公开(公告)号：JP2021116318A

公开(公告)日：2021-08-10

申请号：JP2020008739

申请日：2020-01-22

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 大内 誠 ,  呉 東泳 ,  山崎 晃義 ,  川名 大助 ,  小室 嘉崇 ,  新井 雅俊 ,  道林 信弘 ,  稲荷 宇俊

IPC: C08F220/10 ,  C08F212/14 ,  C08F8/12 ,  C08F8/14 ,  C08F220/52

Abstract: 【課題】レジスト組成物用の基材として用いられる高分子化合物を製造するのに有用な交互共重合体の提供。 【解決手段】下式で表される構成(a0−1)と構成(a0−2)とを有する交互共重合体。式中、Rp 01 は、水素原子等である。Vp 01 は、単結合又は2価の連結基である。Rp 02 及びRp 03 は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭化水素基であるか、又は相互に結合して環を形成していてもよい。Rp 04 は、水素原子、C1−C5アルキル基又はC1−C5ハロゲン化アルキル基である。Rp 05 は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、シアノ基又は水酸基である。Rp 06 は、直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基である。n 1 は0〜4の整数である。 【選択図】なし