成膜装置
    9.
    发明专利
    成膜装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2018193597A

    公开(公告)日:2018-12-06

    申请号:JP2017100105

    申请日:2017-05-19

    Abstract: 【課題】基板のたわみを抑制し、均一な膜厚で蒸着を行うことができる成膜装置を提供する。また、設置面積が小さい成膜装置を提供する。 【解決手段】基板面を鉛直に支持し、蒸着源を移動させながら蒸着を行う成膜装置である。基板を鉛直に支持することによって、基板のたわみを抑制することができ、蒸着源を移動させながら蒸着を行うことによって、膜厚が均一な成膜を行うことができる。また、基板面を鉛直に支持し、蒸着源を移動させる構成にすることで、成膜装置の大きさを小さくすることができる。 【選択図】図1

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