Patent search ap:("株式会社日立製作所") AND inv:"博幸武藤" Page 1

1.

发明专利
Projection-type ion beam processing apparatus 有权

公开(公告)号：JP4221817B2

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：JP12958099

申请日：1999-05-11

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 博幸武藤 , 亨石谷 , 祐一間所

IPC: H01J37/09 , H01J37/30

2.

发明专利
Ion beam processing apparatus 有权

公开(公告)号：JP5067296B2

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：JP2008188040

申请日：2008-07-22

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 毅大西 , 馨梅村 , 博幸武藤 , 亨石谷

IPC: H01J37/317

3.

发明专利
Ion beam apparatus and sample processing method 有权

公开(公告)号：JP3597761B2

公开(公告)日：2004-12-08

申请号：JP2000217096

申请日：2000-07-18

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 博幸武藤 , 亨石谷 , 祐一間所

IPC: C23F4/00 , G21K7/00 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01L21/302 , H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/3056 , H01J37/28 , H01J37/304 , H01J2237/206 , H01J2237/21 , H01J2237/3174 , H01J2237/31749

4.

发明专利
Beam machining method and a focused ion beam apparatus 有权

公开(公告)号：JP4246311B2

公开(公告)日：2009-04-02

申请号：JP1210099

申请日：1999-01-20

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 広靖加賀 , 恵川上 , 博幸武藤

IPC: H01J37/22 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01L21/027

5.

发明专利
Ion beam processing apparatus 有权

公开(公告)号：JP4186335B2

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：JP25840199

申请日：1999-09-13

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 毅大西 , 馨梅村 , 博幸武藤 , 亨石谷

IPC: H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/317

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