Patent search ap:("株式会社日立ハイテク") AND inv:"ヒンブルルークジョセフ" Page 1

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发明专利
プラズマ処理装置有权

公开(公告)号：JP6902991B2

公开(公告)日：2021-07-14

申请号：JP2017242308

申请日：2017-12-19

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： ヒンブルルークジョセフ , 園田靖 , 植村崇 , 市丸朋祥 , 佐々木惇也

IPC: H01L21/31 , C23C16/511 , C23C16/455 , H05H1/46 , H01L21/3065

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