公开(公告)号：JP5663823B2

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：JP2008039673

申请日：2008-02-21

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 森下　聡 ,  聡 森下 ,  杏介 依田 ,  杏介 依田

IPC: G03F7/027 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP5293934B2

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：JP2008115146

申请日：2008-04-25

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 聡 森下 ,  良平 庄田 ,  杏介 依田 ,  昭寛 角

IPC: G03F7/033 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

Abstract: A radiation sensitive composition for forming a colored layer, a color filter using the composition, a colored LCD device containing the color filter, and a method for preparing an alkali-soluble resin are provided to prevent the deterioration of residual film rate or the undercut of pattern even in case of low exposure and to improve solvent resistance and the adhesion to a substrate. A radiation sensitive composition comprises a colorant; an alkali-soluble resin which comprises a polymer comprising at least one selected from an acidic functional group and an acid anhydride group, a repeating unit represented by the formula 1 and a group represented by the formula 2; a multifunctional monomer; and a photopolymerization initiator, wherein R7 is a C1-C12 alkyl group or a C6-C12 aryl group; X is an n-valent organic group; R8 is a methylene group or a C2-C6 alkylene group; n is an integer of 2-10; and * is a valence bound.

公开(公告)号：JP5109716B2

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：JP2008047132

申请日：2008-02-28

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 聡 森下 ,  仁 浜口

IPC: G03F7/031 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP5402158B2

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：JP2009082966

申请日：2009-03-30

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 聡 森下 ,  康行 古賀 ,  恭一郎 龍

IPC: C09B67/22 ,  C09B1/22 ,  C09B29/20 ,  C09B33/147 ,  C09B67/20 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

公开(公告)号：JP4983310B2

公开(公告)日：2012-07-25

申请号：JP2007048820

申请日：2007-02-28

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 杏介 依田 ,  聡 森下

IPC: G03F7/033 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation having good storage stability as a solvent-containing liquid composition, and giving pixels and a black matrix excellent in solvent resistance to various solvents and also in adhesion to a substrate. SOLUTION: The radiation-sensitive composition for colored layer formation comprises (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, wherein the alkali-soluble resin (B) comprises (B1) a copolymer of (b1) at least one selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids or acid anhydrides thereof and unsaturated phenol compounds and (b2) an unsaturated compound having an N-substituted amide skeleton. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

公开(公告)号：JP4635935B2

公开(公告)日：2011-02-23

申请号：JP2006090516

申请日：2006-03-29

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 杏介 依田 ,  聡 森下

IPC: G03F7/033 ,  G02B5/20

公开(公告)号：JP5590294B2

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：JP2010017632

申请日：2010-01-29

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 寛志 上原 ,  聡 森下

IPC: G03F7/033 ,  C08F2/44 ,  C08F257/00 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP5218750B2

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：JP2008192361

申请日：2008-07-25

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 昭寛 角 ,  聡 森下

IPC: G03F7/033 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP5109903B2

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：JP2008247454

申请日：2008-09-26

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 聡 森下 ,  杏介 依田

IPC: G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

公开(公告)号：JP4893327B2

公开(公告)日：2012-03-07

申请号：JP2007009711

申请日：2007-01-19

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 大吾 一戸 ,  智子 岩渕 ,  聡 森下 ,  勇 槙平 ,  達慶 河本 ,  傑 波多野 ,  勇 米倉 ,  雅史 荒井 ,  富雄 長塚

IPC: G03F7/038 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004