公开(公告)号：JP2020161262A

公开(公告)日：2020-10-01

申请号：JP2019057661

申请日：2019-03-26

Applicant: 株式会社日立ハイテクサイエンス

Inventor： 小堺 智一 ,  川浪 義実 ,  武藤 博幸 ,  中島 陽子 ,  守谷 宏範 ,  松原 信一

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/08 ,  H01J27/26 ,  H01J9/14 ,  H01J9/02

Abstract: 【課題】トリートメントによる原子の再配列によって、その最先端の結晶構造を再現性良く元の状態に戻すことができると共に、トリートメント後の引出電圧の上昇を抑制でき、長く使用し続けることができるエミッタを得ること。 【解決手段】先鋭化された針状のエミッタを作製する方法であって、導電性のエミッタ素材の先端部を電解研磨加工し、先端に向かって漸次縮径するように加工する電解研磨工程と、先端部を頂点とした先鋭部における先端の結晶構造を電界イオン顕微鏡で観察しながら、印加電圧を一定に保持した状態による電界誘起ガスエッチング加工により該先端をさらに先鋭化させ、その最先端を構成する原子数を一定数以下とさせるエッチング工程と、を備えている。 【選択図】図5