公开(公告)号：JPWO2020066633A1

公开(公告)日：2021-09-16

申请号：JP2019035753

申请日：2019-09-11

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 木村 優 ,  石川 弘樹 ,  松本 朋之 ,  佐藤 慶一

IPC: G03F7/031 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

Abstract: 本発明は、重合性化合物(A)、光ラジカル重合開始剤(B)、チオール化合物(C)、および重合禁止剤(D)を含有し、前記チオール化合物(C)の含有量が、前記重合性化合物(A)100質量部に対して5〜50質量部、前記重合禁止剤(D)の含有量が、前記重合性化合物(A)100質量部に対して1〜10質量部であることを特徴とする感光性樹脂組成物である。本発明は、ブライトフィールドとダークフィールドとの両方において露光量余裕度(EL)が広い感光性樹脂組成物を提供することができる。前記感光性樹脂組成物を用いて、ブライトフィールドとダークフィールドとの両方において精度良く、微細なレジストパターンを形成することができる、レジストパターンの形成方法を提供することができる。前記レジストパターンの形成方法により形成したレジストパターンを用いて、精度の良い、微細なメッキ造形物を製造することができる、メッキ造形物の製造方法を提供することができる。

公开(公告)号：JP2019062001A

公开(公告)日：2019-04-18

申请号：JP2017183389

申请日：2017-09-25

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 石川 弘樹

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

Abstract: 【課題】光照射分離法により支持体と対象物とを分離する方法において、対象物の光劣化を防止でき、また分離を良好に行える方法を提供する。 【解決手段】支持体と仮固定材と処理対象物とを有する積層体を形成する工程、ここで仮固定材は、式(A1)に示す部分構造を有する重合体を含有する組成物から形成された層を有しており、対象物は仮固定材上に保持されており、対象物を加工し、および/または積層体を移動する工程、支持体側から、層に光を照射する工程;支持体と対象物とを分離する工程を有する。 Ar 1 は芳香族環を有する2価の基であり、NはAr 1 中の芳香族環に結合し、Ar 2 は、O、NおよびR 1 ,R 2 が結合する炭素原子とともにジヒドロ−1,3−ベンゾオキサジン構造を構成する芳香族環を有する3価の基であり、R 1 ,R 2 は水素原子等である。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2019127579A

公开(公告)日：2019-08-01

申请号：JP2018200794

申请日：2018-10-25

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 石井 寛之 ,  加藤 仁史 ,  石川 弘樹 ,  水野 光

IPC: H01L21/02 ,  C09J109/00 ,  B32B7/06 ,  B32B27/28 ,  C08L53/02 ,  C08L25/10 ,  C09J153/02

Abstract: 【課題】処理対象物の熱劣化が起こらない温度で粘着性を有し、かつ高温環境下であっても溶融粘度が大きくは低下しない仮固定材を用いた処理対象物の処理方法を提供する。 【解決手段】支持体と仮固定材と処理対象物とを有する積層体を形成する工程、処理対象物を加工し、および/または積層体を移動する工程、処理対象物を支持体から分離する工程を有し、仮固定材が、重合性二重結合を含む芳香族化合物由来の構造単位(a1)と共役ジエン由来の構造単位(a2)を有する水添ブロック共重合体(A)と、重合性二重結合を含む芳香族化合物由来の構造単位(b1)と共役ジエン由来の構造単位(b2)を有する非水添ランダム共重合体(B)とを含有する組成物から形成された層(I)を有し、前記(A)中の前記(a1)の含有割合が20質量%以上であり、処理対象物が仮固定材上に保持されている、処理対象物の処理方法。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6926891B2

公开(公告)日：2021-08-25

申请号：JP2017183389

申请日：2017-09-25

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 石川 弘樹

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02