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    光照射装置
    3.
    发明专利
    光照射装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019159277A

    公开(公告)日：2019-09-19

    申请号：JP2018050087

    申请日：2018-03-16

    Applicant: HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社

    Inventor： 芦田 克己 ,  紫藤 和孝

    IPC: G03F7/20

    Abstract: 【課題】急峻に立ち上がる照射強度分布を有しつつも、照射エリア内において略均一な光を照射することが可能な光照射装置を提供すること。 【解決手段】照射対象物上の矩形状の照射エリアに対して光を照射する光照射装置が、基板上に第1方向に沿ってM個(Mは、2以上の整数)並び、第1方向と直交する第2方向にN個(Nは、2以上の整数)並んだM×N個の発光素子と、発光素子から出射された光を所定の広がり角の光に成形するレンズユニットと、M×N個の発光素子の光軸を矩形状に囲むように形成された第1のミラー面を有し、レンズユニットから出射される光を導光する第1の導光部材と、基板の四隅に配置された発光素子を仕切るように配置され、四隅に配置された発光素子からの光を導光する第2のミラー面と四隅に配置された発光素子に隣接する発光素子からの光を導光する第3のミラー面とが形成された第2の導光部材と、を備える。 【選択図】図1

    周辺露光装置用の光照射装置
    4.
    发明专利
    周辺露光装置用の光照射装置 有权
    用于外围暴露装置的光辐射装置

    公开(公告)号：JP2016072543A

    公开(公告)日：2016-05-09

    申请号：JP2014202704

    申请日：2014-10-01

    Applicant: HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社

    Inventor： 芦田 克己

    IPC: G03F7/20 ,  G02B19/00 ,  H01L21/027

    Abstract: 【課題】パターン倒れの発生を抑えつつも、回路パターン形成領域とウエハの端縁部との間で急峻に立ち上がる照射強度分布を有する光を照射可能な周辺露光装置用の光照射装置を提供すること。 【解決手段】光を出射する光源を備え、該光を被照射対象物の端縁部周辺に照射して該端縁部の露光を行う周辺露光装置用の光照射装置において、光源は、被照射対象物の端縁部周辺における光の強度が、被照射対象物の内側から外側に向かうにつれて低くなるように、所定の光強度分布を形成する。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于周边曝光装置的光辐射装置，其能够在抑制图案塌陷的发生的同时辐射具有在电路图案形成区域和晶片边缘之间急剧上升的辐射强度分布的光。解决方案：在 用于周边曝光装置的光辐射装置，其包括通过用光照射边缘的周边而发射光并暴露待照射物体的边缘的光源，光源以这样的方式形成预定的光强度分布，使得 待照射物体的边缘周边的光的强度从被照射物体的内部向外部变低。选择的图：图1

    周辺露光用光源装置
    7.
    实用新型
    周辺露光用光源装置 有权
    周边曝光光源装置

    公开(公告)号：JP3199419U

    公开(公告)日：2015-08-20

    申请号：JP2015002947

    申请日：2015-06-11

    Applicant: HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社

    Inventor： 芦田 克己 ,  木暮 靖男

    IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

    Abstract: 【課題】周辺露光を行ってレジスト膜の不要部分を除去する際に、当該レジスト膜のエッジ部分におけるダレ幅を減少させることができる周辺露光用光源装置を提供する。 【解決手段】被露光物1,1aの外周近傍領域を露光する周辺露光を行う際に使用される周辺露光用光源装置を、光を出射する放電ランプ11と、放電ランプからの出射光を反射する楕円集光ミラー13と、楕円集光ミラーからの反射光を被露光物へ導光するライトガイド16と、被露光物に所定角度を超える傾きを持って入射する斜め光成分の照射を規制し、斜め光成分以外の光成分を被露光物に向けて照射させる斜め光成分規制部17と、を備えて構成する。 【選択図】図2

    Abstract translation: 甲执行周边曝光在除去抗蚀剂膜的不需要的部分，以提供一种能够减少下垂宽度在抗蚀剂膜的边缘部分的周边曝光光源装置。 反映在执行边缘曝光中使用的周边曝光光源装置，和用于发射光的放电灯11中，光从所述放电灯发出用于暴露所述目的的外周区域被暴露1,1A 调节椭圆收集器反射镜13，用于引导的光导16的光由椭圆收集器反射镜的曝光对象物反射，倾斜光成分入射的具有倾斜的照明超过预定角度，以将对象暴露于 并且，构成比设置有倾斜光分量限制部17，其朝向对象发射的斜光成分以外的光学部件，以被暴露，一个。 .The

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