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公开(公告)号：JP2021002686A
公开(公告)日：2021-01-07
申请号：JP2020168861
申请日：2020-10-06
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 【課題】 2流体洗浄を行うときに、カバーからの液滴の跳ね返りを抑え、液滴が基板 の表面に再付着するのを防ぐことのできる基板洗浄装置を提供する。 【解決手段】 基板洗浄装置18は、基板Wを保持する基板保持機構1と、基板保持機 構1に保持された基板Wを回転させる基板回転機構2と、基板Wの表面に向けて2流体ジ ェットを噴出させる2流体ノズル46と、基板の周囲に配置されるカバーと、カバーを回 転させるカバー回転機構を備える。カバー回転機構は、基板と同一の回転方向にカバーを 回転させる。 【選択図】 図4
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公开(公告)号：JP2018006389A
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：JP2016127058
申请日：2016-06-27
Applicant: 株式会社荏原製作所
Inventor： 前田 幸次 , 下元 博 , 山口 都章 , 青野 弘 , 八嶋 哲也 , 磯川 英立 , 新海 健史 , 稲葉 充彦 , 橋本 幸一 , 國澤 淳次 , 宮崎 充 , 豊増 富士彦
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02096 , H01L21/0201 , H01L21/02046 , H01L21/02068 , H01L21/02076 , H01L21/02085 , H01L21/02087 , H01L21/67017 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/6719 , H01L21/67219
Abstract: 【課題】異なる種類の洗浄モジュールの入れ換え作業にかかる負担を低減できる洗浄装置及び基板処理装置の提供。 【解決手段】洗浄処理を行う複数種の洗浄モジュール31(31A,31B)と、複数種の洗浄モジュール31を収容可能な第1の収容部と、第1の収容部に収容された洗浄モジュール31に配管63を介して流体を供給する流体供給部60と、を備え、複数種の洗浄モジュール31のそれぞれは、配管63との接続位置が共通の配管接続部70を備える、という構成を採用する。 【選択図】図8
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公开(公告)号：JP2019169731A
公开(公告)日：2019-10-03
申请号：JP2019108364
申请日：2019-06-11
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304
Abstract: 【課題】2流体洗浄を行うときに、カバーからの液滴の跳ね返りを抑え、液滴が基板の表面に再付着するのを防ぐことのできる基板洗浄装置を提供する。 【解決手段】基板洗浄装置18は、基板Wを保持する基板保持機構1と、基板保持機構1に保持された基板Wを回転させる基板回転機構2と、基板Wの表面に向けて2流体ジェットを噴出させる2流体ノズル46と、基板の周囲に配置されるカバーと、カバーを回転させるカバー回転機構を備える。カバー回転機構は、基板と同一の回転方向にカバーを回転させる。 【選択図】図4
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公开(公告)号：JP2019036640A
公开(公告)日：2019-03-07
申请号：JP2017157146
申请日：2017-08-16
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B37/34 , H01L21/304 , H01L21/683
Abstract: 【課題】基板にダメージを与えることなくテーブルから脱着させる。 【解決手段】形態1によれば、基板処理装置が提供され、かかる基板処理装置は、基板を保持するためのテーブルと、前記テーブルの周囲に配置され、基板を前記テーブルに配置および前記テーブルから離脱させるための、前記テーブルの表面に垂直な方向に移動可能な複数のリフトピンと、前記リフトピンを前記テーブルの表面に垂直な方向に移動させるためのモータを有する駆動機構と、前記駆動機構を制御するための制御装置と、を有し、前記制御装置は、前記リフトピンを第1速度および前記第1速度とは異なる第2速度で移動可能に構成される。 【選択図】図7
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6295023B2
公开(公告)日：2018-03-14
申请号：JP2012221488
申请日：2012-10-03
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051
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公开(公告)号：JP6250924B2
公开(公告)日：2017-12-20
申请号：JP2012220613
申请日：2012-10-02
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67092 , B24B37/04 , B24B37/34 , H01L21/67051 , H01L21/67219
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公开(公告)号：JP2021034611A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2019154728
申请日：2019-08-27
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B25J19/00 , H01L21/677
Abstract: 【課題】パーティクルを安定して排気することができる搬送装置および基板処理装置を提供する。 【解決手段】洗浄部搬送装置32aは、ハウジング排気口と、ウェハを把持するための把持機構600を直線移動させるためのアーム搬送機構62と、アーム搬送機構62を収容するベースハウジング400と、ベースハウジング400に固定される固定端部412、把持機構600に連結される移動端部414、および固定端部412と移動端部414とを連結する可撓性を有する本体部416、を有し、ハウジング排気口とアーム搬送機構62との間に配置されるケーブル保護部材410と、ケーブル保護部材410の底面と当接する当接面を有し把持機構600の移動方向に沿って延伸する支持板部材432、および支持板部材432を支持しアーム搬送機構62とハウジング排気口とを連通する連通路436が形成された桁部材434、を含む、支持部材430と、を含む。 【選択図】図11
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公开(公告)号：JP2020142329A
公开(公告)日：2020-09-10
申请号：JP2019041015
申请日：2019-03-06
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , B24B53/017 , B24B41/06 , B24B37/013 , B24B49/12 , B24B37/00
Abstract: 【課題】研磨装置ごとに研磨テーブルの回転方向を変更できる基板処理装置を提供する。 【解決手段】基板処理装置は、研磨部と、搬送部とを備える。研磨部は、第1研磨ユニットおよび第2研磨ユニットと、研磨部搬送機構とを有する。第1研磨ユニットは、第1研磨装置および第2研磨装置を有する。第2研磨ユニットは、第3研磨装置および第4研磨装置を有する。第1〜第4研磨装置は、それぞれ、研磨パッドが取り付けられた研磨テーブルと、トップリングと、研磨中の研磨パッドに対して処理を行う補助ユニットと、を有する。研磨テーブルの周囲には、補助ユニットを、トップリングの揺動中心と研磨テーブルの回転中心とを結ぶ直線に対して左右切替可能に取り付けるための一対の補助ユニット取付部が、前記直線に対して左右対称の位置に設けられている。 【選択図】 図4B
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公开(公告)号：JP2019201178A
公开(公告)日：2019-11-21
申请号：JP2018096411
申请日：2018-05-18
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/677 , H01L21/304
Abstract: 【課題】洗浄部において基板を搬送するための機構を洗浄する。 【解決手段】基板研磨装置と、基板洗浄部と、を備える、基板処理装置であって、基板洗浄部は、洗浄モジュールと、洗浄部搬送機構と、を備え、洗浄部搬送機構は、ハンドと、ハンド開閉機構と、を備え、基板処理装置はさらに、ハンド洗浄部を備え、ハンド洗浄部は、ハンド洗浄槽と、洗浄液噴射機構と、を備えている、基板処理装置を開示する。 【選択図】図1
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