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    気泡除去方法、気泡除去装置、脱気装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
    1.
    发明专利
    気泡除去方法、気泡除去装置、脱気装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 有权
    泡沫拆卸方法，泡沫拆卸装置，加料装置和计算机可读记录介质

    公开(公告)号：JP2015073915A

    公开(公告)日：2015-04-20

    申请号：JP2013209642

    申请日：2013-10-04

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 井関 智弘 ,  船越 秀朗 ,  戸塚 誠也

    IPC: H01L21/306 ,  B01D19/00

    CPC classification number: B01D19/0063 ,  B01D19/0036

    Abstract: 【課題】微小気泡をフィルタから除去することによりフィルタの性能を改善することが可能な気泡除去方法を提供する。 【解決手段】気泡除去方法は、供給源からの処理液の脱気を行い、高脱気液を作成するステップ(高脱気液作成)と、作成された高脱気液を、第1の処理液流量でポンプ装置P1からフィルタ装置F1に供給するステップ(仮通液)と、高脱気液を、第1の処理液流量よりも大きな第2の処理液流量でポンプ装置P1からフィルタ装置F1に供給するステップ(初期通液)と、ポンプ装置P1からフィルタ装置F1へと高脱気液を所定時間流したままとするステップ(通液)とを含む。 【選択図】図13

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种通过从过滤器去除微泡来提高过滤器性能的气泡去除方法。解决方案：气泡去除方法包括以下步骤：从供应源进行处理液体的脱气并制备高脱气液体 （高脱气液体制剂），以第一处理液体流量（临时渗透）将制备的高脱气液体从泵单元P1供给到过滤器单元F1，将制备的高脱气液体从泵单元P1供给到过滤器单元 F1的第二处理液体流量大于第一处理液体流速（初始渗透），并且将制备好的高沸点液体从泵单元P1供给到过滤器单元F1预定时间（渗透）。

    基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体
    5.
    发明专利
    基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018037645A

    公开(公告)日：2018-03-08

    申请号：JP2017086393

    申请日：2017-04-25

    Applicant: 東京エレクトロン株式会社

    Inventor： 畠山 真一 ,  渡邊 聖之 ,  西 幸三 ,  戸塚 誠也 ,  吉原 健太郎

    IPC: B05C11/10 ,  B05C11/00 ,  B05C11/08 ,  B05D1/26 ,  B05D1/40 ,  B05D3/00 ,  H01L21/027

    Abstract: 【課題】塗布膜の膜厚の均一性向上に有効な基板処理装置、基板処理方法及び記録媒体を提供する。 【解決手段】塗布・現像装置2は、ウェハWに処理液を吐出するノズル22と、ノズル22側に処理液を圧送する圧送部40と、圧送部40側からノズル22側に並ぶバルブ53,54を有し、圧送部40からノズル22に処理液を導く送液管路50と、コントローラ100とを備える。コントローラ100は、バルブ54が閉じ、圧送部40とバルブ53との間の圧力に比較してバルブ53とバルブ54との間の圧力が高い状態にてバルブ53を開くことと、バルブ53が開くことで低下したバルブ53とバルブ54との間の圧力を上昇させるように圧送部40を制御することと、バルブ53が開くことでバルブ53とバルブ54との間の圧力が低下した後にバルブ54を開くことと、を実行するように構成されている。 【選択図】図2

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