公开(公告)号：JP2018149538A

公开(公告)日：2018-09-27

申请号：JP2018043091

申请日：2018-03-09

Applicant: 株式会社三井E&Sホールディングス ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 富田 康弘 ,  山本 誠 ,  深谷 訓久 ,  崔 準哲 ,  片岡 ▲祥▼ ,  佐藤 一彦

IPC: C01B33/14 ,  C01B33/18 ,  C01B37/00 ,  C04B5/00 ,  B09B3/00

Abstract: 【課題】安価な原材料で高機能なシリカを製造可能な溶融スラグ処理方法を提供する。 【解決手段】 環境エネルギー施設から発生する溶融スラグに対し、特定濃度の酸を加えて、特定温度で溶解処理し、未溶解物を取得する。この際、酸の特定濃度は、3〜12Nであり、特定温度は、20〜100℃であり、特定時間は、10分以上であり、100mLの酸に対して、溶融スラグを3〜25gとする混合比で加えられる。処理された未溶解物である。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6954615B2

公开(公告)日：2021-10-27

申请号：JP2017231365

申请日：2017-12-01

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 青柳 圭哉 ,  大森 悠 ,  松本 和弘 ,  中島 裕美子 ,  島田 茂 ,  佐藤 一彦

IPC: C07F7/08

公开(公告)号：JP6938048B2

公开(公告)日：2021-09-22

申请号：JP2019195624

申请日：2019-10-28

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 松本 和弘 ,  島田 茂 ,  佐藤 一彦

IPC: C07F7/18

公开(公告)号：JP6893338B2

公开(公告)日：2021-06-23

申请号：JP2018539618

申请日：2017-08-30

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 渕瀬 啓太 ,  五十嵐 正安 ,  島田 茂 ,  佐藤 一彦

IPC: C08K5/29 ,  C08L83/04 ,  C08G77/08

公开(公告)号：JP6846736B2

公开(公告)日：2021-03-24

申请号：JP2016246389

申请日：2016-12-20

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 大森 悠 ,  松本 和弘 ,  中島 裕美子 ,  佐藤 一彦 ,  島田 茂

IPC: C07F7/08

公开(公告)号：JP6845503B2

公开(公告)日：2021-03-17

申请号：JP2017039618

申请日：2017-03-02

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 田中 真司 ,  田村 正則 ,  佐藤 一彦 ,  本倉 健 ,  南保 雅之 ,  池田 まりか

IPC: B01J35/10 ,  C07C69/738 ,  C07C67/30 ,  C07C43/215 ,  C07C41/16 ,  B01J31/24

公开(公告)号：JP2021001118A

公开(公告)日：2021-01-07

申请号：JP2019113966

申请日：2019-06-19

Applicant: 公立大学法人大阪 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 中沢 浩 ,  小林 克彰 ,  田口 大輔 ,  中島 裕美子 ,  佐藤 一彦

IPC: B01J31/22 ,  C07F7/08 ,  C07F7/18 ,  C07D213/53

Abstract: 【課題】オレフィン化合物及びカルボニル化合物のヒドロシリル化反応の触媒として利用することのできる金属錯体を提供する。 【解決手段】式(A)で表される、イミノビピリジンコバルト錯体。 (式中、R 1 及びR 2 は、水素、ハロゲン、C1〜6の脂肪族炭化水素基又はC6〜10の芳香族炭化水素基;R 3 は、水素、C1〜10の脂肪族炭化水素基又はC6〜10の芳香族炭化水素基;R 4 は、水素、C1〜20の脂肪族炭化水素基又はC6〜20の芳香族炭化水素基;Xは、ハロゲン又はC2〜8のアシルオキシ基;隣接する2つのR 1 、2つのR 2 、又はR 1 とR 2 は、互いに連結して環状構造を形成してもよい。) 【選択図】なし

公开(公告)号：JPWO2019131600A1

公开(公告)日：2020-12-24

申请号：JP2018047501

申请日：2018-12-25

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 深谷 訓久 ,  崔 星集 ,  崔 準哲 ,  堀越 俊雄 ,  片岡 ▲祥▼ ,  ゲェン テュイ ,  佐藤 一彦

IPC: B01J23/02 ,  C07F7/04

Abstract: テトラアルコキシシランを省エネルギーかつ高収率で製造することができる方法を提供することを目的とする。アルコールと酸化ケイ素を反応させてテトラアルコキシシランを生成する反応を酸化カルシウムの存在下で行うことにより、テトラアルコキシシランを高収率で製造することができる。

公开(公告)号：JPWO2019131518A1

公开(公告)日：2020-12-10

申请号：JP2018047272

申请日：2018-12-21

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 深谷 訓久 ,  崔 星集 ,  崔 準哲 ,  堀越 俊雄 ,  片岡 ▲祥▼ ,  ゲェン テュイ ,  佐藤 一彦

IPC: C07F7/04

Abstract: テトラアルコキシシランを省エネルギーかつ高収率で製造することができる方法を提供する。アルコールと酸化ケイ素を脂肪族炭化水素溶媒の存在下で反応させる第一工程、及び前記第一工程で得られた反応混合物の気化成分をモレキュラーシーブに接触させる第二工程を含むことによって、テトラアルコキシシランを高収率で製造することができる。

公开(公告)号：JPWO2019054498A1

公开(公告)日：2020-11-05

申请号：JP2018034239

申请日：2018-09-14

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 佐藤 靖 ,  五十嵐 正安 ,  佐藤 一彦 ,  島田 茂

IPC: B01J31/24 ,  C07F7/08

Abstract: アルコキシシリル基又はトリオルガノシロキシ基を有するオルガノシロキサンを効率良く製造することができるオルガノシロキサンの製造方法を提供することを目的とする。銅錯体の存在下で下記式(a)で表される構造を有するシラノールと下記式(b)で表される構造を有するヒドロシランを反応させることにより、アルコキシシリル基又はトリオルガノシロキシ基を有するオルガノシロキサンを効率良く製造することができる。 (式(b)及び(c)中、Rはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数1〜20の炭化水素基、又は−SiR’ 3 (R’はそれぞれ独立して炭素数1〜20の炭化水素基)を表す。)