向に多段に配置され、且つ基板を支持する複数のフォーク111〜115の並びを揃える。 【選択図】図4

Abstract translation: 提供一种基板传输设备的多个基板能够以高可靠性传输被输送。 并且通过插入形成在每个叉111-115的多个孔119的111〜115的主体部分151，从主体部分151中，用于对准的多个叉的序列的多个定位施放信 和部件152使用的是叉定位夹具150与布置在垂直方向上的多个级和对准多个111叉的对准以115用于支撑衬底。 点域4

公开(公告)号：JP6965378B2

公开(公告)日：2021-11-10

申请号：JP2020007202

申请日：2020-01-21

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 森川 勝洋 ,  林 徳太郎

IPC: B25J9/02 ,  B65G49/07 ,  B65G1/00 ,  H01L21/677

公开(公告)号：JP6899904B2

公开(公告)日：2021-07-07

申请号：JP2019529036

申请日：2018-06-26

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 森川 勝洋

IPC: B65G49/07 ,  H01L21/677

公开(公告)号：JP2021061362A

公开(公告)日：2021-04-15

申请号：JP2019185839

申请日：2019-10-09

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 古賀 貴広 ,  後藤 大輔 ,  森川 勝洋

IPC: H01L21/304

Abstract: 【課題】超音波が付与された処理液による洗浄性能が低下することを抑制することができる技術を提供する。 【解決手段】本開示の一態様による洗浄装置は、処理液ノズルと、センサ部と、判断部とを備える。処理液ノズルは、超音波を発生させる振動子および振動子に接合される振動体を有する超音波付与部と、超音波付与部によって超音波が付与された処理液を吐出口に供給する吐出流路とを有する。センサ部は、処理液ノズルが処理液を吐出する際に発生する事象を検知する。判断部は、センサ部で検知された事象に基づいて、処理液ノズルの異常を判断する。 【選択図】図1