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公开(公告)号：JP6227466B2
公开(公告)日：2017-11-08
申请号：JP2014082640
申请日：2014-04-14
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: H01L22/12 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01L21/0332 , H01L21/0335 , H01L21/0337 , H01L21/0338 , H01L22/00 , H01J2237/221 , H01J2237/24592 , H01J2237/2809 , H01J2237/2814 , H01J2237/2817
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公开(公告)号：JP6134366B2
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：JP2015202843
申请日：2015-10-14
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G01B15/04
CPC classification number: G06T7/0004 , G06T7/001 , H01J37/222 , H01J37/28 , G06T2207/30141 , G06T2207/30152 , H01J2237/24578 , H01J2237/24592 , H01J2237/2817 , H01L22/12 , H01L2924/0002
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公开(公告)号：JPWO2017042932A1
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2015075720
申请日：2015-09-10
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G06T7/001 , G01N21/95692 , G01N23/2251 , G03F1/44 , G03F7/70625 , G06T2207/30148 , H01L21/67288
Abstract: 製造工程の状態あるいは素子の性能に関係するパターンを定量的に評価可能な検査装置を提供するために柱状パターンが一定の間隔で形成された試料のトップダウン画像を解析する画像解析部を備え、画像解析部240は、近似した楕円の長径、短径、離心率、長径方向が画像水平軸方向となす角度を第一の指標として求める演算部243と、試料上の柱状ターンの輪郭線の周長および周長の二乗を4πと輪郭線で囲まれた面積とを乗じた値で割った値を第二の指標として求めるCr演算部248と、を有する検査装置とする。
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公开(公告)号：JP6492185B2
公开(公告)日：2019-03-27
申请号：JP2017538794
申请日：2015-09-10
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01L21/66
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公开(公告)号：JP6129651B2
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：JP2013122614
申请日：2013-06-11
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: G01B15/04 , H01J37/222 , G01B2210/56 , H01J2237/22 , H01J2237/24592 , H01J2237/28 , H01J2237/2809 , H01J2237/2817
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016126823A
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：JP2014263803
申请日：2014-12-26
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/28 , H01L21/66 , G01N23/225 , H01J37/22
Abstract: 【課題】本発明は、オペレータのスキルレベルや画質等に依らず、適正な傾斜ビームの照射条件を設定するビーム条件設定装置を提案する 【解決手段】本発明では、荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを傾斜して照射する荷電粒子線装置のビーム照射条件を設定するビーム照射条件設定装置であって、前記荷電粒子ビームによる観察点、前記荷電粒子ビームの傾斜角度、及び当該傾斜した荷電粒子ビームの傾斜方向の少なくとも2つの情報を設定に基づいて、前記試料の設計データを参照して、前記少なくとも2つの情報に基づいて設定されるビーム照射軌道が、前記試料上に形成されているパターンに遮蔽されるか否かを判定するビーム条件設定装置を提案する。 【選択図】図9
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于设置倾斜光束的适当照射条件的光束条件设置装置，而与操作人员的技能水平，图像质量等无关。解决方案：在用于设置光束照射条件的光束照射条件设置装置中， 带电粒子束装置，用于在从带电粒子源发射的带电粒子束的同时，基于带电粒子束的观察点的至少两个信息倾斜带电粒子束来照射样本， 带电粒子束和倾斜带电粒子束的倾斜方向，通过参考样本的设计数据来确定基于至少两个信息设置的束照射轨迹是否被样品上形成的图案屏蔽。 选择图：图9
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公开(公告)号：JP2016028252A
公开(公告)日：2016-02-25
申请号：JP2015202843
申请日：2015-10-14
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G01B15/04
CPC classification number: G06T7/0004 , G06T7/001 , H01J37/222 , H01J37/28 , G06T2207/30141 , G06T2207/30152 , H01J2237/24578 , H01J2237/24592 , H01J2237/2817 , H01L22/12 , H01L2924/0002
Abstract: 【課題】スカムのような欠陥を、高速且つ高精度に検出することが可能な画像処理装置を提供する。 【解決手段】画像からパターンの形状を検査する検査部を備えた画像処理装置であって、検査部は、画像から抽出されるプロファイル波形に基づいて4506、画像内に含まれるエッジについて複数の輪郭線を抽出し4507、輪郭線の数に応じて前記画像の中から検査対象を選択する4509。 【選択図】図45
Abstract translation: 要解决的问题：提供能够高精度地检测高速浮渣等浮渣的图像处理装置。解决方案：在包括用于检查图像的图案形状的检查部的图像处理装置中，检查部提取 基于从图像4506提取的轮廓波形，相对于包括在图像4507中的边缘的多条轮廓线，并且从对应于轮廓线数4509的图像内部选择检查对象。选择图：图45
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公开(公告)号：JP6118505B2
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：JP2012085122
申请日：2012-04-04
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G01N23/225 , H01L21/027 , H01J37/22 , G01B15/00
CPC classification number: H01J37/265 , H01J2237/221 , H01J2237/24578 , H01J2237/2817
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公开(公告)号：JP2015203614A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：JP2014082640
申请日：2014-04-14
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: H01L22/12 , H01J37/244 , H01J37/285 , H01L21/0332 , H01L21/0335 , H01L21/0337 , H01L21/0338 , H01L22/00
Abstract: 【課題】SADPを複数回用いて形成された微細ライン&スペースパターンであってもイニシャルコアの位置を高精度に特定可能な荷電粒子線装置を提供する。 【解決手段】荷電粒子線装置において、複数のライン状パターンを有する試料807への荷電粒子線の照射により試料から放出された二次荷電粒子を検出する検出器810と、二次荷電粒子の信号に基づく試料の表面の画像データを表示する表示部817と、画像データから複数のライン状パターンに対するLER値を算出する算出部812と、その値同士を比較してイニシャルコアの位置を判定する判定部816とを有する。 【選択図】図8
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够精确地识别初始核的位置的带电粒子束装置，即使在通过使用SADP形成的细线和空间图案中也可以多次。解决方案：带电粒子束装置包括：检测器 810，用于通过将带电粒子束辐射到样品807，检测从具有多个线状图案的样品807发射的二次带电粒子; 显示单元817，用于基于二次带电粒子的信号在样品的表面上显示图像数据; 计算单元812，用于基于图像数据计算多个线状图案的LER值; 以及确定单元816，用于通过彼此比较来确定初始核心的位置。
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