公开(公告)号：JPWO2007029871A1

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：JP2007534504

申请日：2006-09-07

Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

Inventor： 達慶 河本 ,  達慶 河本 ,  豊島　司 ,  司 豊島 ,  雅史 荒井 ,  雅史 荒井 ,  龍 松本 ,  龍 松本 ,  富雄 長塚 ,  富雄 長塚 ,  但木　稔弘 ,  稔弘 但木

IPC: G03F7/033 ,  C08F2/38 ,  C08F220/04 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F2/46 ,  C08F2/38 ,  G02F1/133514 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033

Abstract: (A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体および(D)感放射線性ラジカル発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物であって、(B)アルカリ可溶性樹脂が、その重合体鎖の少なくとも一方の末端にジチオカルボニル結合を含む基を有する樹脂である感放射線性樹脂組成物。この組成物から焼き付きを生じないカラーフィルタを高歩留りで製造できる。

公开(公告)号：JP3632532B2

公开(公告)日：2005-03-23

申请号：JP33024099

申请日：1999-11-19

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 達慶 河本 ,  毅 渡邉 ,  英行 神井 ,  富雄 長塚

IPC: G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G03F7/028

公开(公告)号：JP5176468B2

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：JP2007262134

申请日：2007-10-05

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 英行 神井 ,  勇 槙平 ,  健三 大喜多 ,  富雄 長塚

IPC: G03F7/027 ,  C08F2/44 ,  C08F291/00 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

Abstract: The invention provides a color filter, which can not produce residue or floating pollution with a high product yield even if the pigment concentration is high, and can form a radiation susceptibility resin composition for forming dyed layer of patterns with sufficient surface smoothing performance. The present invention relates to a radiation susceptibility resin composition for forming dyed layer and a color filter formed by the composition. The radiation susceptibility resin composition for forming dyed layer contains: (A) at least one kinds of pigments selected from red pigmentgreen pigment and blue pigment, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, (D) a polyfunctional monomer showed by a formula (1) and (E) a photopolymerization initiator, which is characterized in that the content of (A) pigment is 30 - 60 weight percent of the solid components (wherein, R1represents hydrogen atom or methyl, R2 represents a group selected from methylene, a straight-chain or branched chain alkylidene with carbon atoms from 2 to 8, straight-chain or branched chain alkenylene, phenylene that may have substituent, cyclohexylidene that may have substituent, and a group, wherein, one part of the cyclohexylidene that may have substituent is unsaturated bond.).

公开(公告)号：JP4900555B2

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：JP2005122830

申请日：2005-04-20

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 真吾 成瀬 ,  達哉 服部 ,  真悟 田中 ,  富雄 長塚

IPC: C09B67/46 ,  C09B67/20 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02F1/1335

公开(公告)号：JP4556479B2

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：JP2004131986

申请日：2004-04-27

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 聡子 安孫子 ,  富雄 長塚 ,  慈 阿部

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/029 ,  C08F2/50 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031

公开(公告)号：JP5024107B2

公开(公告)日：2012-09-12

申请号：JP2008039508

申请日：2008-02-21

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 浩司 三谷 ,  浩二 平野 ,  真吾 成瀬 ,  優嗣 新美 ,  勇 槙平 ,  雅史 荒井 ,  富雄 長塚 ,  朋宏 高見

IPC: G03F7/033 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP5013102B2

公开(公告)日：2012-08-29

申请号：JP2007534504

申请日：2006-09-07

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 稔弘 但木 ,  龍 松本 ,  達慶 河本 ,  雅史 荒井 ,  司 豊島 ,  富雄 長塚

IPC: G03F7/033 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F2/46 ,  C08F2/38 ,  G02F1/133514 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/033

公开(公告)号：JP4935980B2

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：JP2006232037

申请日：2006-08-29

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 真吾 成瀬 ,  達哉 服部 ,  真悟 田中 ,  富雄 長塚

IPC: G02B5/20 ,  G02F1/1335

公开(公告)号：JP4893327B2

公开(公告)日：2012-03-07

申请号：JP2007009711

申请日：2007-01-19

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 大吾 一戸 ,  智子 岩渕 ,  聡 森下 ,  勇 槙平 ,  達慶 河本 ,  傑 波多野 ,  勇 米倉 ,  雅史 荒井 ,  富雄 長塚

IPC: G03F7/038 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP3985376B2

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：JP1034199

申请日：1999-01-19

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 幸一 櫻井 ,  毅 渡邉 ,  富雄 長塚

IPC: G03F7/027 ,  G02B5/20 ,  G03F7/028