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公开(公告)号：JPWO2020095531A1
公开(公告)日：2021-09-30
申请号：JP2019035369
申请日：2019-09-09
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 本開示は、以下に、試料の状態によらず、適切に装置条件を設定することを目的とする荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の調整方法を提案する。本開示では、画像のコントラストとブライトネスを調整する方法、システムであって、第1の荷電粒子ビーム(第1の断続条件のビーム)の走査によって得られる画像に含まれるパターンの輝度が所定値となるように、荷電粒子線装置の信号処理装置のオフセット調整を行い(ステップ112)、前記第1の荷電粒子ビームとは照射時間、照射距離、照射点間遮断時間、及び照射点間距離の少なくとも1つが異なるパルス状ビーム(第2の断続条件のビーム)である第2の荷電粒子ビームの走査によって得られる画像に含まれるパターンの輝度が、所定値となるように前記信号処理装置のゲイン調整を行う(ステップ114)方法、及びシステムを提案する。
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公开(公告)号：JP2021027271A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2019146173
申请日：2019-08-08
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 【課題】容量特性を含めた試料の電気特性を推定可能な荷電粒子線装置および荷電粒子線検査システムを提供する。 【解決手段】荷電粒子線装置は、ネットリストのノードと試料SPL上の座標との対応関係を表す対応データ(210)と、試料に荷電粒子線をパルス状に照射する際のパルス化条件(205)等を用いて試料の電気特性を推定する。荷電粒子線光学系(223)は、試料上の所定の座標に対し、パルス化条件に基づく荷電粒子線を照射し、検出器219は、それに応じた電子の放出量を実測する。放出量演算部227は、所定の座標に対応するネットリスト上のノードに対してパルス化条件に基づき荷電粒子線を照射した条件で、それに伴う帯電状態の時間的変化に応じた電子の放出量を演算する。比較器230は、検出器219による実測結果と放出量演算部227による演算結果とを比較する。 【選択図】図2B
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公开(公告)号：JP2021197257A
公开(公告)日：2021-12-27
申请号：JP2020101998
申请日：2020-06-12
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 【課題】荷電粒子ビーム装置における撮像画像のブライトネス(B)およびコントラスト(C)を調整する機能に関して、スループットとロバストネスとを両立できる技術を提供する。 【解決手段】荷電粒子ビーム装置は、試料を撮像して得る画像のBおよびCを調整する機能(ABCC機能)を有するコンピュータシステムを備える。コンピュータシステムは、試料の撮像対象について撮像して得た第1画像を評価した結果に基づいて、調整の要否を判定し(ステップS2)、判定の結果に基づいて、要の場合には、撮像対象の第2画像について調整を実行して調整後のB値およびC値を設定し(ステップS4)、調整後の設定値に基づいて撮像対象についての第3画像を撮像して観察用の画像を生成する(ステップS5)。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JPWO2019207668A1
公开(公告)日：2021-05-13
申请号：JP2018016741
申请日：2018-04-25
Applicant: 株式会社日立ハイテク
Abstract: 本開示は、パルス状のビームの照射点間距離と照射点間間隔の特定が可能な荷電粒子線装置の提案を目的とする。 ビームを走査する走査偏向器(2)を有し、当該走査偏向器によって走査されるビームをパルス状に試料に照射するビームカラムを備えた荷電粒子線装置であって、検出器(4)の出力に基づいて得られる画像の1以上の特定領域の特徴量が所定の状態となるように前記パルス状のビームの照射点間距離を設定し、当該設定された照射点間距離が設定された状態、或いは当該特定された照射点間距離に基づいて定められる複数の照射点間距離が設定された状態にて、前記パルス状ビームの照射点間時間を変化させ、前記検出器の出力に基づいて得られる画像の複数の特定領域の特徴量が所定の状態となる照射点間時間でビーム照射する荷電粒子線装置を提案する。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2021039826A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2019158502
申请日：2019-08-30
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , G01N23/2251 , H01L21/66 , H01J37/22
Abstract: 【課題】従来の手法では測定できなかったデバイスの電気特性を測定すること。 【解決手段】荷電粒子線装置1は、荷電粒子線条件と光条件と電子デバイス回路情報とが入力される入出力器50と、電子線条件に基づき試料に照射する荷電粒子線を制御する荷電粒子線制御系と、光条件に基づき試料に照射する光を制御する光制御系と、荷電粒子線及び光の照射により試料から放出される二次電子を検出し、検出信号を出力する検出器25と、電子デバイス回路情報に基づき演算用ネットリストを生成し、演算用ネットリスト及び光条件に基づき光照射時ネットリストを生成し、光照射時ネットリスト及び荷電粒子線条件に基づき荷電粒子線及び光が試料に照射されたときの第1の照射結果を推定し、第1の照射結果と電子線条件に基づき実際に試料に荷電粒子線及び光が照射されたときの第2の照射結果とを比較する演算器31と、を備える。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021027273A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2019146177
申请日：2019-08-08
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , H01J37/22 , G01N23/2251 , H01L21/66
Abstract: 【課題】装置間における試料に対する荷電粒子線照射結果の誤差を低減すること。 【解決手段】演算器は、校正試料24に対応する計算用デバイスモデルに基づき演算用ネットリストを生成し、演算用ネットリスト及び光学条件に基づき光学条件で荷電粒子線が校正試料24に照射されたときの第1の照射結果を推定し、第1の照射結果と光学条件で校正試料に荷電粒子線が照射されたときの検出信号に基づく第2の照射結果とを比較し、第1の照射結果と第2の照射結果とが異なる場合、光学条件の校正を行う。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2021025959A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2019146172
申请日：2019-08-08
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , H01J37/22 , G01N23/2251
Abstract: 【課題】試料の内部デバイス構造を推定可能な荷電粒子線装置を提供する。 【解決手段】荷電粒子線装置は、電子線光学系120と、検出器117と、演算器127と、を有する。電子線光学系120は、試料SPL上の位置的または時間的に異なる複数の照射点に電子線を照射する。検出器117は、電子線光学系120による電子線の照射に応じて試料SPLから放出された電子を検出する。演算器127は、複数の照射点において検出器117によって検出された電子から、照射点間の依存関係を演算する。 【選択図】図1B
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公开(公告)号：JP2021039844A
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：JP2019158941
申请日：2019-08-30
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , G01N23/2251 , H01L21/66 , H01J37/22
Abstract: 【課題】試料表面に形成された層の膜厚が薄く観察像のコントラストが得にくい場合であっても、試料表面の材料や形状を明確に識別することができる荷電粒子線装置を提供する。 【解決手段】荷電粒子線装置は、試料に対して光を照射する場合において、複数の光照射条件で光を照射することにより、放出される2次荷電粒子の信号量を変化させ、変化した信号量にしたがって、試料の材料または試料の形状のうち少なくともいずれかを判定する。 【選択図】図2B
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公开(公告)号：JP2021027272A
公开(公告)日：2021-02-22
申请号：JP2019146175
申请日：2019-08-08
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: H01J37/28 , H01J37/22 , G01N23/2251 , H01L21/66
Abstract: 【課題】複数デバイス間の相互作用を考慮した電気特性の推定を短時間で行うこと。 【解決手段】荷電粒子線装置は、試料23の回路を推定するための計算用デバイスモデル及び試料23に照射される荷電粒子線の光学条件を格納するデータベース42と、光学条件に基づき試料23に照射する荷電粒子線を制御する荷電粒子線光学系と、荷電粒子線の照射により試料23から放出される二次電子を検出し、二次電子に基づく検出信号を出力する検出器25と、計算用デバイスモデルに基づき演算用ネットリストを生成し、演算用ネットリスト及び光学条件に基づき荷電粒子線が試料23に照射されたときの第1の照射結果を推定し、第1の照射結果と光学条件に基づき試料23に荷電粒子線が照射されたときの第2の照射結果とを比較する演算器と、を備える。 【選択図】図2
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