公开(公告)号：JPWO2017221362A1

公开(公告)日：2019-04-11

申请号：JP2016068603

申请日：2016-06-23

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 中村 光宏 ,  板橋 洋憲 ,  佐藤 博文 ,  齋藤 勉 ,  笹島 正弘 ,  津野 夏規 ,  中村 洋平

IPC: H01J37/073 ,  H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

Abstract: 高真空環境下の非導電性試料に対しても安定した二次粒子や電磁波を検出し良好な観察や分析が可能な荷電粒子線装置を提供するために、荷電粒子銃12と、荷電粒子線20を試料21上で走査する走査偏向器(17、18)と、走査偏向器へ外部から入力される走査制御電圧を検出する検出部(40、41)と、検出された走査制御電圧に基づいて荷電粒子線の照射画素座標を算出する演算部42と、照射画素座標に応じて荷電粒子線の試料への照射を制御する照射制御部45と、を有する荷電粒子線装置とする。

公开(公告)号：JP5857154B2

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：JP2015512384

申请日：2014-03-27

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 藤村 一郎 ,  尾吹 友晴 ,  佐藤 博文 ,  小林 大祐

IPC: H01J37/248 ,  H01J37/28 ,  H01J37/153 ,  H01J37/073

CPC classification number: H01J37/073 ,  H01J37/241 ,  H01J37/243 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/31749

公开(公告)号：JPWO2018193605A1

公开(公告)日：2020-02-27

申请号：JP2017015961

申请日：2017-04-21

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 沼田 由起 ,  佐藤 博文 ,  川俣 茂

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/28

Abstract: 操作者の経験に基づくトライアンドエラーに陥ることなく荷電粒子線装置にて所望の画質(コントラスト等)の画像を取得できるよう、操作者の観察条件設定を補助する。このため、試料を戴置するステージ115と、荷電粒子ビームを試料に照射する荷電粒子光学系と、荷電粒子ビームと試料との相互作用により発生する電子を検出する検出器121,122と、操作者により設定される観察条件にしたがってステージ及び荷電粒子光学系を制御し、検出器からの検出信号に基づき画像を形成する制御部103と、観察条件を設定するための観察アシスト画面を表示するディスプレイ104とを有する荷電粒子線装置であって、制御部は、観察条件において荷電粒子光学系により試料に照射される1画素あたりの照射電子量に関する情報510を、観察アシスト画面401に表示する。

公开(公告)号：JP6586525B2

公开(公告)日：2019-10-02

申请号：JP2018523220

申请日：2016-06-23

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 中村 光宏 ,  板橋 洋憲 ,  佐藤 博文 ,  齋藤 勉 ,  笹島 正弘 ,  津野 夏規 ,  中村 洋平

IPC: H01J37/073 ,  H01J37/244 ,  H01J37/04 ,  H01J37/28

公开(公告)号：JP6016938B2

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：JP2014544478

申请日：2013-10-25

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 竹内 秀一 ,  笹島 正弘 ,  佐藤 博文 ,  幸山 和弘

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/09 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28