公开(公告)号：JP2021111654A

公开(公告)日：2021-08-02

申请号：JP2020000926

申请日：2020-01-07

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 櫻井 宏紀 ,  後藤 大輔 ,  中澤 貴士 ,  ▲高▼松 祐助 ,  橋本 佑介

IPC: H01L21/306

Abstract: 【課題】混合液によるエッチング処理が終了する際に、混合部で突沸反応が発生することを抑制することができる技術を提供する。 【解決手段】本開示の一態様による基板処理装置は、昇温部と、混合部と、吐出部とを備える。昇温部は、硫酸を昇温する。混合部は、昇温された硫酸と、水分を含む液体とを混合して混合液を生成する。吐出部は、基板処理部内で基板に混合液を吐出する。また、混合部は、昇温された硫酸が流れる硫酸供給ラインと液体が流れる液体供給ラインとが合流する合流部と、合流部における昇温された硫酸と液体との反応を抑える反応抑制機構とを有する。 【選択図】図5

公开(公告)号：JP2021061362A

公开(公告)日：2021-04-15

申请号：JP2019185839

申请日：2019-10-09

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 古賀 貴広 ,  後藤 大輔 ,  森川 勝洋

IPC: H01L21/304

Abstract: 【課題】超音波が付与された処理液による洗浄性能が低下することを抑制することができる技術を提供する。 【解決手段】本開示の一態様による洗浄装置は、処理液ノズルと、センサ部と、判断部とを備える。処理液ノズルは、超音波を発生させる振動子および振動子に接合される振動体を有する超音波付与部と、超音波付与部によって超音波が付与された処理液を吐出口に供給する吐出流路とを有する。センサ部は、処理液ノズルが処理液を吐出する際に発生する事象を検知する。判断部は、センサ部で検知された事象に基づいて、処理液ノズルの異常を判断する。 【選択図】図1